Vakum Tinggi, Triple Magnetron Target Desk Sputter Coater-DST3-A/S
High Vacuum, Triple Magnetron Target Desk Sputter Coater-DST3-A/S adalah sistem pelapis vakum multi-target serbaguna, dilengkapi pemompaan molekul turbo, cocok untuk menyimpan berbagai macam material. Ia hadir dengan ruang luas dengan diameter 300 mm dan dilengkapi dengan tiga katoda berpendingin air berdiameter 2 inci, memungkinkan periode deposisi yang lebih lama.
Triple Magnetron Target Desk Sputter Coater ini dilengkapi dengan catu daya RF dan DC, memungkinkannya secara efektif menyemprotkan semikonduktor, dielektrik, dan berbagai target logam, termasuk logam pengoksidasi dan logam mulia. Untuk mengoptimalkan proses sputtering RF, sistem ini menyertakan kotak pencocokan yang dapat disesuaikan secara otomatis, yang meminimalkan daya yang dipantulkan.
Untuk meningkatkan daya rekat film ke media dan memperbaiki struktur film, terdapat juga fitur opsional yang memungkinkan penerapan tegangan bias 300 V DC ke media.
Tergantung pada kondisi katoda, DST3 ditawarkan dalam dua model berbeda.
- Film logam, semikonduktor, dan dielektrik
- Aplikasi nano dan mikroelektronik
- Pengembangan sel surya
- Proses sputtering bersama
- Teknik sputtering SENANG
- Pelapisan komponen optik
- Pembuatan sensor film tipis
- Produksi perangkat film tipis magnetik
- Deposisi struktural butiran halus untuk persiapan sampel SEM dan FE-SEM
Hardware:
- Tingkat vakum tinggi dengan pompa turbo internal
- Dilengkapi dengan DC dan catu daya RF opsional yang cocok untuk logam, semikonduktor, dan dielektrik
- Tiga katoda magnetron bersudut berpendingin air berukuran 2 inci yang cocok untuk memproduksi film paduan (DST3-A) dan deposisi multilapis
- Tahap pemegang sampel besar (8 inci) untuk model DST3-S
- Masker katoda dirancang untuk deposisi seragam pada substrat besar (DST3-S)
- Dua sistem pemantauan kristal kuarsa tetap dan bergerak untuk pengukuran ketebalan waktu nyata (presisi 1 nm)
- Kontrol injeksi gas melalui dua Mass Flow Controller (MFC)
- Katup gas elektronik
- Pompa pendukung baling-baling putar dua tahap (Diafragma dan pompa gulir)
- Pengukur vakum jangkauan penuh
- Motor pemilihan katoda
- Rotasi sampel, ketinggian, dan kemiringan dapat disesuaikan (untuk pemegang sampel 3 inci)
- Dilengkapi dengan 3 penutup jendela manual atau opsional
- Pemanas media yang dapat diprogram (opsional)
- Waktu deposisi tidak terbatas tanpa merusak ruang hampa
- Dua-tahun garansi
Otomasi:
- Layar sentuh intuitif untuk memudahkan kontrol proses pelapisan dan input data cepat
- Perangkat lunak ramah pengguna yang dapat diperbarui melalui koneksi jaringan
- Proses pelapisan semi-otomatis opsional
- Proses sputtering yang dapat diulang dan diprogram dalam mode otomatis
- Parameter opsional yang dapat disesuaikan untuk DC, RF, dan deposisi arus tinggi melalui panel layar sentuh
- Deposisi waktu dan ketebalan secara manual atau otomatis
- Kemampuan untuk menyimpan resep pelapisan untuk deposisi berulang
- Pemilihan target untuk film tipis multilayer
- Penutup elektronik untuk kontrol yang presisi
- Pemilihan katoda otomatis
- Pemrograman dan kontrol pemanas substrat melalui perangkat lunak
Fasilitas Opsional:
Pelapis vakum DST3 dilengkapi ruang vakum Pyrex berbentuk silinder dengan diameter luar 300 mm dan tinggi 200 mm. Dilengkapi dengan pompa molekuler turbo 90 L/s yang dipasang secara internal, yang didukung oleh pompa baling-baling putar dua tahap 6m3/jam untuk pengoperasian vakum yang efisien.
Bersihkan Vakum
- RF sputtering untuk pengendapan target konduktif dan non-konduktif
- Pembersih plasma untuk meningkatkan kemampuan pembersihan
- Tegangan bias media 300 V DC
- Pemanas substrat 500 °C untuk kontrol suhu yang presisi selama proses pelapisan.
