Rivestitore a centrifuga sottovuoto programmabile

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Spalmatore con rotazione sottovuoto programmabile – ToronSC™ 350P

Il ToronSC™ 350P è un sistema di rivestimento a centrifuga con mandrino sottovuoto programmabile, progettato per una deposizione di film sottili facile, veloce e riproducibile tramite soluzioni di rivestimento sol-gel e altre soluzioni liquide su substrati fino a 200 mm di diametro o 5" × 5" quadrati. Essendo il sistema di rivestimento a centrifuga di formato più grande della serie ToronSC™, è la scelta ideale per gruppi di ricerca e team di sviluppo che lavorano con wafer di semiconduttori di dimensioni standard, grandi substrati di vetro e campioni a pannello quadrato che richiedono un rivestimento uniforme su un'ampia superficie.

Certificato CE e progettato per l'uso in laboratorio, università e industria leggera, lo spin coater ToronSC™ 350P include un mandrino a vuoto da 6 pollici per l'utilizzo immediato su wafer da 6" e 8", nastro adesivo per il rivestimento di substrati di forma irregolare o di dimensioni ridotte, una pompa a vuoto senza olio e una siringa da 20 ml, fornendo un pacchetto completo e pronto all'uso per lo spin coating. È disponibile una copertura riscaldante opzionale (fino a 100 °C) che consente la ricottura termica o l'asciugatura in situ del rivestimento immediatamente dopo lo spin coating senza rimuovere il substrato dallo strumento.

Coater con rotazione sottovuoto programmabile – Applicazioni ToronSC™ 350P

Spalmatore con rotazione sottovuoto programmabile – ToronSC™ 350P

La centrifuga per rivestimento sottovuoto programmabile ToronSC™ 350P è progettata per applicazioni di rivestimento tramite centrifugazione che coinvolgono soluzioni chimicamente aggressive:

  • Rivestimento per centrifugazione di wafer di grande formato: deposizione di film funzionali e sol-gel su wafer di silicio da 6" e 8" per la ricerca sui semiconduttori e sui materiali avanzati.
  • Rivestimento di substrati quadrati e rettangolari: rivestimento per centrifugazione di pannelli da 5" × 5" per substrati in vetro, polimeri e fogli metallici nella ricerca su pannelli piatti e energia solare.
  • Ricerca fotovoltaica: deposizione tramite spin coating di strati di perovskite, assorbitori organici e inorganici, strati di trasporto e strati di contatto su substrati di grandi dimensioni.
  • Deposizione di film funzionali tramite sol-gel: rivestimenti di ossidi metallici, ceramici e ibridi organici-inorganici da soluzioni precursori sol-gel.
  • Rivestimento di substrati di forma irregolare: utilizzo di un supporto per nastro adesivo per substrati di forma non standard e piccoli campioni.
  • Ricottura post-deposizione in situ (con copertura riscaldante opzionale): essiccazione termica o cristallizzazione del film depositato tramite spin coating immediatamente dopo la deposizione.
  • University e laboratori di ricerca e sviluppo industriale: macchina per spin coating di grandi substrati per uso generale, destinata a programmi di ricerca su film sottili multimateriale.
Spalmatore con rotazione sottovuoto programmabile – ToronSC™ 350P

Coater con rotazione sottovuoto programmabile – ToronSC™ 350P Caratteristiche principali

1. Formato più grande della serie: wafer da 8" / quadrato da 5"×5".

Il ToronSC™ 350P è compatibile con la più ampia gamma di substrati della serie di spin coater ToronSC™: substrati rotondi fino a 200 mm di diametro e pannelli quadrati fino a 127 mm × 127 mm, coprendo l'intera gamma di dimensioni comuni dei substrati utilizzati nella ricerca e nella produzione pilota.

2. Controllo digitale programmabile a due segmenti

Il pannello di controllo digitale offre due segmenti di velocità e tempo programmabili in modo indipendente, consentendo la sequenza standard di rivestimento per centrifugazione in due fasi in un ciclo completamente automatizzato con avvio tramite un singolo pulsante.

