Horno de recocido al vacío
Horno de recocido al vacío - ToronVF™ Recocido
El horno de recocido ToronVF™ Anneal es un horno de recocido de alto vacío para recocido térmico, horneado, temple y tratamiento térmico a temperaturas de 50 a 700 °C. Un horno con control PID dentro de una cámara de vacío de acero inoxidable SS304 alcanza una presión base de 10⁻⁷ Torr con velocidades de calentamiento ajustables de 1 a 20 °C/minuto. Las velocidades de temple y enfriamiento de hasta ±50 °C/minuto permiten ciclos de procesamiento térmico rápidos para programas de tratamiento térmico con plazos de entrega ajustados. Un perfil PID programable de 10 pasos, ampliable a 40 pasos, controla cada ciclo térmico con parámetros independientes de punto de ajuste, rampa y mantenimiento de temperatura.
La cámara de vacío de acero inoxidable SS304 electropulido proporciona superficies limpias para aplicaciones de recocido sensibles a la contaminación, con un sistema de vacío de amplio rango que abarca de 1000 a 10⁻⁹ Torr. Las bombas turbomoleculares y mecánicas son estándar, alcanzando 10⁻⁶ Torr en 30 minutos, con una bomba seca disponible como opción. Las válvulas de aislamiento permiten el llenado de la cámara con Ar o N₂ según se desee, y la protección contra fallos de alimentación mantiene la cámara bajo vacío cuando el sistema está inactivo. Los tiempos de ciclo rápidos permiten realizar de dos a tres experimentos por día, según el volumen de carga.
El volumen de trabajo es ajustable de 1 a 3 m³ para adaptarse a diferentes tamaños de lote y configuraciones de carga. Las entradas de gas con caudalímetro másico opcional para Ar, N₂, O₂, He y otros gases permiten el procesamiento en atmósfera controlada junto con aplicaciones de recocido al vacío y horneado. Un analizador de gases residuales de 100 uma opcional identifica las especies desgasificadas y monitoriza la limpieza de la cámara antes y durante el tratamiento térmico. El sistema se completa con unas dimensiones de 75 × 120 cm, ruedas con bloqueo y un panel táctil con control LCD en tiempo real.
Horno de recocido al vacío - Aplicaciones de recocido ToronVF™
El sistema de recocido ToronVF™ está diseñado para instalaciones de investigación y producción que requieren un tratamiento térmico limpio y libre de oxidación de materiales metálicos, cerámicos y semiconductores, donde los hornos atmosféricos podrían provocar oxidación superficial, incrustaciones o reacciones de fase indeseadas. Su modo de horneado, capacidad de enfriamiento rápido, atmósfera controlada opcional y perfiles programables de múltiples pasos se adaptan a una amplia gama de programas de procesamiento térmico.
- Recocido al vacío y alivio de tensiones: tratamiento térmico de metales, aleaciones y semiconductores a 50 a 700 °C bajo alto vacío para alivio de tensiones, recristalización y crecimiento de grano sin oxidación superficial ni contaminación.
- Procesamiento de materiales magnéticosRecocido al vacío de imanes permanentes, aleaciones magnéticas blandas y metales amorfos para el desarrollo de propiedades magnéticas, ajuste de la coercitividad y reducción de pérdidas por histéresis.
- Enfriamiento al vacío y procesamiento térmico rápido: enfriamiento rápido a hasta ±50 °C/minuto para la formación de martensita, el control de la austenita retenida y el atrapamiento de fases metaestables en sistemas de aleación.
- Desgasificación y horneado de componentes de vacío: horneado a alta temperatura de cámaras de vacío, electrodos, pasamuros y componentes para desorber el agua y los hidrocarburos adsorbidos antes del ensamblaje o uso.
- Eliminación de hidrógeno y deshidrogenación: recocido al vacío para la desgasificación de hidrógeno del titanio, circonio, acero y otros materiales susceptibles al hidrógeno después de procesos de galvanoplastia, conformado o unión.
- Recocido posterior a la deposición de películas delgadas y semiconductores: recocido al vacío de muestras de película delgada para activar dopantes, mejorar la cristalinidad y reducir las densidades de defectos de interfaz en la investigación de dispositivos semiconductores y fotovoltaicos.
