Hệ thống lắng đọng xung laser PLD

Hệ thống lắng đọng xung laser và hệ thống bay hơi nhiệt PLD có thể thích ứng – PLD-T là hệ thống lắng đọng màng mỏng chân không cao tiên tiến cho phép lắng đọng các vật liệu khác nhau bằng cách sử dụng cả kỹ thuật lắng đọng xung và bay hơi nhiệt. Hệ thống này có khả năng lắng đọng các vật liệu và cấu trúc tinh thể phức tạp lên các chất nền với yêu cầu thiết lập tối thiểu.

Kỹ thuật lắng đọng xung laser tạo điều kiện cho quá trình cắt bỏ không nhiệt hiệu quả, bảo toàn tính năng cân bằng hóa học của vật liệu mục tiêu. Bằng cách sử dụng phương pháp này, có thể lắng đọng các vật liệu như nitrit, oxit, siêu mạng, polyme và vật liệu tổng hợp.

  • Phương pháp lắng đọng laser xung (PLD) – Cho phép chuyển giao chính xác, theo tỷ lệ mol của các vật liệu phức tạp như oxit, nitrit, polyme và vật liệu composite.

  • Màng mỏng tinh thể – Tạo điều kiện thuận lợi cho việc lắng đọng các siêu mạng và cấu trúc tinh thể tiên tiến cho các ứng dụng bán dẫn và quang điện tử.

  • Bay hơi nhiệt – Hỗ trợ lắng đọng màng mỏng kim loại và điện môi bằng cách sử dụng các nguồn bay hơi dạng thuyền, giỏ hoặc cuộn dây.

  • Chuẩn bị mẫu cho kính hiển vi điện tử quét (SEM) và kính hiển vi điện tử truyền qua (TEM ) – Tạo ra các lớp phủ chất lượng cao cho các mẫu vật không dẫn điện và lưới đỡ.

  • Nghiên cứu quang phổ và cấu trúc – Cung cấp các màng mỏng đồng nhất phù hợp cho EDS/WDS, EBSD và phân tích quang học.

  • Nghiên cứu và phát triển màng mỏng – Hữu ích cho các nghiên cứu về vi điện tử, công nghệ nano, chất siêu dẫn và pin mặt trời.

  • Làm sạch bằng plasma và chuẩn bị bề mặt nền – Đảm bảo bề mặt không bị nhiễm bẩn để tạo ra lớp màng mỏng chính xác và có thể tái tạo được.

  • Phòng thí nghiệm học thuật và nghiên cứu – Nền tảng linh hoạt cho giảng dạy, đào tạo nâng cao và các dự án nghiên cứu đa ngành.

  • Người thao túng mục tiêu: Tốc độ quay có thể điều chỉnh để định vị chính xác.
  • Nguồn nhiệt: Ba nguồn nhiệt với nguồn cấp dữ liệu đặc biệt để nâng cao chức năng.
  • Đo độ dày thời gian thực: Hệ thống giám sát tinh thể thạch anh với độ chính xác 1 nm cho kết quả đo chính xác.
  • Giao diện thân thiện với người dùng: Màn hình cảm ứng trực quan để dễ dàng kiểm soát quá trình phủ và nhập dữ liệu nhanh chóng.
  • Làm sạch bằng plasma: Cơ sở làm sạch bằng plasma để đảm bảo chuẩn bị bề mặt tối ưu.
  • Phần mềm có thể nâng cấp: Phần mềm thân thiện với người dùng có thể được cập nhật qua mạng để cải thiện hiệu suất.
  • Xử lý mẫu: Được trang bị giá đỡ mẫu quay và màn trập điện tử để quản lý mẫu hiệu quả.
  • Lựa chọn thuyền máy: Khả năng lựa chọn và xử lý vật liệu thuyền có chức năng cơ giới.
  • Hệ thống sưởi nền: Bộ gia nhiệt bề mặt 500°C để tạo thuận lợi cho quá trình lắng đọng được kiểm soát.
  • Bảo hành và bảo hiểm: Bảo hành hai năm cho hệ thống và bảo hiểm trách nhiệm công cộng và sản phẩm trên toàn thế giới để tăng cường bảo vệ chống lại thiệt hại về tài sản hoặc thương tích cá nhân do hệ thống Vac Coat gây ra.

