Forno di sinterizzazione a sollevamento TT-LF-300-1700

Prodotto principale

Il forno di sinterizzazione a sollevamento TT-LF-300-1700 è progettato per la sinterizzazione ad alta temperatura di materiali avanzati come ceramiche elettroniche, materiali magnetici, ceramiche funzionali, ceramiche strutturali, target ITO e materiali compositi. Grazie al controllo preciso della temperatura e alla struttura robusta, garantisce prestazioni stabili ed efficienti nei processi termici più complessi.

Questo forno è ideale per la produzione su piccola scala sia in laboratorio che in ambienti industriali. Dotato di una spaziosa camera da 300 litri, affidabili elementi riscaldanti in MoSi₂ e una precisione di temperatura di ±1°C, offre risultati costanti e riproducibili per la ricerca e applicazioni specializzate nella lavorazione dei materiali.

  • Ceramiche elettroniche – Consente la sinterizzazione e la densificazione ad alta temperatura dei componenti ceramici elettronici, garantendo un isolamento elettrico superiore, proprietà dielettriche e stabilità a lungo termine.

  • Materiali magnetici – Fornisce un riscaldamento preciso e uniforme per la lavorazione di materiali magnetici, supportando lo sviluppo di ferriti e ceramiche magnetiche avanzate utilizzate nei settori dell'elettronica e delle telecomunicazioni.

  • Ceramiche funzionali e strutturali – Facilita la sinterizzazione di ceramiche ad alte prestazioni con eccellente resistenza termica, resistenza meccanica e durabilità chimica per applicazioni industriali e ingegneristiche.

  • Target e film sottili di ITO – Supporta la sinterizzazione di target di ossido di indio-stagno (ITO) utilizzati in display, celle solari e dispositivi optoelettronici, garantendo elevata densità, uniformità e conduttività.

  • Materiali compositi – Ottimizzati per il consolidamento e il trattamento termico di sistemi compositi, consentono prestazioni superiori per applicazioni aerospaziali, automobilistiche ed energetiche.

  • Ricerca sui nanomateriali – Fornisce un controllo termico preciso per nanostrutture e compositi avanzati, supportando la ricerca su materiali funzionali, catalisi e sistemi di accumulo di energia di nuova generazione.

  • Materiali semiconduttori – Adatti per la ricottura, l'ossidazione e la sinterizzazione di substrati semiconduttori ad altissime temperature, fondamentali per la microelettronica, la fotonica e l'optoelettronica.

  • Ricerca e produzione industriale – Progettato per la produzione su piccola scala e l'uso in laboratorio, combina risultati riproducibili con un'elevata durata per università, centri di ricerca e sviluppo e industrie specializzate.

Rivestimento della fornace

  • Realizzato in acciaio a basso tenore di carbonio Q235 con trattamento superficiale che resiste all'accumulo di elettricità statica e alla corrosione.
  • Il design resistente della scocca in metallo assicura una bassa temperatura della superficie esterna.
  • Dotato di porta con flangia sigillata e meccanismo di bloccaggio manuale a vite, con configurazione ad apertura laterale per un utilizzo più semplice.
  • La piattaforma inferiore è azionata da un servomotore con controllo di precisione basato su PLC. Direzione e velocità di rotazione sono regolabili, consentendo il movimento in avanti e indietro. Ciò garantisce una distribuzione uniforme del calore e un riscaldamento costante del campione ad alte temperature.

Materiale refrattario

  • Sistema di isolamento multistrato realizzato in fibra ceramica di allumina leggera e pannelli isolanti termici di alta qualità. Il design è privo di amianto, riduce al minimo la dispersione di calore e favorisce un basso consumo energetico.

Sistema di Riscaldamento

  • Gli elementi riscaldanti a resistenza di alta qualità garantiscono un riscaldamento efficiente e radiante in tutta la camera, progettati per garantire durata e lunga durata.
  • Gli elementi riscaldanti ad anello su tutti i lati garantiscono una distribuzione uniforme della temperatura all'interno del forno.
  • Le caratteristiche opzionali includono una porta di scarico superiore e un ingresso dell'aria regolato nella parte inferiore del forno.
  • Il vassoio di carico alla base può contenere contenitori impilati, consentendo due o tre strati di materiali, a seconda della configurazione del forno.

Pannello di controllo della temperatura

  • Regolatore PID ad alta precisione con controllo SSR/SCR per una regolazione della temperatura stabile e precisa.
  • Dotato di una termocoppia di lunga durata realizzata secondo gli standard internazionali.

Controller di programma

  • Controller avanzato per supportare processi termici complessi.
  • Interfaccia intuitiva con capacità di programmazione flessibili.
  • Supporta fino a 30 segmenti programmabili per curva di riscaldamento.
  • Include protezione da sovratemperatura e allarmi di guasto per una risposta di sicurezza automatica.

Opzioni funzionali

  • Sistema di raffreddamento ad aria opzionale per un raffreddamento rapido: può portare rapidamente la temperatura del forno a 400 °C.
  • Controllo manuale o automatico opzionale dell'ingresso dell'aria per supportare la lavorazione in atmosfera controllata.

Forno di sinterizzazione a sollevamento TT-LF-300-1700
Forno di sinterizzazione a sollevamento TT-LF-300-1700
Forno di sinterizzazione a sollevamento TT-LF-300-1700

Modello

Dimensioni della camera (mm)

Volume

Temperatura massima

Temperatura di Esercizio

Tensione

Potenza

Elemento riscaldante

Precisione del controllo della temperatura

TT-LF-96-1200400 × 600 × 40096L1200 ℃1100 ℃380V18KWHRE± 1 ℃
TT-LF-288-1200600 × 800 × 600288L1200 ℃1100 ℃380V30KWHRE± 1 ℃
TT-LF-640-1200800 × 1000 × 800640L1200 ℃1100 ℃380V45KWHRE± 1 ℃
TT-LF-96-1400400 × 600 × 40096L1400 ℃1300 ℃380V21KWSIC± 1 ℃
TT-LF-288-1400600 × 800 × 600288L1400 ℃1300 ℃380V30KWSIC± 1 ℃
TT-LF-640-1400800 × 1000 × 800640L1400 ℃1300 ℃380V50KWSIC± 1 ℃
TT-LF-96-1700400 × 600 × 40096L1700 ℃1600 ℃380V25KWMoSi2± 1 ℃
TT-LF-150-1700500 × 600 × 500150L1700 ℃1600 ℃380V35KWMoSi2± 1 ℃
TT-LF-324-1700600 × 900 × 600324L1700 ℃1600 ℃380V60KWMoSi2± 1 ℃
TT-LF-640-1700800 × 1000 × 800640L1700 ℃1600 ℃380V80KWMoSi2± 1 ℃
TT-LF-96-1800400 × 600 × 40096L1750 ℃1700 ℃380V25KWMoSi2± 1 ℃
TT-LF-150-1800500 × 600 × 500150L1750 ℃1700 ℃380V35KWMoSi2± 1 ℃
TT-LF-324-1800600 × 900 × 600324L1750 ℃1700 ℃380V60KWMoSi2± 1 ℃

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