
溅射镀膜机/真空镀膜系统
Torontech 提供种类齐全的台式溅射镀膜机和真空镀膜系统。这些系统涵盖了从低真空到高真空的溅射镀膜机,例如常用于电子显微镜成像样品制备的 DSR1 和 DST1,以及高真空溅射镀膜机和热蒸发系统,例如 DST2-TG 或 DST3-T。这些系统配备多种可选功能,包括主要用于科研薄膜沉积的等离子清洗机。
我们的工程团队设计和制造的溅射镀膜机和真空镀膜系统组件均符合高标准质量要求。众多知名大学和研究中心都是我们尊贵的客户,他们都对我们先进的溅射镀膜机和真空镀膜系统系列产品表示满意。

溅射镀膜机/真空镀膜系统 | 现有产品
显示1 - 36的36
旋涂机
旋涂仪薄膜涂层解决方案旋涂仪是材料科学、半导体研究等领域应用最广泛的仪器之一……
磁控溅射系统
ToronSP-400磁控溅射系统是一种箱式物理气相沉积(PVD)系统,采用棱柱形或圆柱形真空腔设计。
台式溅射镀膜机-DSR1
桌面溅射镀膜机DSR1是一款紧凑型镀膜系统,能够镀覆金(Au)、钯(Pd)、铂(Pt)等贵金属薄膜。
PLD脉冲激光沉积系统
可调节脉冲激光沉积系统和热蒸发系统——PLD-T 是一款先进的高真空薄膜沉积系统,它……
台式溅射碳涂层机 – DSCR-300
大型腔室台式溅射仪和台式溅射碳涂层仪(DSCR-300)配备3英寸或4英寸水冷磁控管阴极,用作……
高真空三磁控管靶台式溅射镀膜机,带热蒸发器-DST3-TA/S
高真空三靶磁控管台式溅射镀膜机(带热蒸发器)-DST3-TA/S,三靶涡轮泵溅射镀膜机,是一款……
射频/直流磁控溅射系统
射频/直流磁控溅射系统 - ToronSputter™ RFDC ToronSputter™ RFDC 是一款用于多靶薄膜的射频/直流磁控溅射系统……
高真空双磁控管靶溅射镀膜机/热蒸发器-DST2-TG
高真空双磁控管靶溅射镀膜机/热蒸发器-DST2-TG,或双靶涡轮泵溅射镀膜机和热蒸发器……
PECVD管式炉
PECVD管式炉 - ToronTF™ PECVD等离子体增强化学气相沉积(PECVD)管式炉系统ToronTF™ PECVD是一种PECVD管式炉……
反应离子刻蚀(RIE)系统
反应离子刻蚀 (RIE) 系统 - ToronRIE™ 300 反应离子刻蚀 (RIE) 系统是一种用于半导体的平行板等离子干法刻蚀平台……
涡轮泵碳涂层机和热蒸发器 – DCT-T-300
DCT-T-300 型涡轮泵碳涂层机和热蒸发机配备大容量腔室,非常适合制备用于场发射扫描电镜 (FE-SEM) 的样品……
先进反应离子刻蚀(RIE)系统
先进反应离子刻蚀 (RIE) 系统 - ToronRIE™ 400 ToronRIE™ 400 是一款先进的反应离子刻蚀系统,支持 3 英寸和 4 英寸晶圆……
桌面碳涂层机 - DCR
桌面碳纤维涂层机 (DCR) 是一款紧凑型碳纤维涂层系统,专为扫描电子显微镜 (SEM) 样品制备而设计……
大型台式涡轮泵碳涂层机 – DCT-300
大型台式涡轮泵碳涂层机 – DCT-300 系统拥有宽敞的腔室,非常适合制备用于 FE-SEM、EDS/WDS、TEM、EBSD 等分析的样品。
混合式PVD沉积系统
混合式PVD沉积系统 - ToronPVD™ DS热蒸发与磁控溅射组合系统ToronPVD™ DS是一种混合式PVD沉积系统……
热蒸发系统
热蒸发系统 - ToronTES™ 1000 ToronTES™ 1000 是一款全自动热蒸发系统,采用 2×2 通道共蒸发设计……
高真空单磁控管靶台式溅射镀膜机 DST1-170
DST1-170 高真空单磁控管靶台式溅射镀膜机配置为台式溅射镀膜机,专为扫描应用而设计……
配备装载锁定装置的涂层系统
配备 Load-Lock 装载室的 ToronTS-450 涂层系统可提供更快的处理速度和更优异的涂层质量。样品装载和…
热真空试验箱
ToronTVT™ 600 热真空试验箱是一款多功能热真空试验箱,集热真空调节与……于一体。
高真空单磁控管靶台式溅射镀膜机 DST1-300
DST1-300型高真空单磁控管靶台式溅射镀膜机是一款多功能镀膜系统,能够对半导体进行镀膜……
真空退火炉
