
Pelapis Sputter / Sistem Pelapisan Vakum
Torontech menawarkan beragam sistem pelapis sputter meja dan pelapis vakum. Sistem Sputter Coater dan Vacuum Coating ini mencakup mulai dari pelapis sputter vakum rendah hingga tinggi seperti DSR1 dan DST1, yang biasanya digunakan untuk preparasi sampel dalam pencitraan mikroskop elektron, hingga pelapis sputter vakum tinggi dan sistem evaporator termal seperti DST2-TG atau DST3-T. Sistem ini hadir dengan berbagai fitur opsional, termasuk pembersih plasma, yang terutama ditujukan untuk pengendapan film tipis untuk tujuan penelitian.
Tim teknik kami merancang dan memproduksi komponen Sputter Coater dan Vacuum Coating System yang mematuhi standar kualitas tinggi. Banyak universitas dan pusat penelitian bergengsi termasuk di antara pelanggan kami yang berharga, yang semuanya telah menyatakan kepuasannya dengan rangkaian sistem pelapis sputter dan pelapis vakum yang canggih ini.

Pelapis Sputter / Sistem Pelapisan Vakum | Produk yang Tersedia
Pelapis Putar
Sistem Penyemprotan Magnetron
Pelapis Sputter Meja- DSR1
Sistem Deposisi Laser Berdenyut PLD
Meja Sputter & Pelapis Karbon – DSCR-300
Pelapis Karbon Berpompa Turbo dan Evaporator Termal – DCT-T-300
Sistem Etching Ion Reaktif (RIE) Tingkat Lanjut
Pelapis Karbon Meja - DCR
Pelapis Karbon Berpompa Turbo Meja Besar – DCT-300
Sistem Deposisi PVD Hibrida
Sistem Penguapan Termal
Vakum Tinggi, Meja Sputter Meja Target Magnetron Tunggal DST1-170
Sistem Pelapisan Dilengkapi Load-Lock
Ruang Uji Vakum Termal
Vakum Tinggi, Meja Sputter Meja Target Magnetron Tunggal DST1-300
Tungku Anil Vakum
Pelapis Karbon Meja Berpompa Turbo- DCT
Sistem Penguapan Termal Bell-Jar
Meja Sputter & Pelapis Karbon - DSCR
Sistem Penguapan Termal & Sputtering Bell-Jar
Sistem Penguapan Berkas Elektron
Sputter Meja Vakum Tinggi & Pelapis Karbon - DSCT
Sistem PVD Terintegrasi Kotak Sarung Tangan
Pelapis Sputter Vakum Tinggi dan Evaporator Karbon/Termal – DSCT-T
Sistem HiPIMS
Evaporator Termal Vakum Tinggi- DTE
Sistem Sputtering Magnetron Load-Lock
Evaporator Termal Meja-DTT
Sistem Deposisi Load-Lock Sputter-Up
Vakum Tinggi, Triple Magnetron Target Desk Sputter Coater-DST3-A/S
Sistem Sputtering Magnetron - ToronSputter™ Mag
Vakum Tinggi, Pelapis Sputter Meja Target Tiga Magnetron dengan Evaporator Termal-DST3-TA/S
Sistem Sputtering Magnetron RF/DC
Pelapis Sputter Target Vakum Tinggi, Magnetron Ganda/ ThermalEvaporator-DST2-TG
Tungku Tabung PECVD
Sistem Etching Ion Reaktif (RIE)
Artikel terkait
Pelapisan Putar vs. Sputtering: Memilih Metode Terbaik
Di Torontech, kami tahu bahwa menghasilkan lapisan film yang sangat halus dan seragam akan memberikan keuntungan besar bagi perangkat keras berteknologi tinggi Anda. Memilih antara pelapisan putar (spin coating) dan pelapisan semprot (sputter coating) hanyalah tentang menemukan peralatan yang tepat yang sesuai dengan material Anda tanpa menguras rekening bank Anda. Jika Anda sedang mempertimbangkan antara spin coater dan sputter coater, berikut adalah pendapat jujur kami tentang mengapa keduanya adalah pemenang mutlak dalam pengaturan yang tepat. Poin Penting: Kecocokan Material: Spin coater adalah mesin andalan Anda untuk polimer dan resin cair, sementara sputter coater menjadi andalan untuk logam padat, paduan, dan lain-lain…
Panduan Praktis untuk Deposisi Laser Berdenyut
Mengapa beberapa laboratorium berhasil menghasilkan lapisan tipis yang sempurna sementara yang lain puas dengan hasil yang tidak merata? Dalam bisnis pembuatan material baru yang berisiko tinggi, mendapatkan lapisan tipis yang menempel adalah kunci keberhasilan. Kami menyebutnya: teknik deposisi laser berdenyut ini adalah juara kelas berat untuk memindahkan resep rumit dari cakram ke piring tanpa hambatan. Berikut adalah penjelasan langsung tentang cara mendapatkan lapisan sempurna dan berkualitas tinggi dalam panduan praktis deposisi laser berdenyut ini. Poin Penting: Sang Juara Resep: Kami menganggap metode deposisi laser berdenyut sebagai teknik terbaik untuk menyalin…
Perbandingan Pelapis Sputter Vakum Tinggi vs Vakum Rendah
Memilih peralatan yang tepat untuk melapisi sampel Anda adalah keputusan penting bagi setiap fasilitas penelitian. Saat Anda menyiapkan laboratorium untuk analisis presisi tinggi, setiap detail teknis sangat penting. Salah satu pertimbangan utama yang kami lihat tim pertimbangkan adalah pilihan antara pelapis sputtering vakum tinggi vs vakum rendah. Kami akan menguraikan pro dan kontra dari kedua jalur tersebut sehingga Anda dapat memilih peralatan yang tepat untuk tujuan penelitian jangka panjang Anda. Poin Penting: Lingkungan vakum dalam menghasilkan hasil akhir yang bersih sempurna dan sangat halus untuk pencitraan tingkat lanjut, sementara pengaturan vakum standar memberikan hasil yang cepat…