Layar Sentuh Kontrol
DST3 dilengkapi dengan panel layar sentuh berwarna 7”, yang menampilkan perangkat lunak yang mudah digunakan untuk kontrol dan penyesuaian data proses pengendapan yang mulus. Anda dapat dengan mudah memantau informasi urutan vakum dan pelapisan, yang ditampilkan sebagai data digital atau kurva pada layar sentuh. Selain itu, sistem menyimpan informasi tentang 300 pelapisan terakhir di halaman riwayat untuk kenyamanan Anda.
Tahapan Pemegang Sampel
Tempat sampel tersedia dalam dua ukuran standar: 3 inci, yang tersedia pada model DST3-A dan DST3-S, dan 8 inci, eksklusif untuk DST3-S. Namun, pengguna memiliki fleksibilitas untuk meminta ukuran khusus yang disesuaikan dengan kebutuhan spesifik mereka. Tempat sampel yang lebih kecil dilengkapi dengan beberapa klem yang dirancang untuk menahan sampel kecil dengan aman selama rotasi, sehingga menawarkan solusi yang mudah dan efektif.
Pembersih Plasma
DST3 secara opsional dapat dilengkapi dengan pembersih plasma. Perawatan atau pembersihan plasma melibatkan penghilangan zat organik dari permukaan substrat atau memodifikasinya menggunakan gas terionisasi, yang dikenal sebagai plasma. Proses ini dapat mengubah sifat permukaan substrat, meningkatkan hidrofilisitas atau hidrofobisitasnya untuk memfasilitasi pengendapan berikutnya secara efektif. Selain itu, mengaplikasikan plasma ke substrat sebelum menyimpan lapisan tipis membantu menghilangkan kontaminan permukaan, seperti residu berbasis karbon dan oksida, sekaligus meningkatkan daya rekat antara substrat dan lapisan berikutnya.
DST3-A (Katoda Sudut):
DST3-A memiliki tiga katoda bersudut yang berbagi titik fokus yang sama. Konfigurasi ini memungkinkan sputtering simultan dari dua atau tiga target (opsional), memungkinkan pembentukan paduan atau deposisi multilapis. Pada model ini, ukuran media maksimum adalah 3 inci.
DST3-S (Katoda Lurus):
Model DST3-S dilengkapi dengan tiga katoda lurus berpendingin air berukuran 2 inci dan dirancang untuk menyemprotkan satu spesimen besar dengan diameter hingga 20 cm atau beberapa spesimen yang lebih kecil.
- Vakum Tertinggi: Kurang dari 8x10-6 Torr
| Judul Tabel | ||
|---|---|---|
Kecepatan Pemompaan (l/dtk) | 90 | 350 |
Tekanan Tertinggi (Torr) | 8x10-6 | 3x10-6 |
- Setiap katoda dapat secara mandiri mengontrol laju sputtering untuk menghasilkan struktur butiran halus.
- Ketebalan maksimum untuk setiap target, termasuk pelat pendukung, adalah 6 mm.
- Kekuatan deposisi dikontrol secara otomatis berapa pun tekanannya.
- Suhu katoda diatur secara otomatis untuk memperpanjang umur magnet.
- Data direkam dengan cepat menggunakan kontrol layar sentuh yang sepenuhnya otomatis.
- Dua pengukur Aliran Massa (MFC) yang presisi memungkinkan kontrol tekanan vakum dan aliran argon atau gas sputtering reaktif lainnya secara presisi.
- Katup throttle elektronik disertakan untuk pompa turbo 350 l/dtk.
- Parameter pelapisan dicatat dan diplot.
- Kurva dan data hasil proses pengendapan dapat ditransfer melalui port USB ke PC.
- Tegangan bias DC 300V opsional dapat ditambahkan.
- Ada opsi untuk pembersih plasma.
- Sistem ini mencakup catu daya DC 0-1200 V, 0-500 mA.
- Tersedia catu daya RF 300 W opsional dengan kotak pencocokan otomatis.
- Utilitas: 220/110V, 50/60HZ, dengan rating arus 16/25A.
- Dimensi Instrumen: Lebar 600 × Kedalaman 800 × Tinggi 770 mm (tidak termasuk rak).
- Berat Bersih: 160 kg, termasuk pompa, rak, dan kotak instrumen.
Pilihan dan Aksesori
- Sensor kristal kuarsa
- Ruang kaca cadangan
- Sputtering target
- Penyegelan gasket
- Tegangan bias 300V DC
- Pembersih plasma
- Pemanas substrat 500°C
