Máy phủ quay
Máy phủ quay
Giải pháp phủ màng mỏng
Máy phủ quay ly tâm là một trong những thiết bị được sử dụng rộng rãi nhất trong khoa học vật liệu, nghiên cứu bán dẫn, quang điện và công nghệ màng mỏng. Quá trình phủ quay ly tâm tạo ra các màng mỏng có độ đồng nhất cao và có thể tái tạo được trên các chất nền phẳng thông qua sự lan rộng ly tâm — điều này làm cho máy phủ quay ly tâm trở thành một công cụ không thể thiếu trong các phòng thí nghiệm, trường đại học và các cơ sở công nghiệp nơi cần lắng đọng màng mỏng một cách có kiểm soát và lặp lại.
Dòng sản phẩm ToronSC™ là một bộ gồm năm máy phủ quay ly tâm đạt chứng nhận CE, được thiết kế để đáp ứng đầy đủ các ứng dụng phủ quay ly tâm — từ các máy phủ quay ly tâm điện cơ bản dành cho phòng thí nghiệm sinh viên, đến các mẫu tốc độ cao có thể lập trình cho nghiên cứu bán dẫn và quang điện tiên tiến, đến các thiết bị kẹp chân không khổ lớn để phủ lên tấm wafer 8 inch. Mỗi máy phủ quay ly tâm ToronSC™ đều được thiết kế để đạt độ chính xác, khả năng tái tạo và sử dụng thực tế hàng ngày trong môi trường nghiên cứu và kiểm soát chất lượng.
Cho dù bạn cần một máy phủ quay ly tâm cơ bản để lắng đọng màng polymer, một máy phủ quay ly tâm chống ăn mòn cho các tiền chất hóa học mạnh, hay một thiết bị đa công thức có thể lập trình cho các chuỗi phủ nhiều lớp phức tạp, dòng sản phẩm ToronSC™ đều có một mẫu phù hợp với ứng dụng, kích thước chất nền và yêu cầu quy trình của bạn.
Bạn đã sẵn sàng cấu hình giải pháp phủ quay ly tâm của mình chưa?
Dòng sản phẩm ToronSC™ cung cấp cho các phòng thí nghiệm nghiên cứu, các khoa đại học và các cơ sở R&D công nghiệp một dòng máy phủ màng quay ly tâm hoàn chỉnh, đạt chứng nhận CE, cho mọi ứng dụng phủ màng mỏng. Hãy liên hệ với Torontech để thảo luận về yêu cầu chất nền, hóa học quy trình, phụ kiện tùy chọn và giá cả của máy phủ màng quay ly tâm ToronSC™ phù hợp nhất với quy trình làm việc của bạn.
Ứng dụng
Dòng máy phủ màng quay ToronSC™ phục vụ các ứng dụng lắng đọng màng mỏng trong nhiều lĩnh vực nghiên cứu và công nghiệp:
Chất bán dẫn & quang khắc
- Phủ màng cản quang bằng phương pháp quay ly tâm lên tấm wafer silicon phục vụ nghiên cứu và phát triển quy trình quang khắc trong lĩnh vực học thuật và công nghiệp.
- Nghiên cứu chế tạo thiết bị bán dẫn bằng phương pháp phủ quay sol-gel để lắng đọng màng điện môi và màng thụ động.
- Ứng dụng lớp chống phản xạ và lớp bảo vệ trên chất nền của thiết bị quang học và quang tử.
Nghiên cứu quang điện và năng lượng
- Phương pháp phủ màng hấp thụ perovskite bằng kỹ thuật quay ly tâm cho nghiên cứu và tối ưu hóa hiệu suất pin mặt trời thế hệ tiếp theo.
- Phương pháp lắng đọng lớp vận chuyển electron và lỗ trống từ dung dịch sol-gel hoặc dung dịch hạt nano cho cấu trúc thiết bị quang điện.
- Lớp phủ chức năng cho điện cực pin — phủ quay các hỗn hợp vật liệu hoạt tính và lớp phủ bảo vệ lên chất nền thu dòng điện.
Nghiên cứu Khoa học Vật liệu & Hóa học
- Phương pháp lắng đọng màng mỏng oxit kim loại từ tiền chất sol-gel cho các ứng dụng xúc tác, cảm biến và quang điện tử.
- Lớp phủ màng mỏng polymer dùng cho nghiên cứu lớp đóng gói, điện môi và điện hoạt tính trong điện tử in ấn.
- Phương pháp phủ màng bằng cách quay ly tâm với huyền phù hạt nano để biến đổi bề mặt chức năng và chế tạo màng mỏng cấu trúc nano.
Lớp phủ chuyên dụng và trong môi trường được kiểm soát
- Phủ màng chống ăn mòn bằng dung dịch axit và kiềm mạnh sử dụng buồng PP ToronSC™ 2000C và ToronSC™ 1000P
- Phương pháp phủ màng quay trong hộp kín có khí trơ dưới môi trường argon để lắng đọng màng vật liệu hữu cơ, perovskite và vật liệu pin nhạy cảm với không khí.
