Fornos tubulares CVD

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Fornos tubulares CVD

Os fornos tubulares CVD (Deposição Química de Vapor) são projetados para o controle preciso da temperatura e do fluxo de gás em processos de deposição de filmes finos. Ideais para sintetizar materiais como grafeno, nanotubos de carbono e revestimentos semicondutores, esses fornos suportam CVD tanto em baixa pressão quanto em atmosfera. Com zonas de aquecimento uniformes e vedação robusta para vácuo ou atmosferas inertes, eles oferecem desempenho confiável para pesquisa e desenvolvimento de materiais avançados.

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Forno tubular CVD bipartido – TT-CVDTF-80-1200

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Forno tubular CVD – TT-CVDTF-80-1200

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Forno tubular PECVD – TT-CVDTF-60-1200

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Forno tubular CVD – TT-CVDTF-100-1400

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Forno tubular CVD – TT-CVDTF-60-1700

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