O sistema PECVD (Sistema de Deposição Química de Vapor Aprimorado por Plasma) consiste em quatro componentes principais: um forno tubular, um sistema de vácuo, um controlador de fluxo de gás e uma fonte de alimentação por radiofrequência (RF). Esta configuração utiliza uma saída de RF de 13.56 MHz para ionizar gases que contêm os átomos formadores de filme desejados, gerando plasma. O ambiente de plasma altamente reativo intensifica as reações químicas, permitindo que materiais em fase gasosa formem filmes finos sobre um substrato. Este processo permite técnicas avançadas de fabricação de filmes finos, adequadas para a deposição de filmes de SiO₂ e SiNx em temperaturas de até 1200 °C.
Fabricação de Dispositivos Semicondutores – Permite a deposição em baixa temperatura de filmes finos de SiO₂, SiNₓ e dielétricos, essenciais para circuitos integrados, transistores e dispositivos optoeletrônicos. Garante uniformidade, adesão e camadas sem defeitos, fatores críticos para a microeletrônica de alto desempenho.
Pesquisa em Nanomateriais – Apoia o crescimento de grafeno, nanotubos de carbono e revestimentos nanoestruturados aprimorado por plasma. Oferece controle preciso sobre a espessura, composição e morfologia do filme para aplicações de nanotecnologia de última geração.
Óptica e Fotônica de Filmes Finos – Facilita a deposição PECVD de revestimentos ópticos, camadas antirreflexo e filmes de passivação. Garante índice de refração e transparência óptica controlados para sensores avançados, lentes e dispositivos fotônicos.
Materiais para Energia e Baterias – Oferece deposição de revestimentos protetores e filmes funcionais para baterias de íon-lítio e de estado sólido. Garante maior estabilidade, condutividade iônica e vida útil prolongada de sistemas avançados de armazenamento de energia.
Pesquisa em células solares – Amplamente utilizado para deposição PECVD de revestimentos de passivação e antirreflexo em substratos fotovoltaicos. Melhora a absorção de luz, a vida útil dos portadores de carga e a eficiência geral em células solares de silício cristalino e de filme fino.
MEMS e Microfabricação – Suporta a deposição de filmes assistida por plasma para sistemas microeletromecânicos (MEMS), biossensores e dispositivos microfluídicos. Oferece controle preciso sobre as propriedades do filme, essenciais para o desempenho de dispositivos miniaturizados.
Aplicações aeroespaciais e de defesa – Fornece películas finas protetoras e funcionais avançadas em ligas e cerâmicas de alto desempenho. Aumenta a durabilidade, a resistência à corrosão e a estabilidade térmica em condições extremas aeroespaciais e de defesa.
Universidades e Institutos de Pesquisa – Ideal para estudos acadêmicos avançados em processamento de plasma, ciência dos materiais, nanotecnologia e física aplicada. Combina precisão, segurança e flexibilidade para inovação e ensino em escala laboratorial.
Industrial Quality Control & Certificação – Oferece processos PECVD reproduzíveis e de alta precisão para validação de produtos e testes de conformidade. Em conformidade com as normas ISO, CE, SGS e TÜV para atender aos requisitos regulamentados do setor.
- O sistema de forno tubular CVD inclui um forno tubular, sistema de vácuo, controlador de fluxo de gás e fonte de alimentação de RF.
- O forno tubular suporta tubos de diversos diâmetros e comprimentos de zona de temperatura constante. Ambas as extremidades são equipadas com flanges de vedação de aço inoxidável de alto vácuo.
- O sistema de vácuo suporta múltiplas configurações de bomba, de acordo com as necessidades de teste. As bombas mecânicas de palhetas rotativas atingem um nível de vácuo de ≤ 5 Pa, enquanto os sistemas de bombas moleculares alcançam até 1×10⁻⁴ Pa.
- O sistema de fornecimento de gás está disponível com um controlador de fluxo de flutuação manual de 3 canais ou um controlador de fluxo de massa automático de 3 canais.
- Os níveis de vácuo são medidos usando um medidor de vácuo composto digital ou um medidor de vácuo Pirani.
- Uma fonte de alimentação RF de 13.56 MHz é usada para descarga de plasma, com saídas de potência selecionáveis de 200 W, 300 W ou 500 W.
- O forno tubular oferece opções como uma única zona de temperatura de 440 mm ou configurações de múltiplas zonas para testes de gradiente de temperatura.
