Forno tubular de grande diâmetro de 300 mm – TT-LDTF-300-1200
O forno tubular de grande diâmetro de 300 mm – TT-LDTF-300-1200 – foi projetado com um diâmetro de tubo amplo, uma zona de temperatura constante estendida e controle preciso de temperatura, tornando-o ideal para a sinterização de múltiplas amostras ou para a realização de experimentos em escala piloto. Este forno oferece desempenho térmico confiável e consistente, garantindo aquecimento uniforme para uma variedade de aplicações industriais e de pesquisa.
Comumente utilizado em pesquisa de semicondutores, nanomateriais, fibra de carbono e processamento de grafeno, o TT-LDTF-300-1200 oferece uma solução econômica para processamento térmico avançado. Possui um tubo reator de quartzo de Φ300 mm com uma zona de aquecimento de 900 mm, suportando operação contínua a 1100 °C e atingindo uma temperatura máxima de 1200 °C. O aquecimento é realizado por meio de elementos de fibra cerâmica de alumina policristalina tipo 1500, com monitoramento de temperatura feito por um termopar tipo N. O sistema opera com 380 V/12 kW, proporcionando desempenho eficiente e robusto para aplicações em escala laboratorial e piloto.
Pesquisa em Semicondutores – Oferece tratamento térmico preciso e uniforme para wafers e componentes semicondutores. Suporta processos como recozimento, sinterização e dopagem de materiais com controle preciso de temperatura até 1200 °C.
Processamento de nanomateriais e grafeno – Ideal para sinterização e tratamento térmico de nanomateriais avançados, incluindo grafeno e estruturas à base de carbono. Garante perfis térmicos consistentes para propriedades de materiais reproduzíveis.
Materiais para baterias de lítio – Permite o processamento em escala piloto de materiais de cátodo e ânodo para baterias de íon-lítio. Mantém o aquecimento uniforme e a capacidade de gradiente de temperatura para otimização do material.
Pesquisa Avançada em Energia e Materiais – Possibilita o processamento térmico de cerâmicas de alto desempenho, fibras de carbono e materiais compósitos. Oferece operação estável em altas temperaturas para testes de P&D e produção.
Sinterização em escala piloto – Zonas extensas de temperatura constante e múltiplos segmentos de aquecimento controlados independentemente permitem o processamento em lote eficiente e experimentos em escala piloto.
Aplicações em vácuo e atmosfera controlada – Compatível com ambientes de vácuo e gás inerte. Suporta uma ampla gama de processos de CVD e outros tratamentos térmicos em atmosfera controlada.
Pesquisa e Desenvolvimento Industrial e Desenvolvimento de Processos – Oferece desempenho térmico confiável e de alta capacidade para estudos piloto em laboratório e na indústria. Adequado para testes de novos materiais, produção em pequenos lotes e validação de processos.
Garantia de Qualidade e Segurança – Equipado com controle de temperatura PID, termopares de alta qualidade, proteção contra sobretemperatura e desligamento automático em caso de falha. Atende a padrões rigorosos de desempenho consistente e segurança do operador.
Universidades e Institutos de Pesquisa – Adequado para estudos avançados em ciência dos materiais, engenharia química e pesquisa energética. Oferece perfis de aquecimento programáveis e alta estabilidade térmica para reprodutibilidade experimental.
Eficiência energética e de custos – Projetado com isolamento multicamadas, elementos de aquecimento HRE eficientes e uma estrutura de forno com isolamento térmico para reduzir o consumo de energia, mantendo uma distribuição uniforme de temperatura.
O forno tubular de grande diâmetro consiste em um sistema de aquecimento, sistema de controle de temperatura, tubo de trabalho, kit de vedação e um mecanismo automático de abertura da tampa. Suporta ambientes de vácuo e atmosfera, tornando-o adequado para uma ampla gama de processos de CVD. Múltiplas zonas de temperatura podem ser configuradas para criar um campo térmico altamente uniforme e suportar experimentos de gradiente de temperatura em diversos materiais.
Este forno é amplamente utilizado para sinterização em escala piloto, bem como para processamento de materiais em áreas como grafeno, eletrodos de bateria de lítio, semicondutores e setores avançados de energia e materiais que exigem tratamento térmico em lote.
