Spruzzatore da tavolo con target a triplo magnetron, alto vuoto, con evaporatore termico-DST3-TA/S
Il DST3-TA/S, Triple Target Turbo Pumped Sputter Coater da tavolo ad alto vuoto con evaporatore termico e triplo magnetron, è un versatile sistema di rivestimento multi-vuoto che combina le capacità di evaporazione termica e di rivestimento sputtering in un'unica unità desktop compatta.
Questo sistema ad alto vuoto è adatto per la deposizione di un'ampia gamma di materiali. Il sistema di sputtering da tavolo con triplo magnetron può facilmente passare dalla modalità di evaporazione a quella di sputtering, sebbene non possa eseguirle entrambe contemporaneamente.
- Film metallici, semiconduttori e dielettrici
- Nano e microelettronica
- Applicazioni delle celle solari
- Processi di co-sputtering
- Contento di sputacchiare
- Rivestimento dei componenti ottici
- Sensori a film sottile
- Dispositivi magnetici a film sottile
- Applicazioni di memoria del computer
- Deposizione strutturale a grana fine per la preparazione dei campioni SEM e FE-SEM
- Processo di Sputtering ed Evaporazione Termica in un sistema compatto
- Livello di vuoto elevato
- Dotato di alimentatori DC e RF adatti per metalli, semiconduttori e dielettrici
- Tre catodi magnetron angolari da 2" raffreddati ad acqua adatti alla produzione di film in lega (DST3-TA) e alla deposizione multistrato
- Un'installazione di fonte termica
- Due sistemi di monitoraggio a cristalli di quarzo fissi e mobili per la misurazione dello spessore in tempo reale (precisione di 1 nm)
- Due MFC
- Deposizione manuale o automatica temporizzata o a spessore
- FELICE farfugliare
- Pulizia al plasma
- Touch screen intuitivo per controllare il processo di rivestimento e inserire rapidamente i dati
- Software facile da usare che può essere aggiornato via rete
- Dotato di 3 serrande manuali
- I prodotti Vac Coat sono coperti in tutto il mondo da un'assicurazione di responsabilità civile e da quella di prodotto nel caso in cui si verifichino danni materiali o lesioni personali causati dai sistemi Vac Coat.
- Portacampioni rotativo coltivabile e modificabile in altezza con possibilità di selezione dei catodi
- Riscaldatore del substrato da 500 °C (opzionale)
- Tensioni di polarizzazione del substrato da 300 V CC (opzionali)
- Tempo di deposizione illimitato senza interrompere il vuoto
- Due anni di garanzia
Evaporazione termica del rivestimento Sputter con pompa turbo a triplo target
Il DST3-T è dotato di un robusto alimentatore ad alta corrente e di una piattaforma di evaporazione termica resistiva a bassa tensione adatta per un'ampia gamma di applicazioni di evaporazione termica. Questo sistema di rivestimento a spruzzo consente un'evaporazione termica precisa di vari materiali su un substrato. Puoi montare facilmente diversi tipi di fonti di evaporazione termica, come barche, cestelli e bobine, su un unico supporto per una maggiore flessibilità.
Controllo Touch Screen
Il rivestimento Sputter pompato turbomolecolare Triple Target è dotato di un'interfaccia touch screen a colori da 7 pollici intuitiva che offre controllo semiautomatico e facile immissione dei dati, rendendolo accessibile anche agli utenti inesperti. È possibile visualizzare i dati relativi al vuoto e alla deposizione in formato digitale o come curve grafiche sul touch screen. Inoltre, le informazioni sugli ultimi 300 rivestimenti possono essere comodamente archiviate nella pagina della cronologia.
Supporto per campioni del sistema di verniciatura a sputtering
Il portacampioni è progettato per accogliere vetrini per microscopio standard, ma può anche essere personalizzato per soddisfare requisiti specifici. È dotato di morsetti multipli che mantengono saldamente in posizione piccoli campioni durante la rotazione, offrendo una soluzione semplice per la gestione dei campioni.
Detergente al plasma
Il rivestimento sputtering a triplo target DST3-T offre anche l'opzione di un pulitore al plasma. La pulizia al plasma sottovuoto è un processo che prevede l'utilizzo di gas ionizzato, noto come plasma, per rimuovere i contaminanti organici dalla superficie di un substrato. Questa fase di pre-pulizia è essenziale prima di depositare una pellicola per garantire che qualsiasi contaminazione, come residui di carbonio o ossido, venga eliminata dalla superficie del substrato. Questo processo migliora l'adesione tra il substrato e gli strati successivi.
