Forno tubular bipartido de 2 zonas 1200°C – TT-TF2Z-150-1200

O Forno Tubular de Duas Zonas 1200°C – TT-TF2Z-150-1200 foi projetado para sinterização e tratamento térmico em alta temperatura de metais, cerâmicas, nanomateriais, semicondutores, metalurgia do pó e outros materiais avançados. Amplamente utilizado em universidades, institutos de pesquisa, instalações industriais e setores como petroquímica e aeroespacial, este forno de dupla zona oferece controle térmico preciso e aquecimento uniforme. Possui um tubo de quartzo de alta pureza com diâmetro externo de Φ150 mm e duas zonas de aquecimento controladas independentemente, cada uma com 300 mm de comprimento, permitindo uma distribuição de temperatura otimizada.

O forno opera continuamente a temperaturas de até 1200 °C, com uma temperatura máxima de trabalho de 1100 °C. Alimentado por 220 V/5.2 kW (110 V disponível), incorpora elementos de resistência de fio de liga HRE de alta qualidade, um termopar tipo N e oferece precisão de temperatura de ±1 °C. Isso garante resultados confiáveis ​​e reproduzíveis para pesquisas avançadas e aplicações industriais, tornando-o uma solução ideal para laboratórios e ambientes de produção que exigem processamento consistente em altas temperaturas.

Forno tubular bipartido de 2 zonas 1200°C – TT-TF2Z-150-1200

Forno tubular bipartido de 2 zonas 1200°C – TT-TF2Z-150-1200

Forno tubular bipartido de 2 zonas 1200°C – TT-TF2Z-150-1200

  • Metais e Metalurgia do Pó – Permite a sinterização em alta temperatura e o tratamento térmico de pós metálicos, produzindo componentes densos e uniformes com controle preciso da microestrutura, o que é fundamental para a fabricação avançada e a pesquisa.

  • Cerâmicas e Nanomateriais – Oferece aquecimento independente em duas zonas para distribuição consistente de temperatura, suportando a sinterização, densificação e otimização das propriedades de materiais cerâmicos e nanoestruturas usados ​​em aplicações de eletrônica, catálise e armazenamento de energia.

  • Materiais semicondutores – Facilita processos de recozimento em alta temperatura, difusão e oxidação para wafers semicondutores, garantindo perfis térmicos reproduzíveis, essenciais para o desenvolvimento de microeletrônica e optoeletrônica.

  • Laboratórios de Pesquisa e Acadêmicos – Ideal para universidades e institutos de pesquisa que realizam experimentos térmicos de alta precisão, incluindo síntese de materiais, caracterização e P&D avançada em metais e cerâmicas.

  • Instalações Industriais e Aplicações Aeroespaciais – Suporta processamento em altas temperaturas em ambientes de fabricação que exigem tratamento térmico robusto, confiável e repetível para componentes usados ​​nas indústrias aeroespacial, petroquímica e outras indústrias exigentes.

  • Aplicações em vácuo e atmosfera controlada – Equipado com flange de vedação em aço inoxidável 304 e tubo de quartzo de alta pureza (opcionalmente em metal ou coríndon), permitindo operações em vácuo ou atmosferas de gases inertes/protetores, como nitrogênio, argônio ou hidrogênio.

  • Precisão e Segurança – Possui controle PID e SSR/SCR com termopar tipo N, precisão de temperatura de ±1°C, curvas térmicas programáveis ​​de 30 segmentos, interruptor de segurança da porta e alarme de sobretemperatura, garantindo uma operação segura e reproduzível em altas temperaturas.

  • Opções de modelos versáteis – Disponível em uma ampla gama de tamanhos de tubo (Φ40–Φ100 mm) e capacidades de aquecimento (3.6 kW–12 kW), suportando temperaturas contínuas de até 1200–1700 °C, dependendo da configuração, com zonas de aquecimento duplas de 300 mm para uma uniformidade térmica ideal.

