Meja Sputter & Pelapis Karbon – DSCR-300
Desk Sputter dan Desk Sputter & Carbon Coater dengan bilik besar – DSCR-300, dilengkapi dengan katoda magnetron berpendingin air berukuran 3 atau 4 inci, berfungsi sebagai sistem pelapisan kompak yang menawarkan kemampuan sputtering dan pelapisan karbon.
Sistem ini sangat cocok untuk melapisi spesimen yang lebih besar, dengan diameter hingga 12 cm menggunakan magnetron 3 inci atau 15 cm dengan magnetron 4 inci. Selain itu, sistem ini dapat menangani beberapa spesimen yang lebih kecil dengan diameter yang sama. Magnetron berpendingin air dirancang untuk memperpanjang waktu sputtering, sehingga ideal untuk melapisi lapisan tebal maupun tipis sesuai kebutuhan untuk berbagai aplikasi.
Aplikasi Sputter & Pelapis Karbon
- Deposisi struktural butiran halus dari logam Mulia cocok untuk preparasi sampel SEM & FE-SEM
- Pembuatan lapisan konduktif
- Mudah dioperasikan
- Perangkat lunak yang mudah digunakan dengan dukungan untuk kontrol otomatis penuh dan semi-otomatis
- Antarmuka layar sentuh yang intuitif untuk kontrol proses pelapisan yang mulus dan input data yang cepat
- Pemuatan dan pembongkaran spesimen yang nyaman
- Memastikan deposisi ketebalan film berulang
- Menghasilkan pelapisan yang presisi dan dapat direproduksi
- Mampu menghasilkan lapisan halus beresolusi tinggi (dengan urutan ukuran butiran 2nm untuk Emas)
- Penyemprotan tegangan rendah
- SENANG (Deposisi Sudut Melirik) Sputtering
- Pembersihan Plasma
- Tidak diperlukan sistem pendingin untuk lapisan tipis
- Menawarkan lapisan karbon dalam mode flash dan pulse
- Memanfaatkan serat karbon ganda untuk pengendapan lapisan yang lebih tebal
- Didukung oleh garansi dua tahun untuk ketenangan pikiran
- Kesesuaian CE, memastikan kepatuhan terhadap standar keselamatan
- Cakupan asuransi tanggung jawab publik dan produk di seluruh dunia, memberikan perlindungan jika terjadi kerusakan properti atau cedera pribadi yang disebabkan oleh sistem Vac Coat.
Tahapan Sampel
Desk Sputter dan Carbon Coater yang besar menawarkan fleksibilitas dalam konfigurasi tahap sampel, mengakomodasi ukuran hingga 15 cm, tergantung pada kebutuhan spesifik pengguna. Tahapan sampel ini dirancang dengan fungsionalitas yang dapat diputar, pengaturan ketinggian yang dapat disesuaikan, dan kemudahan pertukaran untuk menambah kenyamanan.
Persiapan Sampel SEM
Dalam aplikasi SEM (Scanning Electron Microscope), seringkali perlu menyiapkan spesimen non-konduktif atau konduktif buruk sebelum melakukan mikroskop SEM. Metode standar untuk persiapan sampel ini melibatkan Deposisi Sputtering dan Penguapan Karbon. Sistem kami menawarkan opsi otomatisasi penuh, memastikan bahkan pemula pun dapat mengoperasikannya dengan mudah. Selain itu, perangkat lunak kami yang mudah digunakan menyediakan representasi grafis dari informasi pengendapan, sehingga dapat diakses dan hemat biaya.
Kepala Pelapis Karbon
Perangkat ini dilengkapi dengan kepala yang dapat diganti yang dirancang untuk tujuan pelapisan karbon. Kemampuan uniknya memuat tiga serat karbon, masing-masing berdiameter 0.8 mm, memungkinkan pengendapan lapisan karbon pada sampel besar, khususnya cocok untuk aplikasi yang melibatkan Spektroskopi Sinar-X Dispersif Energi (EDX).
Kontrol Layar Sentuh dengan Tampilan Berwarna-warni
DSCR-300 dilengkapi dengan layar sentuh berwarna berukuran 7 inci yang menawarkan kontrol otomatis lengkap dan kemampuan input data, sehingga dapat diakses bahkan oleh pengguna yang belum berpengalaman. Pada layar sentuh, pengguna dapat dengan mudah memantau tingkat vakum, pembacaan terkini, dan informasi pengendapan, yang dapat ditampilkan sebagai data digital atau dalam format kurva grafis. Selain itu, sistem ini memiliki kapasitas untuk menyimpan data terkait 300 pelapisan terakhir, yang dapat diakses dengan mudah melalui halaman riwayat sebagai referensi.
Desk Sputter Coater model DSCR-300 menawarkan kemampuan deposisi serbaguna pada berbagai substrat, membuatnya cocok untuk aplikasi film tipis di bidang seperti mikro dan nanoelektronika, serta persiapan sampel SEM.
Sistem ini mampu menyemprotkan logam mulia, termasuk emas (Au), paladium (Pd), platinum (Pt), dan emas/paladium (Au/Pd), ke spesimen non-konduktif atau dengan konduktivitas rendah. Selain itu, sistem DSCR-300 juga mampu mengaplikasikan lapisan karbon.
Harap dicatat bahwa untuk sputtering logam pengoksidasi, diperlukan pemasangan pompa turbomolekuler dan dapat ditambahkan ke sistem DSCT-300 atau DSCT-170. DSCR adalah pelapis berpompa putar yang dapat dikonfigurasi untuk sputtering DC dan pelapis serat karbon (benang) dengan kepala yang dapat diganti, semuanya terintegrasi ke dalam satu instrumen.
- Ukuran Ruang: OD 300 mm x ruang silinder Pyrex 150 mm
- Dimensi: 58 cm H x 50 cm W x 63 cm D
- Pilihan Katoda Magnetron: 3 atau 4 inci
- Berat Pengiriman: 42 kg
- Catu Daya: 220V-240V, 50/60Hz, 10A
- Output Catu Daya DC: 200 Watt
- Vakum Tertinggi: Kurang dari 5*10^-2 Torr
- Transfer Data: Data proses kurva dan sputtering dapat ditransfer melalui port USB ke PC
- Pompa Vakum: Dua tahap, penggerak langsung, 12 m^3/jam, pompa baling-baling putar
- Pengukur Vakum: Pengukur vakum termokopel
- Monitor Ketebalan Kristal Kuarsa: Presisi 1 nm
- Katup Ventilasi Otomatis
- Penyimpanan Data: Kemampuan untuk menyimpan data dari 300 pelapisan terakhir
- Berat Pompa Vakum: 20 kg
Pilihan dan Aksesori
- Sensor kristal kuarsa
- Ruang kaca cadangan
- Sputtering target
- Penyegelan gasket
- Kepala penguapan batang karbon
- Catu daya arus tinggi untuk batang karbon
- Serat karbon