MÁY PHỦ SPUTTER / HỆ THỐNG SƠN CHÂN KHÔNG

Nguồn bay hơi nhiệt (Thuyền/Giỏ/Cuộn dây):

Hệ thống lắng đọng xung laser có thể thích ứng với ba nguồn bay hơi nhiệt chịu nhiệt độc lập, có thể ở dạng thuyền, giỏ hoặc cuộn dây. Những nguồn này được thiết kế để bay hơi vật liệu hiệu quả mà không gây ô nhiễm sang các vật liệu khác. Chiều dài của giá đỡ nguồn có thể điều chỉnh trong phạm vi từ 5 đến 10 cm, đáp ứng các yêu cầu cụ thể của khách hàng.

MÁY PHỦ SPUTTER / HỆ THỐNG SƠN CHÂN KHÔNG

Người thao túng mục tiêu:

Hệ thống PLD có bộ điều khiển đa mục tiêu được trang bị để xử lý ba mục tiêu, mỗi mục tiêu có đường kính 2 cm. Các mục tiêu có kích thước tiêu chuẩn và tất cả các bộ điều khiển mục tiêu đều được cơ giới hóa, cho phép xoay và định vị mục tiêu chính xác trong quá trình lắng đọng.

Điều khiển màn hình cảm ứng trực quan với màn hình sống động:

Hệ thống lắng đọng xung laser PLD-T được thiết kế với màn hình cảm ứng màu 7 inch thân thiện với người dùng, cung cấp giao diện trực quan để dễ dàng điều khiển và giám sát. Màn hình cảm ứng cho phép điều khiển hoàn toàn tự động và nhập dữ liệu dễ dàng, giúp người dùng có kinh nghiệm hạn chế có thể truy cập được.

Người dùng có thể thuận tiện quan sát mức độ chân không, trạng thái hiện tại và thông tin lắng đọng được hiển thị ở cả định dạng kỹ thuật số và đường cong đồ họa trực tiếp trên màn hình cảm ứng. Ngoài ra, hệ thống còn bao gồm một trang lịch sử nơi dữ liệu từ 300 lớp phủ gần đây nhất có thể được lưu và xem lại để tham khảo và phân tích. Tính năng này nâng cao hiệu quả và tạo điều kiện cho người dùng trải nghiệm liền mạch trong suốt quá trình phủ.

MÁY PHỦ SPUTTER / HỆ THỐNG SƠN CHÂN KHÔNGMÁY PHỦ SPUTTER / HỆ THỐNG SƠN CHÂN KHÔNG

Các thông số kỹ thuật này phác thảo các thành phần và tính năng chính của Hệ thống bay hơi nhiệt & lắng đọng xung laser, nêu bật các khả năng của nó trong vận hành chân không, cung cấp điện, kiểm soát lưu lượng khí, phân tích dữ liệu và tính dễ sử dụng.

Tùy chọn và phụ kiện cho PLD-T:

Nguồn bay hơi nhiệt:

  • Có sẵn ở các cấu hình Thuyền, Giỏ hoặc Cuộn dây để phù hợp với các yêu cầu lắng đọng khác nhau.

Chất nền nóng:

  • Có khả năng gia nhiệt lên đến 500°C để kiểm soát nhiệt độ nền chính xác trong quá trình lắng đọng.

Nguồn bay hơi Vật liệu:

  • Các vật liệu khác nhau tương thích với các nguồn bay hơi nhiệt, cho phép có nhiều lựa chọn vật liệu để lắng đọng.

Cảm biến tinh thể thạch anh:

  • Cần thiết để theo dõi độ dày theo thời gian thực với độ chính xác cao bằng cảm biến tinh thể thạch anh.

Niêm phong các miếng đệm:

  • Vòng đệm được thiết kế để bịt kín hiệu quả, đảm bảo điều kiện kín khí trong quá trình lắng đọng.

