Forni tubolari CVD
I forni tubolari CVD (Chemical Vapor Deposition) sono progettati per un controllo preciso della temperatura e del flusso di gas nei processi di deposizione di film sottili. Ideali per la sintesi di materiali come grafene, nanotubi di carbonio e rivestimenti per semiconduttori, questi forni supportano sia la CVD a bassa pressione che quella atmosferica. Grazie alle zone di riscaldamento uniformi e alla robusta tenuta per atmosfere sotto vuoto o inerti, offrono prestazioni affidabili per la ricerca e lo sviluppo di materiali avanzati.