- Investigación sobre transformación de fases y sinterizaciónCiclos térmicos de vacío multietapa programables para estudios de diagramas de fases, investigación de reacciones en estado sólido y programas de sinterización de cerámica o metalurgia de polvos.
Horno de recocido al vacío - Características principales del ToronVF™
El sistema ToronVF™ Anneal integra un horno de alto vacío controlado por PID, perfiles térmicos programables de múltiples pasos, capacidad de enfriamiento rápido, análisis opcional de gases residuales y control informático automatizado en una plataforma de tratamiento térmico al vacío escalable con un volumen de trabajo ajustable de 1 a 3 m³.
- Horno de vacío con control PID de 50 a 700 °CControl preciso de la temperatura dentro de una cámara de vacío de acero inoxidable SS304 para un tratamiento térmico limpio sin contaminación atmosférica.
- Perfil de temperatura PID programable (de 10 a 40 pasos)Control de ciclo térmico multietapa con punto de ajuste, velocidad de rampa y tiempo de mantenimiento independientes por etapa para programas complejos de recocido y tratamiento térmico.
- Velocidad de calentamiento ajustable (de 1 a 20 °C/minuto): la velocidad de rampa seleccionable por el operador se adapta a la masa térmica del material, los requisitos de transformación de fase y la sensibilidad del proceso.
- Enfriamiento rápido y templado a ±50 °C/minutoTransiciones térmicas de alta velocidad para el endurecimiento martensítico, la formación de fases metaestables y aplicaciones de tratamiento térmico sensibles a la transformación.
- Volumen de trabajo ajustable de 1 a 3 m³El volumen configurable de la cámara permite adaptar diferentes tamaños de lote y configuraciones de carga a lo largo de los programas de investigación y producción.
- Presión base de 10⁻⁷ Torr, 10⁻⁶ Torr en 30 minutosCombinación de bomba turbomolecular y mecánica con bombeo rápido para un soporte de ciclo eficiente.
- Bomba turbomolecular y mecánica (opción de bomba seca)La configuración estándar de la bomba logra un vacío base para un recocido limpio; opción de bomba seca disponible para requisitos de sistemas sin aceite.
- Control de vacío de amplio rango (de 1000 a 10⁻⁹ Torr): medición y control de vacío integrados desde presión atmosférica hasta vacío profundo para todos los modos de proceso.
- Analizador de gases residuales opcional de 100 uma: Monitoreo de la composición de las especies desgasificadas durante el horneado y el recocido para la identificación de la contaminación y la verificación del proceso.
- Entradas de gas opcionales para el medidor de flujo másico (Ar, N₂, O₂, He): capacidad de atmósfera controlada para enfriamiento con gas, relleno inerte y procesamiento asistido por atmósfera junto con modos de recocido al vacío
- Válvulas de aislamiento con cámara de relleno de Ar o N₂: atmósfera controlada después del recocido para enfriamiento inerte, temple con gas o requisitos específicos de atmósfera posterior al tratamiento.
- Protección contra fallos de alimentación con retención por vacío: La válvula de aislamiento mantiene el vacío de la cámara en caso de pérdida de energía, protegiendo las muestras sensibles y preservando el entorno del proceso.
- Ciclos de tiempo rápidos (de 2 a 3 experimentos por día): El rápido sistema de bombeo y el diseño cíclico permiten realizar múltiples ciclos de tratamiento térmico al día, dependiendo del volumen de carga.
- Cámara de vacío electropulida de acero inoxidable SS304Las superficies limpias y con baja emisión de gases de la cámara reducen el riesgo de contaminación en los procesos de recocido de alta pureza.
- Refrigeración por agua en circuito cerrado (cuando sea necesario): gestión térmica de los componentes del horno y la cámara durante el funcionamiento sostenido a alta temperatura.
- Control informático totalmente automático con pantalla táctil y panel LCD.Todos los parámetros de temperatura, presión y proceso se gestionan automáticamente con monitorización en tiempo real durante cada ciclo de tratamiento térmico.
- Plataforma móvil de 75 × 120 cm con ruedas con freno.: diseño compacto para una colocación flexible en laboratorios y plantas de producción.
