Il sistema PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition System) è costituito da quattro componenti principali: un forno tubolare, un sistema a vuoto, un regolatore di flusso del gas e un alimentatore a radiofrequenza (RF). Questa configurazione utilizza un'uscita RF a 13.56 MHz per ionizzare i gas contenenti gli atomi filmogeni desiderati, generando plasma. L'ambiente altamente reattivo del plasma potenzia le reazioni chimiche, consentendo ai materiali in fase gassosa di formare film sottili su un substrato. Questo processo consente tecniche avanzate di fabbricazione di film sottili, adatte alla deposizione di film di SiO₂ e SiNx a temperature fino a 1200 °C.
Fabbricazione di dispositivi a semiconduttore : consente la deposizione a bassa temperatura di film sottili di SiO₂, SiNx e dielettrici, essenziali per circuiti integrati, transistor e dispositivi optoelettronici. Garantisce uniformità, adesione e strati privi di difetti, fondamentali per la microelettronica ad alte prestazioni.
Ricerca sui nanomateriali – Supporta la crescita di grafene, nanotubi di carbonio e rivestimenti nanostrutturati mediante plasma. Offre un controllo preciso su spessore, composizione e morfologia dei film per applicazioni nanotecnologiche di nuova generazione.
Ottica e fotonica a film sottile – Facilita la deposizione PECVD di rivestimenti ottici, strati antiriflesso e film di passivazione. Garantisce un indice di rifrazione controllato e una trasparenza ottica per sensori, lenti e dispositivi fotonici avanzati.
Materiali per energia e batterie – Consente la deposizione di rivestimenti protettivi e pellicole funzionali per batterie agli ioni di litio e a stato solido. Garantisce maggiore stabilità, conduttività ionica e durata del ciclo di vita prolungata dei sistemi avanzati di accumulo di energia.
Ricerca sulle celle solari – Ampiamente utilizzato per la deposizione PECVD di rivestimenti di passivazione e antiriflesso su substrati fotovoltaici. Migliora l'assorbimento della luce, la durata dei portatori di carica e l'efficienza complessiva nelle celle solari in silicio cristallino e a film sottile.
MEMS e microfabbricazione : supporta la deposizione di film mediante plasma per sistemi microelettromeccanici (MEMS), biosensori e dispositivi microfluidici. Offre un controllo preciso sulle proprietà del film, fondamentali per le prestazioni dei dispositivi miniaturizzati.
Applicazioni aerospaziali e di difesa : fornisce pellicole sottili protettive e funzionali avanzate su leghe e ceramiche ad alte prestazioni. Migliora la durata, la resistenza alla corrosione e la stabilità termica in condizioni estreme tipiche del settore aerospaziale e della difesa.
Università e istituti di ricerca : ideale per studi accademici avanzati in ambito di lavorazione al plasma, scienza dei materiali, nanotecnologie e fisica applicata. Unisce precisione, sicurezza e flessibilità per l'innovazione e la didattica su scala di laboratorio.
Industriale Quality Control e certificazione – Fornisce processi PECVD riproducibili e ad alta precisione per la convalida del prodotto e i test di conformità. Conforme agli standard ISO, CE, SGS e TÜV per soddisfare i requisiti regolamentati del settore.
- Il sistema del forno tubolare CVD comprende un forno tubolare, un sistema a vuoto, un regolatore del flusso di gas e un alimentatore RF.
- Il forno tubolare supporta tubi di vari diametri e lunghezze di zona a temperatura costante. Entrambe le estremità sono dotate di flange di tenuta in acciaio inossidabile ad alto vuoto.
- Il sistema da vuoto supporta diverse configurazioni di pompaggio in base alle esigenze di test. Le pompe meccaniche a palette rotative raggiungono un livello di vuoto ≤5 Pa, mentre i sistemi a pompa molecolare raggiungono fino a 1×10⁻⁴ Pa.
- Il sistema di erogazione del gas è disponibile con un regolatore di portata manuale a galleggiante a 3 canali o con un regolatore di portata di massa automatico a 3 canali.
- I livelli di vuoto vengono misurati utilizzando un vacuometro digitale composito o un vacuometro Pirani.
- Per la scarica al plasma viene utilizzato un alimentatore RF da 13.56 MHz, con potenze di uscita selezionabili di 200 W, 300 W o 500 W.
- Il forno tubolare offre opzioni quali una singola zona di temperatura da 440 mm o configurazioni multizona per test di gradiente di temperatura.
- Una porta di comunicazione digitale RS485 opzionale e un adattatore USB sul regolatore di temperatura consentono la connettività al PC, consentendo il monitoraggio e il controllo a distanza, nonché il salvataggio e l'esportazione dei dati.