3. Nastro adesivo per substrati irregolari e di dimensioni ridotte

Il nastro adesivo incluso (6 cm di larghezza × 24 cm di lunghezza) consente di fissare al mandrino substrati di dimensioni inferiori a 6 cm o campioni di forma irregolare senza la necessità di un mandrino a vuoto di dimensioni perfettamente corrispondenti, ampliando così la gamma di substrati che lo strumento può gestire.

4. Porta siringa girevole regolabile

L'altezza del supporto per siringhe è regolabile e ruota liberamente lungo l'asta di supporto, consentendo di posizionare la punta di erogazione con precisione sopra il centro del substrato o in qualsiasi altra posizione di erogazione, e adattandosi a siringhe di diverse dimensioni.

5. Camera in polipropilene resistente agli agenti chimici

La camera di filatura è realizzata in materiale PP per garantire la resistenza chimica alla maggior parte dei solventi sol-gel, acidi e alcali utilizzati nella ricerca sui rivestimenti a film sottile, ed è facile da pulire con un semplice risciacquo con solvente.

6. Pompa a vuoto senza olio e siringa da 20 ml incluse.

Un pacchetto completo per la macchina di spin coating: pompa a vuoto senza olio per il fissaggio del substrato pulito, siringa da 20 ml per l'erogazione della soluzione e un filtro per le acque reflue per la protezione della pompa, il tutto incluso e pronto all'uso.

7. Copertura riscaldante opzionale (fino a 100 °C)

È disponibile una copertura riscaldante opzionale con regolatore di temperatura digitale fino a 100 °C, che consente l'essiccazione termica in situ o la ricottura delicata del film depositato tramite spin coating immediatamente dopo la deposizione, senza dover rimuovere il substrato dallo strumento.

8. Certificato CE CE

Certificato per la conformità agli standard europei di sicurezza e compatibilità elettromagnetica.

Teoria e metodo

Il ToronSC™ 350P utilizza la deposizione centrifuga per depositare film sottili e uniformi da soluzioni liquide su grandi substrati piani. Il substrato viene mantenuto in posizione tramite aspirazione sottovuoto sul mandrino a vuoto da 6 pollici incluso. Per substrati di dimensioni inferiori a 6 pollici o per campioni di forma irregolare, il nastro adesivo incluso viene applicato sul mandrino e il substrato viene posizionato sul nastro: l'aspirazione mantiene il nastro e il nastro mantiene il substrato, consentendo di rivestire un'ampia varietà di geometrie di campioni senza l'utilizzo di mandrini speciali.

Il pannello di controllo digitale programmabile a due segmenti consente all'operatore di impostare la velocità e il tempo di rotazione in modo indipendente per due fasi di rotazione sequenziali, supportando il protocollo standard di rivestimento per centrifugazione con erogazione e distribuzione. La camera in PP è chimicamente resistente alla maggior parte dei solventi sol-gel e l'uscita di drenaggio posteriore consente una gestione pulita del liquido. L'altezza del supporto della siringa è regolabile e può ruotare liberamente lungo l'asta di supporto, consentendo un posizionamento preciso del punto di erogazione della soluzione su qualsiasi area del substrato.

Specifiche tecniche della centrifuga per rivestimento sottovuoto programmabile ToronSC™ 350P

ParametroSpecificazione
ModelloToronSC™ 350P
Dimensione massima del substrato8" (200 mm) di diametro o 5" × 5" (127 × 127 mm) di forma quadrata
Gamma di velocità di centrifuga500-6,000 giri al minuto
Segmenti programmabili2 segmenti (velocità + tempo ciascuno)
Fissazione del substratoMandrino per aspirazione (mandrino da 6" incluso)
Porta substrato irregolareNastro adesivo (6 cm di larghezza × 24 cm di lunghezza) incluso.
Diametro della camera250 mm
camera MaterialePolipropilene (PP) — resistente agli agenti chimici
Porta siringaAltezza e rotazione regolabili sull'asta di supporto.
Soluzione di rivestimentoSiringa da 20 ml (inclusa)
Pompa a vuotoPompa per vuoto senza olio (inclusa)
Accessorio opzionaleCopertura riscaldante con regolatore digitale (fino a 100 °C)
TensioneCA 110/220 V, 50/60 Hz
Certificazione CE

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