热真空测试箱 - ToronTVT™ 600
ToronTVT™ 600 是一款多功能热真空测试箱，将热真空调节与集成式 PVD 薄膜沉积技术集成于紧凑的 SS304 滑动门箱体中。该测试箱提供 30、40 或 50 cm 三种尺寸，内外表面均采用轻柔的电抛光工艺，并配备 KF25、CF40 和 1 英寸进给口，进给口采用耐 200 °C 的氟橡胶 O 型圈密封。涡轮分子泵和机械泵可实现 10⁻⁸ Torr 的基准真空度，Inficon 宽量程真空测量仪的测量范围为 1000 至 10⁻⁸ Torr。在 10⁻⁷ Torr 的真空度下，1.5 小时的循环运行可支持每日多次实验。
四个热无机蒸发源和两到六个PID控制的有机蒸发池（温度范围25至600 °C，精度±1 °C）可在同一腔室内实现沉积功能，并可与电子束、溅射和真空炉等应用相结合。双通道0.1 Å/s厚度控制器可监测各活性源的沉积速率和累积膜厚。样品以2至30 rpm的转速旋转，并配备100至600 °C的旋转基片加热器，从而确保沉积过程中薄膜的均匀性。带有可旋转保护挡板的100 mm紫外线阻隔前窗可实现过程的可视化监控。
全自动计算机控制系统配备触摸屏面板，可管理所有系统功能；单相 220VAC、16A 电源简化了设备安装。自动闭环水冷系统可在运行期间保护所有源和等离子体组件。KF25、CF40 和 1 英寸馈通配置，搭配 200°C 耐高温氟橡胶 O 型圈，支持热真空测试和沉积工作流程的测量和工艺连接。热真空测试和薄膜沉积可在同一抽真空循环中完成，从而缩短工艺时间并保持真空完整性。
热真空测试箱 - ToronTVT™ 600 应用
ToronTVT™ 600 适用于需要同时进行热真空环境测试和 PVD 薄膜沉积的实验室，无需为每项功能配备单独的专用设备。其柜式设计、集成的工艺功能和自动化控制使其非常适合需要在同一工作流程中进行热调节和薄膜涂覆的程序。
- 热真空环境测试在受控温度和真空条件下对电子元件、传感器和小组件进行热真空循环，以验证其性能并进行故障分析。
- OLED和有机电子器件研究：对有机器件堆叠进行热真空处理，并结合原位沉积有机发射极、传输层和金属接触层，无需破坏真空。
- 钙钛矿和混合太阳能电池研究：用于光伏器件研究项目的钙钛矿吸收层、电荷传输层和接触层的真空处理和薄膜沉积相结合
- 半导体元件测试和涂层：对半导体元件进行热真空测试，然后在相同的真空环境下进行原位金属接触或钝化膜沉积
- 材料脱气和表面涂层研究对候选材料进行热真空处理，以进行脱气特性表征，并集成表面改性或薄膜涂层功能
- University 以及研究实验室 TVAC 项目紧凑型自动化热真空平台，适用于需要同时进行环境测试和薄膜涂覆的学术项目，无需额外投资设备。
热真空测试箱 - ToronTVT™ 600 主要特点
ToronTVT™ 600 将热真空调节、有机和无机 PVD 沉积、10 通道热电偶监测和 Inficon 真空测量集成在一个紧凑的 SS304 滑动门柜中，并具有自动触摸屏控制。
- 棱柱形 SS304 柜体（30/40/50 厘米），带滑动门采用紧凑型柜体设计，配备直接取放式滑动门，方便进行符合人体工程学的样品装载、光源配置和衬底转移。
- 羽毛般触感的电抛光内外表面清洁的腔室表面可减少热真空测试和沉积过程中的气体逸出和颗粒污染。
- 10通道热电偶温度监测：多达 10 个独立的热电偶通道可在热真空试验期间提供测试件和腔室表面的完整空间温度分布图
- 4 种热力无机蒸发源和 2 至 6 种有机蒸发源同时利用无机热源和有机蒸发源，可以在同一热真空循环中实现原位薄膜沉积。
- PID控制的渗流池（25至600℃，±1℃）：用于精确蒸发有机材料的克努森蒸发池，具有有机半导体和OLED发光层沉积所需的温度稳定性。
- 多模式沉积能力：在单个腔室中实现热蒸发、电子束、溅射和真空炉应用，从而实现灵活的工艺配置
- 涡轮分子泵和机械泵组，基准压力 10⁻⁸ Torr泵组合可提供热真空测试和高纯度薄膜沉积所需的基准真空。
