PLD-T 是一款先进的高真空薄膜沉积系统，它采用脉冲激光沉积和热蒸发技术，可沉积多种材料。该系统能够在极简的设置下，将复杂的材料和晶体结构沉积到基底上。
脉冲激光沉积技术能够实现高效的非热烧蚀，并保持目标材料的化学计量比。利用该方法，可以沉积氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和复合材料等材料。
脉冲激光沉积 (PLD) – 可实现氧化物、氮化物、聚合物和复合材料等复杂材料的精确化学计量转移。
晶体薄膜——促进超晶格和先进晶体结构的沉积，用于半导体和光电子应用。
热蒸发——支持使用船式、篮式或线圈式蒸发源进行金属和介电薄膜沉积。
扫描电子显微镜 (SEM) 和透射电子显微镜 (TEM) 样品制备– 为非导电样品和支撑网格生产高质量的涂层。
光谱和结构研究– 提供适用于 EDS/WDS、EBSD 和光学表征的均匀薄膜。
薄膜研究与开发——对微电子、纳米技术、超导体和太阳能电池的研究很有用。
等离子清洗和基材制备——确保无污染表面，从而实现精确、可重复的薄膜生长。
学术和研究实验室——灵活的教学、高级培训和多学科研究项目平台。
- 目标操纵器： 旋转速度可调，实现精确定位。
- 热源： 三个热源，带有特殊馈通装置，以增强功能性。
- 实时厚度测量： 采用精度为1纳米的石英晶体监测系统，可进行精确测量。
- 用户友好界面： 直观的触摸屏，方便控制涂层过程和快速数据输入。
- 等离子清洗： 等离子清洗设施，确保基材的最佳制备。
- 可升级软件： 用户友好型软件，可通过网络进行更新以提高性能。
- 样品处理： 配备旋转样品架和电子快门，可实现高效的样品管理。
- 机动船选择： 具备选择和处理船用材料并实现电动化的功能。
- 基板加热： 500℃基板加热器，用于辅助控制沉积过程。
- 保修和保险： 该系统享有两年保修，并享有全球公共责任险和产品责任险，以额外保障因 Vac Coat 系统造成的财产损失或人身伤害。
热蒸发源（船型/篮型/盘管型）：
脉冲激光沉积系统可适配三个独立的耐热热蒸发源，这些蒸发源可以是舟形、篮形或线圈形。这些蒸发源的设计旨在实现高效的材料蒸发，同时避免污染物转移到其他材料上。蒸发源支架的长度可在 5 至 10 厘米范围内调节，以满足客户的特定需求。
目标操纵器：
PLD系统配备了一个多靶机械臂，可操作三个靶材，每个靶材直径为2厘米。靶材尺寸标准，所有靶材机械臂均采用电动驱动，从而在沉积过程中实现靶材的精确旋转和定位。
直观的触摸屏控制和鲜艳的显示屏：
PLD-T脉冲激光沉积系统配备了7英寸彩色触摸屏，操作简便，提供直观的控制和监控界面。该触摸屏支持全自动控制和轻松的数据输入，即使是经验有限的用户也能轻松上手。
用户可以直接在触摸屏上便捷地查看真空度、当前状态和沉积信息，这些信息以数字格式和图形曲线两种形式呈现。此外，系统还包含一个历史记录页面，可保存最近 300 次涂层的数据，以便查阅和分析。此功能提高了效率，并在整个涂层过程中提供流畅的用户体验。
这些规格概述了脉冲激光沉积和热蒸发系统的关键组件和功能，重点介绍了其在真空操作、电源、气体流量控制、数据分析和易用性方面的能力。
PLD-T 的选件和附件：
热蒸发源：
- 可提供船型、篮型或线圈型配置，以满足不同的沉积要求。
基板加热器：
- 能够加热至 500°C，以便在沉积过程中实现精确的基板温度控制。
蒸发源材料：
- 多种与热蒸发源兼容的材料，可实现广泛的沉积材料选择。
石英晶体传感器：
- 使用石英晶体传感器进行高精度实时厚度监测的关键设备。
密封垫圈：
- 垫片设计用于有效密封，确保沉积过程中的气密性。
这些选项和配件增强了 PLD-T 系统的多功能性和功能性，从而能够进行定制化和高效的薄膜沉积工艺，同时保持高精度和控制性。
脉冲激光沉积与热蒸发系统规格：
真空系统：
- 用于高效真空操作的高真空涡轮分子泵。
- 用于支持真空系统的隔膜式后备泵。
真空测量：全量程真空测量仪，可精确测量真空度。
实时厚度测量：采用精度为 1 nm 的石英晶体监测系统进行精确测量。
电源： 5千瓦大电流电源，确保高效运行。
气体流量控制：精密质量流量计（MFC），用于精确控制气体流量。
数据记录和分析：能够记录和绘制涂层参数图，以便进行详细分析。
数据传输：能够通过 USB 端口将曲线和沉积过程数据传输到 PC，以便进行进一步分析和记录。
公用设施：电源要求：220V-240V，50/60HZ，16A。
尺寸：盒子尺寸：50厘米高 x 60厘米宽 x 47厘米深。
重量：运输重量：70 公斤。
