Fornos tubulares CVD
Os fornos tubulares CVD (Deposição Química de Vapor) são projetados para o controle preciso da temperatura e do fluxo de gás em processos de deposição de filmes finos. Ideais para sintetizar materiais como grafeno, nanotubos de carbono e revestimentos semicondutores, esses fornos suportam CVD tanto em baixa pressão quanto em atmosfera. Com zonas de aquecimento uniformes e vedação robusta para vácuo ou atmosferas inertes, eles oferecem desempenho confiável para pesquisa e desenvolvimento de materiais avançados.