- Il prodotto è certificato CE e soddisfa gli standard di sicurezza dell'UE.
Funzione dell'atmosfera del vuoto
- Il sistema comprende flange di tenuta in acciaio inossidabile 304 per creare condizioni di vuoto o di atmosfera controllata all'interno del tubo.
- Il tubo di lavoro standard è in quarzo di alta qualità. Sono disponibili anche tubi in metallo o allumina per soddisfare diverse esigenze applicative.
- Una pompa rotativa a palette a doppio stadio ad alte prestazioni raggiunge un livello di vuoto di 5 Pa, con lo stato del vuoto visualizzato tramite un manometro digitale.
- L'unità di controllo del circuito dell'aria offre opzioni da 1 a 3 canali per il controllo automatizzato mediante un sistema di controllo del flusso di massa (MFC).
| Articolo | TT-CVDTF-40-1200 | TT-CVDTF-60-1200 | TT-CVDTF-80-1200 | TT-CVDTF-100-1200 |
| Dimensioni tubo | Φ40 x 1200 mm | Φ60 x 1200mm | Φ80 x1200mm | Φ100 x 1200 mm |
| Temperatura massima | 1200 ℃ | |||
| Temperatura del lavoro | 1100 ℃ | |||
| Zona di riscaldamento | 440mm | |||
| Tensione / Power | 220V/1.8KW (disponibile anche 110V) | 220V/2.6KW (disponibile anche 110V) | 220V/2.6KW (disponibile anche 110V) | 220V/2.6KW (disponibile anche 110V) |
| Elemento riscaldante | Filo di resistenza in lega di ferro cromo alluminio HRE | |||
| camera Materiale | Materiale in fibra ceramica di allumina inorganica policristallina preparato mediante filtrazione sotto vuoto umido | |||
| Materiale del tubo | Tubo al quarzo | |||
| Precisione temperatura | ± 1 ℃ | |||
| Elemento riscaldante | Termocoppia di tipo N | |||
| regolatore di temperatura | Strumento di controllo della temperatura PID con microcomputer intelligente, controllo SCR/SSR, funzione di autoregolazione dei parametri PID; 30 segmenti di programma programmabili, riscaldamento programmato, conservazione del calore programmato, raffreddamento programmato | |||
| Tasso di riscaldamento | 1-25℃/min impostabile liberamente | |||
| Struttura del forno | Struttura integrata per il controllo della temperatura del forno, apertura e chiusura del forno; guscio a doppio strato, circolazione dell'aria e isolamento termico | |||
| Funzione di tenuta | Entrambe le estremità del tubo del forno sono dotate di flange metalliche in acciaio inossidabile, abbinate a guarnizioni in PTFE ad alta temperatura, che possono funzionare sotto vuoto con un grado di vuoto ≤5pa (pompa per vuoto a palette rotanti) | |||
| RF di potenza | Frequenza: 13.56 MHz±0.005%, potenza: 5W-500W, stabilità di potenza: ±0.5% | |||
| Controllore del gas | Flussimetro manuale a galleggiante a 3 vie opzionale, intervallo 60-600 ml/min; flussimetro di massa automatico a 3 vie, intervallo 1-500 sccm | |||
| Funzione Atmosfera | Sono presenti ingressi e uscite dell'aria su entrambe le estremità della flangia. Il manometro è installato sulla flangia metallica. La valvola a spillo di precisione può regolare l'ingresso e l'uscita dell'aria e può essere alimentata con gas protettivi come azoto, argon e idrogeno. | |||
| Interfaccia del gas | La valvola deflettrice del vuoto KF25 e il soffietto in acciaio inossidabile KF25 collegano la pompa del vuoto; giunto a ghiera in acciaio inossidabile da 6 mm in atmosfera protettiva e tubazione in PTFE | |||
| Protezione delle apparecchiature | Controllo modulare, segnale di allarme sonoro e luminoso verranno inviati in caso di sovratemperatura e accoppiatore rotto durante il processo di lavoro e l'azione di protezione verrà completata automaticamente | |||
| Protezione di Sicurezza | L'apparecchiatura è dotata di un interruttore automatico che si apre automaticamente in caso di cortocircuito, proteggendo la sicurezza dell'apparecchiatura e degli operatori. | |||
| Rivestimento della fornace | Lavorazione di tranciatura su macchine utensili CNC di lamiere di acciaio laminate a freddo di alta qualità, dopo saldatura, rettifica, lucidatura, fosfatazione, decapaggio, spruzzatura elettrostatica superficiale di polvere di plastica | |||
| Certificato di Qualità | Certificazione ISO9001 CE SGS TUV | |||