Sistema de deposição de laser pulsado PLD
Sistema adaptável de deposição de laser pulsado PLD e sistema de evaporação térmica - PLD-T é um sistema avançado de deposição de filme fino de alto vácuo que permite a deposição de vários materiais usando técnicas de deposição de laser pulsado e evaporação térmica. Este sistema é capaz de depositar materiais complexos e estruturas cristalinas em substratos com configuração mínima necessária.
A técnica de Deposição a Laser Pulsado facilita a ablação não térmica eficiente, preservando a estequiometria dos materiais alvo. Utilizando este método, é possível depositar materiais como nitretos, óxidos, superredes, polímeros e compósitos.
Deposição por Laser Pulsado (PLD) – Permite a transferência precisa e estequiométrica de materiais complexos, como óxidos, nitretos, polímeros e compósitos.
Filmes Finos Cristalinos – Facilitam a deposição de super-redes e estruturas cristalinas avançadas para aplicações em semicondutores e optoeletrônica.
Evaporação térmica – Permite a deposição de filmes finos de metal e dielétricos usando fontes de evaporação tipo barco, cesto ou bobina.
Preparação de amostras para microscopia eletrônica de varredura (MEV) e microscopia eletrônica de transmissão (MET) – Produz revestimentos de alta qualidade para amostras não condutoras e grades de suporte.
Estudos espectroscópicos e estruturais – Fornece filmes finos uniformes adequados para EDS/WDS, EBSD e caracterização óptica.
Pesquisa e Desenvolvimento de Filmes Finos – Útil para pesquisas em microeletrônica, nanotecnologia, supercondutores e células solares.
Limpeza por plasma e preparação do substrato – Garante superfícies livres de contaminação para o crescimento preciso e reproduzível de filmes finos.
Laboratórios Acadêmicos e de Pesquisa – Plataforma flexível para ensino, treinamento avançado e projetos de pesquisa multidisciplinares.
- Manipulador de Alvo: Velocidade de rotação ajustável para posicionamento preciso.
- Fontes Térmicas: Três fontes térmicas com passagem especial para funcionalidade aprimorada.
- Medição de espessura em tempo real: Sistema de monitoramento de cristal de quartzo com precisão de 1 nm para medição precisa.
- Interface amigável: Tela de toque intuitiva para fácil controle do processo de revestimento e rápida entrada de dados.
- Limpeza Plasmática: Facilidade para limpeza de plasma para garantir a preparação ideal do substrato.
- Software atualizável: Software fácil de usar que pode ser atualizado pela rede para melhorar o desempenho.
- Manuseio de amostras: Equipado com porta-amostras rotativo e obturador eletrônico para gerenciamento eficiente de amostras.
- Seleção de barco motorizado: Capacidade de selecionar e manusear materiais de barco com funcionalidade motorizada.
- Aquecimento do substrato: Aquecedor de substrato de 500 °C para facilitar processos de deposição controlada.
- Garantia e Seguro: Garantia de dois anos para o sistema e cobertura mundial por seguro de responsabilidade civil e de produto para proteção adicional contra danos materiais ou pessoais causados pelos sistemas Vac Coat.
Fontes de Evaporação Térmica (Barco/Cesta/Bobina):
O Sistema de Deposição a Laser Pulsado é adaptável a três fontes independentes de evaporação térmica resistentes ao calor, que podem ser na forma de barcos, cestos ou bobinas. Essas fontes são projetadas para evaporação eficiente do material sem causar transferência de contaminação para outros materiais. O comprimento dos suportes das fontes é ajustável na faixa de 5 a 10 cm, atendendo às necessidades específicas do cliente.
Manipulador de Alvo:
O sistema PLD possui um manipulador multi-alvo equipado para manusear três alvos, cada um com diâmetro de 2 cm. Os alvos são de tamanho padrão e todos os manipuladores de alvos são motorizados, permitindo rotação e posicionamento precisos do alvo durante o processo de deposição.
Controle intuitivo da tela de toque com tela vibrante:
O Sistema de Deposição a Laser Pulsado PLD-T foi projetado com uma tela de toque colorida de 7 polegadas de fácil utilização, fornecendo uma interface intuitiva para fácil controle e monitoramento. A tela sensível ao toque permite controle totalmente automático e entrada de dados sem esforço, tornando-a acessível até mesmo para usuários com experiência limitada.
Os usuários podem observar convenientemente os níveis de vácuo, o status atual e as informações de deposição exibidas em formato digital e curvas gráficas diretamente na tela sensível ao toque. Além disso, o sistema inclui uma página de histórico onde os dados dos últimos 300 revestimentos podem ser salvos e revisados para referência e análise. Esse recurso aumenta a eficiência e facilita uma experiência de usuário perfeita durante todo o processo de revestimento.
Estas especificações descrevem os principais componentes e recursos do Sistema de Deposição a Laser Pulsado e Evaporador Térmico, destacando suas capacidades em operação a vácuo, fonte de alimentação, controle de fluxo de gás, análise de dados e facilidade de uso.
Opções e Acessórios para PLD-T:
Fontes de evaporação térmica:
- Disponível em configurações de barco, cesta ou bobina para atender a diferentes requisitos de deposição.
Aquecedor de substrato:
- Capaz de aquecer até 500°C para facilitar o controle preciso da temperatura do substrato durante a deposição.
Materiais de fontes de evaporação:
- Vários materiais compatíveis com fontes de evaporação térmica, permitindo uma ampla gama de opções de materiais para deposição.
Sensores de cristal de quartzo:
- Essencial para monitoramento de espessura em tempo real com alta precisão usando sensores de cristal de quartzo.
Juntas de vedação:
- Juntas projetadas para vedação eficaz, garantindo condições herméticas durante o processo de deposição.
Essas opções e acessórios aumentam a versatilidade e a funcionalidade do sistema PLD-T, permitindo processos de deposição de filmes finos personalizados e eficientes, mantendo ao mesmo tempo alta precisão e controle.
Especificações do sistema de deposição a laser pulsado e evaporador térmico:
Sistema de vácuo:
- Bomba turbomolecular de alto vácuo para operação de vácuo eficiente.
- Bomba de apoio de diafragma para suportar o sistema de vácuo.
Medição de vácuo: Manômetro de vácuo com faixa completa para medir com precisão os níveis de vácuo.
Medição de espessura em tempo real: Sistema de monitoramento com cristal de quartzo com precisão de 1 nm para medições exatas.
Fonte de alimentação: Fonte de alimentação de alta corrente de 5 KW para operação eficiente.
Controle de Fluxo de Gás: Medidor de Vazão Mássica (MFC) de Precisão para controle preciso de fluxos de gás.
Registro e análise de dados: Capacidade de registrar e plotar gráficos de parâmetros de revestimento para análise detalhada.
Transferência de dados: Possibilidade de transferir curvas e dados do processo de deposição para um PC através de uma porta USB para posterior análise e documentação.
Especificações técnicas: Requisitos de energia: 220V-240V, 50/60HZ, 16A.
Dimensões: Dimensões da caixa: 50 cm A x 60 cm L x 47 cm P.
Peso: Peso para envio: 70 kg.
