Forno ad atmosfera sottovuoto – TT-VAF-30-1200
Il TT-VAF-30-1200 è un forno a resistenza a cassone da 1200 °C progettato per creare un ambiente di trattamento termico ad alta temperatura in condizioni di vuoto o atmosfera controllata. È adatto a laboratori industriali presso università, istituti di ricerca, stabilimenti di produzione e altre organizzazioni. Questo forno supporta lavorazioni avanzate in settori quali materiali metallici, ceramici, nanomateriali e materiali semiconduttori.
Materiali ceramici avanzati – Consente la sinterizzazione, la densificazione e la ricottura ad alta temperatura di ceramiche sotto vuoto o in atmosfere controllate. Garantisce un'eccellente resistenza termica, integrità strutturale e riproducibilità per applicazioni sia industriali che di ricerca.
Ricerca sui nanomateriali – Fornisce un trattamento termico preciso per nanostrutture e compositi avanzati. Supporta la ricerca e sviluppo su nanomateriali funzionali, catalizzatori, rivestimenti e sistemi di accumulo di energia di nuova generazione.
Materiali semiconduttori – Facilita il trattamento termico, la ricottura e la diffusione senza ossidazione dei wafer semiconduttori. Offre condizioni ambientali controllate e un'uniformità di temperatura precisa, essenziali per applicazioni elettroniche e optoelettroniche.
Metallurgia delle polveri e lavorazione dei metalli – Supporta la sinterizzazione assistita dal vuoto e la lavorazione termica di polveri metalliche e leghe. Garantisce proprietà meccaniche e termiche uniformi per componenti ad alte prestazioni e produzione additiva.
Ingegneria dei materiali aerospaziali e di difesa – Consente la lavorazione ad alta temperatura di leghe, ceramiche e compositi ad alte prestazioni utilizzati nei settori aerospaziale e della difesa. Garantisce resistenza meccanica riproducibile, stabilità termica e validazione del materiale in condizioni critiche.
Ricerca su energia e batterie – Ideale per il trattamento termico di elettroliti allo stato solido, elettrodi per batterie e materiali energetici avanzati. Garantisce la lavorazione sotto vuoto o in atmosfera controllata per risultati privi di contaminazione, stabili e riproducibili.
Laboratori chimici e industriali – Adatto per l'attivazione di catalizzatori, la decomposizione termica e studi di reazione che richiedono atmosfere controllate. Fornisce risultati accurati e ripetibili per ricerca e sviluppo, sviluppo di processi e applicazioni industriali.
Università e Istituti di ricerca – Uno strumento versatile per laboratori di fisica, chimica, scienza dei materiali e ingegneria. Offre controllo programmabile della temperatura, capacità di vuoto e robuste protezioni di sicurezza per flussi di lavoro sperimentali complessi.
Industria Quality Control e certificazione – Esegue test precisi sotto vuoto ad alta temperatura o in atmosfera controllata per la verifica della conformità, la convalida del prodotto e la certificazione di terze parti. Conforme agli standard ISO9001, CE, SGS e TÜV per i settori regolamentati.
Rivestimento della fornace
- Realizzato in acciaio a basso tenore di carbonio Q235 con rivestimento superficiale resistente alla corrosione, applicato elettrostaticamente.
- Il design resistente del serbatoio in metallo garantisce una bassa temperatura della superficie esterna.
- La porta del forno è dotata di una struttura di tenuta a flangia con compressione manuale della vite e un design ad apertura laterale per un utilizzo più semplice.
Materiale refrattario
- Isolamento multistrato composto da fibra ceramica di allumina leggera e pannelli isolanti di alta qualità. Il design è privo di amianto, garantendo basse dispersioni termiche e consumi energetici ridotti.
Sistema di Riscaldamento
- Dotato di elementi riscaldanti a filo resistivo a spirale HRE di alta qualità, saldamente integrati nelle pareti del forno per fornire calore radiante libero in tutta la camera. Ciò garantisce elevata efficienza, risparmio energetico e lunga durata.
- Gli elementi riscaldanti sono posizionati su tre lati (sinistro, destro e inferiore) per una distribuzione uniforme della temperatura.
- Una piastra di base in carburo di silicio ricopre l'elemento riscaldante inferiore, offrendo protezione, eccellente resistenza meccanica ed efficace conduttività termica, consentendo al contempo la capacità di sopportare carichi orizzontali.