- Inficon 宽范围真空测量仪（1000 至 10⁻⁸ Torr）：Inficon真空测量范围从大气压到基准真空，涵盖所有TVAC和沉积操作模式
- 自动通风阀、节流阀和隔离阀：对所有压力转换进行全面的阀门控制；隔离阀在实验间隙保持腔室真空。
- 0.1 Å/s 双通道精密厚度和速率测量：同时监测两个独立沉积源通道的厚度和沉积速率
- 样品旋转速度 2 至 30 rpm，基板加热器温度 100 至 600 °C：结合旋转和基板温度控制，实现均匀沉积和温度控制的工艺条件
- 100毫米紫外线阻隔前观察窗，带可旋转保护帘：在热真空测试和沉积过程中，可进行大尺寸可视化操作，且无紫外线照射风险
- KF25、CF40 和 1 英寸馈通，带耐 200 °C 氟橡胶 O 型圈：高温馈通配置，支持在所有操作模式下同时进行测量和过程连接
- 全自动电脑控制，带触摸屏面板所有TVAC和沉积操作均通过触摸屏界面自动管理
- 自动闭环水冷：运行过程中对沉积源和等离子体组件进行自动化热管理
- 10⁻⁷ Torr 下的 1.5 小时实验周期：快速抽真空和工艺执行，可实现每日多次热真空测试或沉积运行
- 单相220VAC，16A电源要求标准单相电气连接，便于实验室安装
- 材料、设计和工艺全面保修：全面涵盖系统组件、设计质量和制造
理论与方法
ToronTVT™ 600 将热真空处理和 PVD 薄膜沉积集成于单个真空柜中，在一次抽真空循环内即可满足实验室的两项需求。传统的工艺流程需要使用独立的热真空处理 (TVAC) 和沉积设备，步骤之间需要暴露于大气中。ToronTVT™ 600 的共享真空环境允许热真空处理和薄膜沉积依次进行，无需排气，从而保持样品的洁净度。滑动门式柜体设计符合人体工程学，方便在两种工艺模式下进行样品装载和源配置。
热真空测试将样品置于受控的真空和温度组合条件下，以验证其在模拟环境条件下的性能。热电偶系统支持多达 10 个独立通道，可在测试过程中提供完整的空间温度分布图。工作台和防护罩的温度通过基于 LabVIEW 的界面进行独立监测，该界面会记录每次运行的真空度和温度数据。隔离阀可在测试间隙保持腔室真空，从而减少连续运行之间的抽真空时间。
该沉积设备涵盖金属和有机薄膜的热蒸发、有机半导体和OLED材料的克努森蒸发池，以及可选的电子束和溅射配置。四个无机热源和两到六个PID控制的有机蒸发池在同一腔室内运行。PID控制的蒸发池温度范围为25至600℃，精度为±1℃，从而维持有机材料所需的通量稳定性。双通道石英晶体微天平（QCM）控制器以0.1 Å/s的沉积速率和2至30 rpm的基片转速完善了整个沉积过程控制系统。
热真空试验箱 - ToronTVT™ 600 技术规格
| 参数 | 规格 |
|---|---|
| 材料商会 | SS304（棱镜） |
| 腔室尺寸 | 30、40 或 50 厘米 |
| 商会通道 | 推拉门 |
| 腔室表面 | 羽毛般触感的电抛光（内外表面） |
| 基准压力 | 10⁻⁸ Torr（满载系统） |
| 工作真空度（循环时间） | 10⁻⁷ Torr；每次实验约需1.5小时 |
| 真空测量范围 | 1000 至 10⁻⁸ Torr（英菲康系统） |
| 泵配置 | 涡轮分子 + 机械 |
| 阀门配置 | 自动排气阀、节流阀和隔离阀 |
| 温度监控 | 最多可连接 10 个热电偶通道 |
| 无机热源 | 4 |
| 有机蒸发源 | 2至6个胸腔积液细胞（克努森型） |
| 渗流池温度 | 25 至 600 °C（PID，±1 °C） |
| 沉积模式 | 热蒸发、电子束、溅射、真空炉 |
| 厚度监测 | 双通道；精度为 0.1 Å/s |
| 样品旋转速度 | 2到30 rpm |
| 基板加热器 | 100 至 600 °C（旋转） |
| 馈通端口 | KF25、CF40、1英寸；耐200℃氟橡胶O型圈 |
| 观察窗 | 100毫米前窗；防紫外线；可旋转防护百叶窗 |
| 冷却系统 | 自动闭环水冷 |
| 控制系统 | 全自动电脑控制；触摸屏面板 |
| 电压 | 单相，220VAC，16A（另有110V可选） |
| 保修政策 | 全面（材料、设计和工艺） |