- Garantía de dos años para diseño, materiales y mano de obra.: cobertura ampliada acorde con el posicionamiento del sistema como una inversión a largo plazo en investigación y producción.
Teoría y método
El recocido al vacío calienta los materiales a baja presión, aprovechando la ausencia de oxígeno y gases reactivos para prevenir la oxidación superficial y la contaminación intersticial durante el tratamiento térmico. A presiones inferiores a 10⁻⁵ Torr, las concentraciones de gas residual son insuficientes para contaminar la superficie del material, preservando así su química superficial y permitiendo la difusión en los límites de grano para el desarrollo microestructural. Entre sus aplicaciones se incluyen el alivio de tensiones, la recristalización, la desgasificación de hidrógeno, la transformación de fases y el desarrollo de propiedades magnéticas. El relleno controlado con Ar o N₂ tras el recocido permite ajustar la velocidad de enfriamiento para lograr una transformación o un temple controlados.
El perfil PID programable, ampliable a 40 pasos, controla cada ciclo de recocido con punto de ajuste, velocidad de calentamiento y tiempo de mantenimiento independientes para cada paso. La flexibilidad de múltiples pasos permite programaciones complejas, incluyendo recocidos en varias etapas con temperaturas de mantenimiento intermedias, rampas de alivio de tensiones y secuencias de enfriamiento controladas. El temple a hasta ±50 °C/minuto permite transiciones térmicas rápidas para la formación de martensita, el atrapamiento de fases metaestables y procesos sensibles a la transformación. Las velocidades de calentamiento ajustables de 1 a 20 °C/minuto complementan la capacidad de temple para un control preciso del ciclo térmico.
El proceso de desgasificación a temperaturas de hasta 700 °C desorbe agua, disolventes e hidrocarburos de las superficies y componentes de la cámara, reduciendo la presión base efectiva. La bomba turbomolecular elimina continuamente las sustancias desorbidas durante el ciclo térmico, mejorando la limpieza de la cámara con cada ciclo de desgasificación. Un analizador de gases residuales opcional de 100 uma monitoriza las sustancias desgasificadas y confirma la limpieza de la cámara antes de los procesos posteriores sensibles. La medición de vacío de amplio rango, de 1000 a 10⁻⁹ Torr, y la protección mediante válvula de aislamiento completan el sistema de vacío.
Horno de recocido al vacío - Especificaciones técnicas del ToronVF™
| Parámetro | Especificación |
|---|---|
| Rango de temperatura del horno | 50 a 700 ° C |
| Control de la temperatura | PID |
| Velocidad de calentamiento | De 1 a 20 °C/minuto (ajustable) |
| Velocidad de enfriamiento/templado | Hasta ±50 °C/minuto |
| Perfil de temperatura | Controlador PID programable de 10 pasos (ampliable a 40 pasos) |
| Presión base | 10⁻⁷ Torr |
| Vacío de trabajo (tiempo de bombeo) | 10⁻⁶ Torr en 30 minutos |
| Rango de control de vacío | 1000 a 10⁻⁹ Torr |
| material de cámara | Acero inoxidable tipo 304; electropulido |
| Volumen de trabajo | De 1 a 3 m³ (ajustable) |
| Configuración de la bomba | Turbomolecular + Mecánica (bomba seca como opción) |
| Suministro de gas (opcional) | MFM controlado; Ar, N₂, O₂, He y otros. |
| Relleno de la cámara | Ar o N₂ (a través de válvulas de aislamiento) |
| Analizador de gases residuales (opcional) | 100 uma |
| Sistema de refrigeración | Refrigeración por agua en circuito cerrado (cuando sea necesario) |
| Protección de falla de energía | Sí; la válvula de aislamiento mantiene el vacío. |
| Sistema de control | Control informático totalmente automático; pantalla táctil; pantalla LCD en tiempo real. |
| Rendimiento del experimento | De 2 a 3 por día (dependiendo del volumen de carga) |
| Footprint | 75 x 120 cm |
| Movilidad | Ruedas bloqueables |
| Garantía | 2 años (diseño, materiales y mano de obra) |