Concha de Forno
- Construído em aço de baixo carbono Q235 com acabamento eletrostático e resistente à corrosão
- Estrutura metálica durável de camada dupla integrada com uma estrutura de ventilador com isolamento térmico para garantir baixa temperatura de superfície
- Configuração horizontal com design de abertura superior para acesso fácil ao usuário
Isolamento Refratário
- Isolamento multicamadas composto por fibra cerâmica de alumina leve e placa de isolamento premium
- Livre de amianto
- Minimiza a perda de calor e reduz o consumo de energia
Sistema de Aquecimento
- Construído com elementos de aquecimento de metal e cerâmica de alto desempenho que fornecem aquecimento radiante em toda a câmara
- O design com eficiência energética garante uma longa vida útil
- Layout de aquecimento circular ou de dois lados para excelente uniformidade térmica
- Configuração de aquecimento de três zonas com controle independente para cada zona, melhorando a consistência da temperatura
Painel de controle de temperatura
- Controle PID com saída SSR/SCR para regulação térmica precisa
- Utiliza termopares de alta qualidade com vida útil prolongada
- Inclui indicador de status de aquecimento e alarme sonoro de superaquecimento
Controlador de Programa
- Capaz de lidar com ciclos térmicos complexos
- Interface amigável com configuração de programa flexível
- Suporta até 32 segmentos programáveis
- Os recursos de segurança incluem alertas de superaquecimento e proteção automática contra falhas
Compatibilidade de vácuo e atmosfera
- Equipado com flange de vedação de aço inoxidável 304 para operação a vácuo ou a gás
- Vem de fábrica com um tubo de quartzo de alta qualidade; tubos de metal ou alumina opcionais disponíveis com base nas necessidades da aplicação



| Modelo | TT-LDTF-150-1200 | TT-LDTF-200-1200 | TT-LDTF-280-1200 | TT-LDTF-350-1200 |
| Tamanho do tubo do forno | Φ150 × 1500 mm | Φ200 × 1500 mm | Φ280 × 1500 mm | Φ350 × 1500 mm |
| Zona de aquecimento | 900mm | 900mm | 900mm | 900mm |
| Temperatura máxima | 1200 ℃ | |||
| Temperatura de trabalho | 1100 ℃ | |||
| Elemento de aquecimento | Fio de resistência de liga de alta temperatura HRE | |||
| Material da câmara | Material de fibra cerâmica de alumina inorgânica policristalina preparado por filtração a vácuo úmida | |||
| Precisão do controle de temperatura | ± 1 ℃ | |||
| Elemento de medição de temperatura | Termopar tipo N | |||
| Instrumento de controle de temperatura | Instrumento inteligente de controle de temperatura PID por microcomputador, controle de regulação de tensão SSR, função de autoajuste de parâmetros PID; 30 segmentos de programa programáveis, aumento de temperatura programável, manutenção de temperatura programável, resfriamento programável; controle de partição em três estágios | |||
| Taxa de aquecimento | Ajuste livre de 1-20℃/min | |||
| Estrutura do forno | Estrutura integrada de controle de temperatura do forno | |||
| Configuração padrão | Com controle modular, o sistema emite sinais de alarme sonoros e visuais para sobretemperatura e acoplamento rompido durante o funcionamento, executando automaticamente a ação de proteção. | |||
| Proteção de segurança | O equipamento está equipado com um disjuntor que se abre automaticamente em caso de curto-circuito, protegendo assim a segurança do equipamento e dos operadores. | |||
| Concha do forno | A carcaça é processada por máquinas CNC de alta qualidade para chapas de aço laminado a frio, passando por soldagem, retificação, polimento, fosfatização, decapagem e pulverização eletrostática de pó plástico na superfície. | |||
| Certificação de qualidade | ISO9001 CE SGS TUV | |||
| Configuração padrão | 1. Corpo do forno 2. Cabo de alimentação de 3 metros 3. 1 termopar 4. 1 manual de instruções 5. 1 gancho para forno 6. Um par de luvas resistentes a altas temperaturas | |||
| Opcional | 1. Bomba de vácuo de palheta rotativa opcional (grau de vácuo ≤ 5pa) 2. Unidade de vácuo com bomba de difusão opcional (grau de vácuo ≤6.67×10 -2 pa) 3. Unidade de vácuo com bomba molecular opcional (grau de vácuo ≤6.67×10 -4 pa) 4. Manômetro de vácuo digital opcional (1.0×10 5 -1.0×10 -1 pa) 5. Fluxômetro de flutuação opcional (faixa de 100-1000 ml/min) 6. Barco de quartzo opcional, cadinho de metal e outros contêineres de carga de material | |||
| OEM | De acordo com os requisitos de produção do material real do usuário, a personalização de especificações especiais do produto pode ser realizada. | |||