Các tùy chọn và phụ kiện này nâng cao tính linh hoạt và chức năng của hệ thống PLD-T, cho phép thực hiện các quy trình lắng đọng màng mỏng phù hợp và hiệu quả trong khi vẫn duy trì độ chính xác và khả năng kiểm soát cao.

Thông số kỹ thuật của hệ thống bay hơi nhiệt và lắng đọng xung laser:

Hệ thống chân không:

  • Bơm turbo phân tử chân không cao để vận hành chân không hiệu quả.
  • Bơm hỗ trợ màng ngăn để hỗ trợ hệ thống chân không.

Đo áp suất chân không: Đồng hồ đo áp suất chân không toàn dải để đo chính xác mức độ chân không.

Đo độ dày theo thời gian thực: Hệ thống giám sát bằng tinh thể thạch anh với độ chính xác 1 nm cho phép đo chính xác.

Nguồn điện: Nguồn điện công suất cao 5 KW cho hoạt động hiệu quả.

Kiểm soát lưu lượng khí: Đồng hồ đo lưu lượng khối lượng chính xác (MFC) để kiểm soát lưu lượng khí một cách chính xác.

Ghi nhận và phân tích dữ liệu: Có khả năng ghi lại và vẽ đồ thị các thông số lớp phủ để phân tích chi tiết.

Truyền dữ liệu: Có khả năng truyền dữ liệu về đường cong và quy trình lắng đọng sang máy tính thông qua cổng USB để phân tích và lưu trữ thêm.

Thông số kỹ thuật: Nguồn điện yêu cầu: 220V-240V, 50/60HZ, 16A.

Kích thước: Kích thước hộp: Cao 50 cm x Rộng 60 cm x Sâu 47 cm.

Trọng lượng: Trọng lượng vận chuyển: 70 kg.

NHẬN BÁO GIÁ

Bài viết liên quan

Hiển thị 1 - 2 của 2
Hướng dẫn thực hành về phương pháp lắng đọng bằng laser xung

Hướng dẫn thực hành về phương pháp lắng đọng bằng laser xung

Tại sao một số phòng thí nghiệm tạo ra được những lớp màng mỏng hoàn hảo trong khi những phòng khác lại chỉ đạt được kết quả không đồng đều? Trong ngành kinh doanh đầy cạnh tranh khốc liệt của việc chế tạo vật liệu mới, việc làm cho những lớp màng mỏng đó bám dính tốt là yếu tố quyết định thành bại. Chúng tôi khẳng định: kỹ thuật lắng đọng laser xung này là nhà vô địch trong việc chuyển đổi các công thức phức tạp từ dạng phôi sang dạng tấm mà không gặp trở ngại. Dưới đây là những bí quyết để có được những lớp màng hoàn hảo, chất lượng hàng đầu trong hướng dẫn thực hành về lắng đọng laser xung. Những điểm chính cần ghi nhớ: Nhà vô địch về công thức: Chúng tôi coi phương pháp lắng đọng laser xung là kỹ thuật tốt nhất tuyệt đối để sao chép…
So sánh máy phủ màng chân không cao và chân không thấp

So sánh máy phủ màng chân không cao và chân không thấp

Việc lựa chọn thiết bị phù hợp để phủ mẫu là một quyết định quan trọng đối với bất kỳ cơ sở nghiên cứu nào. Khi bạn thiết lập phòng thí nghiệm để phân tích độ chính xác cao, mọi chi tiết kỹ thuật đều quan trọng. Một trong những cân nhắc chính mà chúng tôi thấy các nhóm nghiên cứu đang cân nhắc là lựa chọn giữa máy phủ chân không cao và máy phủ chân không thấp. Chúng ta sẽ cùng phân tích ưu điểm và nhược điểm của cả hai phương pháp để bạn có thể chọn thiết bị phù hợp với mục tiêu nghiên cứu dài hạn của mình. Những điểm chính cần lưu ý: Môi trường chân không sâu mang lại bề mặt hoàn toàn sạch sẽ và cực kỳ mịn màng cho việc chụp ảnh tiên tiến, trong khi các thiết lập chân không tiêu chuẩn cung cấp khả năng phủ nhanh chóng…