Pulire l'aspirapolvere del rivestimento Sputter
La camera a vuoto dello Sputter Coater DST3-T è realizzata in Pyrex cilindrico con dimensioni di 300 mm di diametro esterno e 200 mm di altezza. Questo sistema è dotato di una pompa turbomolecolare da 90 l/s montata internamente, supportata da una pompa a membrana da 1.4 m3/h o da una pompa a palette rotativa a due stadi da 4 m3/h.
Il DST3-T, Magnetron Desk Sputter Coater, è dotato di un'ampia camera dal diametro di 300 mm ed è dotato di tre catodi raffreddati ad acqua da 2” di diametro. Questo design consente tempi di deposizione prolungati quando necessario. Il rivestimento sputtering da tavolo con magnetron è dotato di alimentatori sia RF che CC, che gli consentono di spruzzare vari materiali, inclusi semiconduttori, dielettrici e metalli sia ossidanti che nobili.
Per migliorare l'adesione delle pellicole sottili al substrato e migliorare la qualità della pellicola, è disponibile una funzione opzionale che consente di applicare una tensione di polarizzazione di 300 V CC al substrato. Inoltre, il sistema di rivestimento sputtering include una scatola di corrispondenza autoregolabile, che aiuta a ridurre al minimo la potenza riflessa durante il processo di sputtering RF.
A seconda dello stato dei catodi, DST3-T è disponibile in due modelli:
DST3-TA (catodi angolati):
Il DST3-TA presenta tre catodi angolati che condividono un punto focale comune. Questo sistema di verniciatura a spruzzo ha la capacità di spruzzare simultaneamente o indipendentemente da due o tre target (opzionali). Questa flessibilità consente la deposizione di leghe o rivestimenti multistrato, a seconda delle specifiche esigenze. In questo modello, la dimensione massima dei substrati che possono essere ospitati è fino a 3 pollici di diametro.
DST3-TS (catodi diritti):
DST3-TS con tre catodi diritti da 2 pollici raffreddati ad acqua è adatto per lo sputtering di un singolo campione di grandi dimensioni con diametro fino a 20 cm o di diversi campioni piccoli.
- Pompa turbomolecolare ad alto vuoto
Velocità di pompaggio | 90 l / s | 350 l / s |
Massima pressione | 7×10 -6 Torr | 7 × 10-7 Torr |
- Pompa turbomolecolare ad alto vuoto
- Pompa rotativa a palette bistadio 4 m3/h
- Velocità di controllo dello sputtering indipendente per ciascun catodo per produrre strutture a grana fine
- Controllo automatico della potenza di deposizione indipendente dalla pressione
- Controllo automatico delle temperature del catodo per preservare la durata dei magneti
- Passante elettrico ad alta corrente raffreddato ad acqua
- Due Mass Flow Controller (MFC) di precisione per il controllo preciso del flusso di Ar e quindi del gas sputtering reattivo
- Registrazioni e grafici dei parametri di rivestimento
- Trasferisce le curve e i dati del processo di deposizione tramite una porta USB al PC
- Tensione di polarizzazione 300 V CC (opzionale)
- Dotato di pulitore al plasma (opzionale)
- Dotato di riscaldatore del substrato a 500˚C (opzionale)
- Alimentazione CC 0-1200 V, 0-500 mA
- Alimentatore ad alta corrente 0-24 V, 0-100 A
- Alimentatore RF da 300 W con scatola di abbinamento automatico
- Utilità: 220V-240V, 50/60HZ, 16A
- Dimensioni della scatola: 50 cm A x 60 cm L x 47 cm P
- Peso di spedizione: 160 kg (pompa, rack e scatola)
Opzioni e accessori
Il rivestimento Sputter pompato turbomolecolare a triplo target – DST3-T dispone delle seguenti opzioni e accessori:
- Sensori al cristallo di quarzo
- Camera in vetro a vuoto di ricambio
- Obiettivi sputtering
- Materiali di origine termica
- Tensione di polarizzazione 300 V CC
- Pulitore al plasma
- Riscaldatore del substrato da 500˚C