- Uma porta de comunicação digital RS485 opcional e um adaptador USB no controlador de temperatura permitem conectividade com o PC, possibilitando monitoramento e controle remotos, bem como salvamento e exportação de dados.
- O produto possui certificação CE e atende aos padrões de segurança da UE.
Função de atmosfera de vácuo
- O sistema inclui flanges de vedação de aço inoxidável 304 para criar vácuo ou condições atmosféricas controladas dentro do tubo.
- Um tubo de trabalho de quartzo de alta qualidade é padrão. Tubos de metal ou alumina também estão disponíveis para atender a diferentes necessidades de aplicação.
- Uma bomba rotativa de palhetas de dois estágios de alto desempenho atinge um nível de vácuo de 5 Pa, com o status do vácuo exibido por meio de um medidor digital.
- A unidade de controle do circuito de ar oferece de 1 a 3 opções de canais para controle automatizado usando um sistema controlador de fluxo de massa (MFC).
| item | TT-CVDTF-40-1200 | TT-CVDTF-60-1200 | TT-CVDTF-80-1200 | TT-CVDTF-100-1200 |
| tamanho do tubo | Φ40 x 1200 mm | Φ60 x 1200mm | Φ80 x1200mm | Φ100 x 1200 mm |
| Temperatura máxima | 1200 ℃ | |||
| Temperatura de trabalho | 1100 ℃ | |||
| Zona de aquecimento | 440mm | |||
| Tensão / potência | 220 V/1.8 kW (110 V também está disponível) | 220 V/2.6 kW (110 V também está disponível) | 220 V/2.6 kW (110 V também está disponível) | 220 V/2.6 kW (110 V também está disponível) |
| Elemento de Aquecimento | Fio de resistência de liga de ferro-cromo-alumínio HRE | |||
| material de câmara | Material de fibra cerâmica de alumina inorgânica policristalina preparado por filtração a vácuo úmida | |||
| Material do tubo | Tubo de quartzo | |||
| Precisão de temperatura | ± 1 ℃ | |||
| Elemento de Aquecimento | Termopar tipo N | |||
| Controlador de temperatura | Instrumento inteligente de controle de temperatura PID por microcomputador, controle SCR/SSR, função de autoajuste de parâmetros PID; 30 segmentos de programa programáveis, aquecimento programável, manutenção programada da temperatura, resfriamento programável | |||
| Taxa de aquecimento | 1-25℃/min livremente definido | |||
| Estrutura do Forno | Estrutura integrada de controle de temperatura do forno, abertura e fechamento do forno; revestimento de dupla camada, circulação de ar e isolamento térmico. | |||
| Função de vedação | Ambas as extremidades do tubo do forno são equipadas com flanges de metal de aço inoxidável, combinadas com juntas de PTFE de alta temperatura, que podem funcionar sob vácuo com um grau de vácuo ≤5pa (bomba de vácuo de palhetas rotativas). | |||
| Potência de RF | Frequência: 13.56 MHz ± 0.005%, potência: 5 W-500 W, estabilidade de potência: ± 0.5% | |||
| Controlador de Gás | Medidor de vazão manual de 3 vias com flutuador (opcional), faixa de 60 a 600 ml/min; medidor de vazão mássica automático de 3 vias, faixa de 1 a 500 sccm. | |||
| Função Atmosfera | Existem entradas e saídas de ar em ambas as extremidades do flange. O manômetro está instalado no flange metálico. A válvula de agulha de precisão permite o ajuste da entrada e saída de ar, e pode ser alimentada com gases de proteção como nitrogênio, argônio e hidrogênio. | |||
| Interface de gás | Válvula de vácuo KF25 com defletor e fole de aço inoxidável KF25 para conexão da bomba de vácuo; atmosfera protetora com junta de virola de aço inoxidável de 6 mm e tubulação de PTFE. | |||
| Proteção de Equipamentos | O controle modular, com alarmes sonoros e luminosos, emitirá alertas de sobretemperatura e quebra de acoplador durante o funcionamento, e a ação de proteção será executada automaticamente. | |||
| Proteção de Segurança | O equipamento está equipado com um disjuntor que se abre automaticamente em caso de curto-circuito, protegendo assim a segurança do equipamento e dos operadores. | |||
| Concha de Forno | Processamento de corte em máquina CNC de chapa de aço laminada a frio de alta qualidade, após soldagem, retificação, polimento, fosfatização, decapagem e pintura eletrostática a pó de plástico. | |||
| Certificado de qualidade | ISO9001 CE SGS TUV | |||