Concha de Forno

  • O invólucro é construído em aço de baixo carbono Q235 com uma superfície resistente à corrosão e à eletrostática.
  • Uma estrutura metálica sólida de camada dupla integra-se a uma estrutura de ventilador isolada para manter a temperatura da superfície do forno baixa.
  • Projetado para uso horizontal com tampa de abertura superior para fácil operação.

Isolamento Refratário

  • Apresenta um sistema de isolamento multicamadas feito de fibra cerâmica de alumina leve e revestimento de placa isolante premium.
  • Sem amianto, com baixa perda de calor e consumo de energia reduzido.

Sistema de Aquecimento

  • Construído com elementos de aquecimento HRE de alto desempenho para distribuição eficiente e radiante de calor dentro da câmara.
  • Os elementos são dispostos em um anel ou em ambos os lados para garantir uma distribuição uniforme da temperatura.
  • A configuração de zona dupla permite o controle independente de cada zona para melhor uniformidade e controle de temperatura.

Painel de controle de temperatura

  • Utiliza controle PID com relés de estado sólido (SSR) para gerenciamento preciso de temperatura.
  • Equipado com um termopar de níquel-cromo-silício tipo N padronizado internacionalmente (0–1300 °C) para durabilidade e leituras precisas.
  • Um interruptor de segurança desliga automaticamente a energia quando a porta do forno é aberta.

Controlador programável

  • Suporta PID com controle SSR ou SCR para regulação fina de temperatura.
  • Possui um termopar durável e de padrão internacional.
  • Inclui 30 segmentos programáveis, um indicador de status de aquecimento e um alarme sonoro de superaquecimento.

Compatibilidade de vácuo e atmosfera

  • Equipado com um flange de vedação de aço inoxidável 304 para permitir operação a vácuo ou em atmosfera controlada dentro do tubo.
  • Vem com um tubo de quartzo de alta pureza por padrão; tubos de metal ou coríndon estão disponíveis para atender a diversas aplicações.

artigo do produto

Zona de aquecimento (mm)

Tamanho do tubo (mm)

Temperatura máxima

Temperatura de trabalho

Voltagem

Energia

Elemento de Aquecimento

Precisão de temperatura

TT-TF2Z-40-1200300 300 +Φ40 × 12001200 ℃1100 ℃220 V (110 V também está disponível)3.6KWHRE± 1 ℃
TT-TF2Z-60-1200300 300 +Φ60 × 12001200 ℃1100 ℃220 V (110 V também está disponível)5.2KWHRE± 1 ℃
TT-TF2Z-80-1200300 300 +Φ80 × 12001200 ℃1100 ℃220 V (110 V também está disponível)5.2KWHRE± 1 ℃
TT-TF2Z-100-1200300 300 +Φ100 × 12001200 ℃1100 ℃220 V (110 V também está disponível)5.2KWHRE± 1 ℃
TT-TF2Z-40-1400300 300 +Φ40 × 12001400 ℃1350 ℃220 V (110 V também está disponível)4KWSIC± 1 ℃
TT-TF2Z-60-1400300 300 +Φ60 × 12001400 ℃1350 ℃220 V (110 V também está disponível)6KWSIC± 1 ℃
TT-TF2Z-80-1400300 300 +Φ80 × 12001400 ℃1350 ℃380V8KWSIC± 1 ℃
TT-TF2Z-100-1400300 300 +Φ100 × 12001400 ℃1350 ℃380V10KWSIC± 1 ℃
TT-TF2Z-40-1700300 300 +Φ40 × 12001700 ℃1600 ℃220 V (110 V também está disponível)6KWMoSi2± 1 ℃
TT-TF2Z-60-1700300 300 +Φ60 × 12001700 ℃1600 ℃380V8KWMoSi2± 1 ℃
TT-TF2Z-80-1700300 300 +Φ80 × 12001700 ℃1600 ℃380V10KWMoSi2± 1 ℃
TT-TF2Z-100-1700300 300 +Φ100 × 12001700 ℃1600 ℃380V12KWMoSi2± 1 ℃

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