- Phủ lớp nền khổ lớn (lên đến tấm wafer 8" hoặc tấm 5"×5") bằng máy ToronSC™ 350P cho nghiên cứu thiết bị tiên tiến.
Tại sao nên chọn dòng sản phẩm ToronSC™ cho lớp phủ màng mỏng của bạn?
Việc lựa chọn máy phủ quay ly tâm là một quyết định ảnh hưởng đến chất lượng màng, khả năng tái tạo quy trình, an toàn vận hành và năng suất lâu dài của phòng thí nghiệm. Dòng máy phủ quay ly tâm ToronSC™ được thiết kế để đáp ứng tất cả các yếu tố này, phù hợp với nhiều nhu cầu ứng dụng và mức ngân sách khác nhau.
1. Máy phủ quay ly tâm phù hợp với mọi ứng dụng và kích thước chất nền
Hầu hết các nhà cung cấp máy phủ quay ly tâm chỉ cung cấp một hoặc hai mẫu và để các nhà nghiên cứu tự điều chỉnh quy trình của họ cho phù hợp với những hạn chế của thiết bị. Dòng sản phẩm ToronSC™ bao gồm năm máy phủ quay ly tâm chuyên dụng — từ máy phủ quay ly tâm điện không hút chân không 4" đến mẫu máy có mâm cặp hút chân không khổ lớn 8" có thể lập trình — vì vậy bạn có thể chọn thiết bị phù hợp với chất nền, hóa chất quy trình và yêu cầu lập trình của mình mà không cần phải thỏa hiệp.
2. Thiết kế chống ăn mòn cho các phản ứng hóa học mạnh.
Các máy phủ quay ly tâm tiêu chuẩn sử dụng buồng nhôm, dễ bị ăn mòn nhanh chóng khi tiếp xúc với axit mạnh, kiềm và các tiền chất sol-gel phản ứng. Máy ToronSC™ 2000C và ToronSC™ 1000P sử dụng buồng hoàn toàn bằng polypropylene, trơ về mặt hóa học với các dung dịch phủ mạnh, bao gồm cả các tiền chất axit và kiềm mạnh được sử dụng trong nghiên cứu màng mỏng perovskite, oxit kim loại và chất điện giải.
3. Khả năng tương thích với hộp đựng găng tay và môi trường khí trơ
Nhiều mẫu trong dòng sản phẩm ToronSC™ được thiết kế để sử dụng bên trong hộp kín dưới môi trường khí argon hoặc nitơ, cho phép phủ màng quay các vật liệu nhạy cảm với không khí và độ ẩm mà không làm lộ chất nền hoặc dung dịch ra môi trường ẩm hoặc oxy. ToronSC™ 1000P cũng có cổng dẫn khí tích hợp trên nắp để kiểm soát môi trường mà không cần hộp kín hoàn toàn.
4. Công thức phủ quay nhiều bước có thể lập trình
Máy ToronSC™ 1000P mang đến khả năng lập trình tiên tiến nhất trong dòng sản phẩm: 12 chương trình được lưu trữ, mỗi chương trình có tới 6 phân đoạn tốc độ/thời gian độc lập. Khả năng lưu trữ công thức và điều khiển nhiều bước này rất cần thiết cho việc phủ màng nhiều lớp bằng phương pháp quay ly tâm, tối ưu hóa cấu hình chất cản quang và các chuỗi quy trình sol-gel phức tạp đòi hỏi nhiều hơn một quy trình phân phối và trải màng hai bước đơn giản.
5. Cố định bằng mâm cặp hút chân không để đảm bảo độ đồng đều của màng phim
Bốn trong năm mẫu máy ToronSC™ sử dụng phương pháp cố định đế bằng chân không — giữ chặt đế ở vị trí trung tâm trên mâm cặp trong suốt chu trình quay. Phương pháp cố định bằng chân không loại bỏ sự dịch chuyển của đế, giảm hiện tượng cong vênh do lực ly tâm gây ra và đảm bảo đế luôn nằm ngang trong quá trình phủ quay, tất cả những điều này đều trực tiếp cải thiện độ đồng đều của độ dày màng trên toàn bộ đế.
6. Đạt chứng nhận CE cho toàn bộ dòng sản phẩm.
Tất cả các máy phủ quay ToronSC™ đều đạt chứng nhận CE, xác nhận tuân thủ các yêu cầu về an toàn, tương thích điện từ và bảo vệ môi trường của Châu Âu. Chứng nhận CE hỗ trợ việc sử dụng trong môi trường phòng thí nghiệm và công nghiệp được quản lý chặt chẽ ở Bắc Mỹ, Châu Âu và quốc tế, đồng thời đảm bảo chất lượng sản phẩm và tiêu chuẩn thiết kế.