真空退火炉 - ToronVF™ 退火炉 ToronVF™ 退火炉是一款高真空退火炉,适用于热退火、烘烤、淬火和加热等工艺。
涡轮泵桌面碳涂层机-DCT
涡轮泵式桌面碳涂层机(DCT)是一款专为多种应用而设计的涡轮泵式碳涂层机,包括场发射扫描电镜(FE-SEM)、能谱/波谱分析(EDS/WDS)、透射电镜(TEM)、电子背散射衍射(EBSD)等。
钟罩式热蒸发系统
ToronEva™ 钟罩式热蒸发系统 - ToronEva™ 钟罩式热蒸发系统是一款全自动的薄膜热蒸发系统……
台式溅射碳涂层机 - DSCR
桌面溅射碳涂层机 (DSCR) 是一款紧凑型涂层系统,集溅射和碳涂层功能于一体。这款多功能设备……
钟罩式热蒸发和溅射系统
ToronEva™ BJT 是一款全自动的钟罩式热蒸发和溅射系统……
电子束蒸发系统
电子束蒸发系统 - ToronEva™ EB ToronEva™ EB 是一种用于金属薄膜沉积的高真空电子束蒸发系统,……
高真空台式溅射及碳镀膜机 - DSCT
高真空台式溅射碳镀膜仪(DSCT)是一款集溅射镀膜和碳纤维镀膜于一体的多功能仪器……
手套箱集成式PVD系统
ToronPVD™ GV 是一款集成于手套箱内的 PVD 系统,适用于有机和无机薄膜沉积,并经过改进……
高真空溅射镀膜机和碳/热蒸发器 – DSCT-T
高真空溅射镀膜仪和碳/热蒸发仪——DSCT-T 是一款专为扫描电子显微镜 (SEM) 设计的多功能仪器……
HiPIMS系统
HiPIMS系统 - ToronHiPIMS™ 1000高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)系统HiPIMS系统是一款全自动高功率脉冲磁控溅射系统……
高真空热蒸发器-DTE
高真空热蒸发器(DTE),或称台式热蒸发器,是一种结构紧凑、经济高效的系统,设计用于沉积薄层材料……
装载锁定磁控溅射系统
ToronSputter™ SD 磁控溅射系统 - 装载锁定式磁控溅射系统 – 溅射下降 ToronSputter™ SD 是一款装载锁定式磁控溅射系统……
桌面式热蒸发器-DTT
Desk Thermal Evaporator-DTT 是一款紧凑型桌面式热蒸发器,专为真空沉积薄膜而设计。该系统提供三重…
装载锁定溅射上沉积系统
装载锁定式溅射沉积系统 - ToronSputter™ SU装载锁定式磁控溅射系统 – 溅射式装载锁定式溅射沉积系统…
高真空三磁控管靶台式溅射镀膜机-DST3-A/S
高真空三靶磁控溅射镀膜机DST3-A/S是一款多功能多靶真空镀膜系统,具有涡轮分子溅射功能……
磁控溅射系统 - ToronSputter™ Mag
磁控溅射系统 - ToronSputter™ Mag ToronSputter™ Mag 是一款全自动磁控溅射系统,适用于薄膜的研发和生产……
相关文章
显示1 - 4的4
旋涂法与溅射法:选择最佳方法
在 Torontech,我们深知,打造完美光滑均匀的薄膜层能为您的尖端硬件带来巨大的优势。选择旋涂还是溅射镀膜,关键在于找到最适合您材料且价格合理的设备。如果您正在考虑旋涂机和溅射镀膜机,以下是我们直截了当地阐述为何在合适的配置下,两者都是最佳选择。要点总结:材料匹配:旋涂机是液态聚合物和树脂的理想之选,而溅射镀膜机则是固态金属、合金等材料的最佳选择……
脉冲激光沉积实用指南
为什么有些实验室能制备出完美的薄膜,而另一些实验室却只能得到参差不齐的结果?在竞争激烈的新材料制造领域,如何让这些薄层牢固附着至关重要。我们敢断言:脉冲激光沉积技术是将复杂的配方从圆盘状顺利转移到薄膜上的王牌技术。本实用指南将直击要点,教您如何获得完美无瑕的顶级薄膜。主要内容:配方王牌:我们认为脉冲激光沉积法是复制配方的最佳技术……
高真空与低真空溅射镀膜机的比较
对于任何研究机构而言,选择合适的样品镀膜设备都是至关重要的决策。在搭建高精度分析实验室时,每一个技术细节都至关重要。我们发现,各团队需要权衡的主要因素之一是高真空溅射镀膜机与低真空溅射镀膜机的选择。我们将详细分析这两种方案的优缺点,以便您能够根据自身的长期研究目标选择合适的设备。要点:深真空环境可提供完美洁净且极其光滑的表面,适用于高级成像;而标准真空装置则可提供快速的镀膜……