Pannello di controllo della temperatura
- Controllore PID che utilizza il controllo SSR/SCR per una regolazione della temperatura precisa e stabile.
- Dotato di una termocoppia al nichel-cromo-silicio di tipo N secondo lo standard internazionale, con un intervallo di temperatura compreso tra 0 e 1300 °C e una lunga durata operativa.
Controller di programma
- Controllore avanzato adatto a requisiti di processo complessi.
- Interfaccia intuitiva con opzioni di programmazione flessibili.
- Supporta fino a 30 segmenti programmabili per una singola curva di temperatura.
- Allarmi integrati di sovratemperatura e guasto con spegnimento automatico di sicurezza.
Funzione dell'atmosfera del vuoto
- La camera del forno è dotata di prese d'aria regolabili per l'immissione di gas protettivi.
- Compatibile con diverse pompe per vuoto per raggiungere livelli di vuoto che vanno da 500 Pa a 0.06 Pa. Un vacuometro digitale visualizza il livello di vuoto attuale.
- Disponibile unità di controllo opzionale del circuito dell'aria con da 1 a 3 misuratori a galleggiante regolabili.
| Modello | TT-VAF-3-1200 | TT-VAF-6-1200 | TT-VAF-8-1200 | TT-VAF-12-1200 | TT-VAF-18-1200 | TT-VAF-30-1200 |
Dimensioni della camera (L x P x A) mm | 150 x150x150 | 180x230x150 | 200x300x120 | 200 x300x200 | 250 x300x250 | 300 x500x200 |
| Temperatura nominale | 1200 ℃ | |||||
| Temperatura del lavoro | 1100 ℃ | |||||
| Tensione | 220V/2.5KW (disponibile anche 110V) | 220V/3KW (disponibile anche 110V) | 220V/3KW (disponibile anche 110V) | 220V/4KW (disponibile anche 110V) | 220V/6KW (disponibile anche 110V) | 220V/7.5KW (disponibile anche 110V) |
| Elemento riscaldante | Filo di resistenza in lega HRE | |||||
| Materiali della camera | Materiale in fibra ceramica di allumina inorganica policristallina realizzato mediante metodo di filtrazione sotto vuoto umido | |||||
| Controllo della temperatura Precisione | ± 1 ℃ | |||||
| Termocoppia | Termocoppia di tipo N | |||||
| regolatore di temperatura | Strumento di controllo della temperatura PID con microcomputer intelligente, controllo SCR/SSR, funzione di autoregolazione dei parametri PID. Curve di programma programmabili in 4 gruppi, ciascuna con 8 segmenti per un totale di 32 segmenti per il riscaldamento programmato, la conservazione del calore programmato, il raffreddamento programmato. | |||||
| Tasso di riscaldamento | 1-25℃/min può essere regolabile | |||||
| Struttura del forno | Struttura integrata per il controllo della temperatura del forno | |||||
| Protezione delle apparecchiature | Controllo modulare con segnale di allarme sonoro e luminoso inviato in caso di sovratemperatura e termocoppia rotta durante il processo di lavorazione, e l'azione di protezione verrà completata automaticamente | |||||
| Protezione di Sicurezza | L'apparecchiatura è dotata di un interruttore automatico che si apre automaticamente in caso di cortocircuito, proteggendo la sicurezza dell'apparecchiatura e degli operatori. | |||||
| Rivestimento della fornace | Lamiera d'acciaio laminata a freddo di alta qualità con lavorazione tramite macchine utensili CNC, quindi verrà sottoposta al processo di saldatura, molatura, lucidatura, fosfatazione, decapaggio, spruzzatura elettrostatica superficiale di polvere di plastica | |||||
| Certificato di Qualità | Certificazione ISO9001 CE SGS TUV | |||||
| Dispositivo standard | 1、Corpo principale del forno: 1 set 2、Regolatore di temperatura: 1 pz 3、Linea di alimentazione: 3 metri 4、Termocoppia: 1 pz 5、Manuale operativo; 1 pz 6Pinza per crogiolo; 1 pz 7、Guanti ad alta temperatura: 1 paio | |||||
| accessori opzionali | 1、Opzionale con pompa per vuoto rotativa (livello di vuoto ≤500pa) 2. Vacuometro digitale opzionale (1.0×105-1.0×10-1pa) 3. Opzionale con misuratore di portata a galleggiante (portata del galleggiante 1-10 l/min) | |||||