7. Các gói sản phẩm hoàn chỉnh, sẵn sàng sử dụng
Mỗi máy phủ quay ToronSC™ được vận chuyển dưới dạng một bộ hoàn chỉnh: bơm chân không không dầu, mâm cặp chân không phù hợp, ống tiêm 20 mL, bộ lọc nước thải và tất cả các phụ kiện kết nối — sẵn sàng để sử dụng ngay lập tức mà không cần mua thêm phụ kiện. Các phụ kiện tùy chọn bao gồm vỏ gia nhiệt, kích thước mâm cặp bổ sung và dụng cụ định tâm giúp mở rộng khả năng của thiết bị khi yêu cầu ứng dụng của bạn phát triển.
sự so sánh sản phẩm
Bảng dưới đây so sánh chi tiết cả năm mẫu máy phủ quay ly tâm ToronSC™. Sử dụng cột 'Phù hợp nhất cho' để chọn máy phủ quay ly tâm phù hợp với ứng dụng của bạn.
| Mẫu | Tên sản phẩm | Chất nền tối đa | Phạm vi tốc độ | Khóa Học | phòng | tốt nhất cho | CE |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| ToronSC™ 100 | Máy phủ quay điện | 4 "(100 mm) | 500–8,000 vòng / phút | Điều chỉnh | Đĩa nhôm/PP | Cấp độ cơ bản; không cần hút chân không; sử dụng hộp đựng găng tay Ar | ✓ |
| ToronSC™ 350 | Máy phủ quay chân không | 4 "(100 mm) | 500–8,000 vòng / phút | Phân đoạn 2 | Đĩa nhôm đúc / PP | Phương pháp phủ quay chân không tiêu chuẩn trong phòng thí nghiệm; sol-gel & chất cản quang | ✔ |
| ToronSC™ 350P | Máy phủ quay chân không có thể lập trình | 8" (200 mm) / 5"×5" | 500–6,000 vòng / phút | Phân đoạn 2 | Polypropylene (PP) | Lớp phủ wafer và tấm khổ lớn; công nghệ sol-gel; tùy chọn gia nhiệt. | ✔ |
| ToronSC™ 1000P | Máy phủ quay tốc độ cao có thể lập trình | 5 "(127 mm) | 500–10,000 vòng / phút | 12 chương trình × 6 phân đoạn | Polypropylene (PP) | Các công thức phức tạp nhiều bước; nghiên cứu chất bán dẫn và quang điện. | ✔ |
| ToronSC™ 2000C | Máy phủ quay chống ăn mòn | 6 "(152 mm) | 500–8,000 vòng / phút | Phân đoạn 2 | Polypropylene (PP) | Lớp phủ axit/kiềm ăn mòn; sử dụng khí Ar trong hộp kín. | ✔ |
Chọn máy phủ quay ly tâm ToronSC™ phù hợp
Hãy sử dụng hướng dẫn lựa chọn nhanh bên dưới để chọn máy phủ quay ly tâm phù hợp với ứng dụng của bạn:
ToronSC™ 100 — Máy phủ quay ly tâm điện cơ bản
- Hãy chọn mẫu máy này khi bạn cần một máy phủ quay ly tâm đơn giản, giá cả phải chăng mà không cần cơ sở hạ tầng hút chân không.
- Thích hợp cho: phòng thí nghiệm sinh viên, người mới bắt đầu sử dụng phương pháp phủ quay ly tâm, và triển khai trong hộp kín để phủ trong môi trường khí trơ.
ToronSC™ 350 — Máy tráng quay chân không
- Chọn mẫu này để phủ màng sol-gel và chất cản quang tiêu chuẩn bằng phương pháp quay ly tâm trên chất nền 4 inch và nhỏ hơn với độ chính xác của mâm cặp hút chân không.
- Thích hợp cho: các phòng thí nghiệm nghiên cứu đa năng, các nhóm nghiên cứu đại học và quy trình lắng đọng màng mỏng thông thường.
ToronSC™ 350P — Máy tráng quay chân không có thể lập trình
- Chọn mẫu này để phủ màng quay khổ lớn trên tấm wafer 8 inch hoặc tấm panel 5x5 inch với dung dịch phủ sol-gel và dung dịch phủ chức năng.
- Lý tưởng cho: nghiên cứu màng mỏng quy mô lớn, đánh giá sản xuất thử nghiệm và phủ lớp trên chất nền lớn với tùy chọn gia nhiệt tại chỗ.
ToronSC™ 1000P — Máy phủ màng quay tốc độ cao có thể lập trình
- Hãy chọn mẫu máy này khi quy trình của bạn yêu cầu lập trình nhiều bước, tốc độ lên đến 10,000 vòng/phút hoặc hóa chất phủ ăn mòn.
- Thích hợp cho: nghiên cứu bán dẫn tiên tiến, lớp hấp thụ quang điện và phủ màng nhiều lớp bằng phương pháp quay ly tâm với công thức phức tạp.
ToronSC™ 2000C — Máy tráng quay chống ăn mòn
- Chọn mẫu này khi dung dịch phủ có tính axit mạnh, kiềm mạnh hoặc yêu cầu sử dụng trong hộp kín có khí argon.
- Thích hợp cho: nghiên cứu perovskite, sol-gel oxit kim loại, lớp phủ điện cực pin và các ứng dụng hóa học ăn mòn khác.