PECVD sistemi (Plazma Destekli Kimyasal Buhar Biriktirme Sistemi), dört ana bileşenden oluşur: tüp fırın, vakum sistemi, gaz akış kontrolörü ve radyo frekansı (RF) güç kaynağı. Bu kurulum, istenen film oluşturucu atomları içeren gazları iyonize ederek plazma oluşturmak için 13.56 MHz RF çıkışı kullanır. Son derece reaktif plazma ortamı, kimyasal reaksiyonları artırarak gaz fazındaki malzemelerin bir alt tabaka üzerinde ince filmler oluşturmasına olanak tanır. Bu süreç, 1200°C'ye kadar sıcaklıklarda SiO₂ ve SiNx filmleri biriktirmek için uygun gelişmiş ince film üretim tekniklerine olanak tanır.
Yarı İletken Cihaz Üretimi – Entegre devreler, transistörler ve optoelektronik cihazlar için gerekli olan SiO₂, SiNx ve dielektrik ince filmlerin düşük sıcaklıkta biriktirilmesini sağlar. Yüksek performanslı mikroelektronik için kritik öneme sahip olan homojenlik, yapışma ve kusursuz katmanlar sağlar.
Nanomalzeme Araştırmaları – Grafen, karbon nanotüpler ve nanoyapılı kaplamaların plazma destekli büyümesini destekler. Yeni nesil nanoteknoloji uygulamaları için film kalınlığı, bileşimi ve morfolojisi üzerinde hassas kontrol sağlar.
İnce Film Optiği ve Fotonik – Optik kaplamaların, yansıma önleyici katmanların ve pasivasyon filmlerinin PECVD yöntemiyle biriktirilmesini kolaylaştırır. Gelişmiş sensörler, lensler ve fotonik cihazlar için kontrollü kırılma indisi ve optik şeffaflık sağlar.
Enerji ve Batarya Malzemeleri – Lityum iyon ve katı hal bataryaları için koruyucu kaplamalar ve fonksiyonel filmlerin biriktirilmesini sağlar. Gelişmiş enerji depolama sistemlerinin kararlılığını, iyon iletkenliğini ve çevrim ömrünü uzatır.
Güneş Hücresi Araştırması – Fotovoltaik alt tabakalara pasifleştirme ve yansıma önleyici kaplamaların PECVD yöntemiyle uygulanmasında yaygın olarak kullanılır. Kristal silikon ve ince film güneş hücrelerinde ışık emilimini, taşıyıcı ömrünü ve genel verimliliği artırır.
MEMS ve Mikrofabrikasyon – Mikroelektromekanik sistemler (MEMS), biyosensörler ve mikroakışkan cihazlar için plazma destekli film biriktirme işlemini destekler. Minyatürleştirilmiş cihaz performansında kritik öneme sahip film özelliklerinin hassas kontrolünü sağlar.
Havacılık ve Savunma Uygulamaları – Yüksek performanslı alaşımlar ve seramikler üzerinde gelişmiş koruyucu ve fonksiyonel ince filmler sağlar. Aşırı havacılık ve savunma koşulları altında dayanıklılığı, korozyon direncini ve termal kararlılığı artırır.
Üniversiteler ve Araştırma Enstitüleri – Plazma işleme, malzeme bilimi, nanoteknoloji ve uygulamalı fizik alanlarında ileri düzey akademik çalışmalar için idealdir. Laboratuvar ölçekli yenilik ve eğitim için hassasiyet, güvenlik ve esnekliği bir araya getirir.
Sanayi Quality Control ve Sertifikasyon – Ürün doğrulama ve uyumluluk testleri için tekrarlanabilir, yüksek hassasiyetli PECVD süreçleri sunar. Düzenlenmiş endüstri gerekliliklerini karşılamak için ISO, CE, SGS ve TÜV standartlarına uygundur.
- CVD tüplü fırın sistemi, tüplü fırın, vakum sistemi, gaz akış kontrolörü ve RF güç kaynağından oluşur.
- Tüp fırın, çeşitli tüp çaplarını ve sabit sıcaklık bölgesi uzunluklarını destekler. Her iki uçta da yüksek vakumlu paslanmaz çelik sızdırmazlık flanşları bulunur.
- Vakum sistemi, test ihtiyaçlarına göre birden fazla pompa konfigürasyonunu destekler. Döner kanatlı mekanik pompalar ≤5 Pa vakum seviyesine ulaşırken, moleküler pompa sistemleri 1×10⁻⁴ Pa'ya kadar ulaşır.
- Gaz dağıtım sistemi 3 kanallı manuel şamandıra akış kontrolörü veya 3 kanallı otomatik kütle akış kontrolörü ile mevcuttur.
- Vakum seviyeleri, dijital kompozit vakum ölçer veya Pirani vakum ölçer kullanılarak ölçülür.
- Plazma deşarjı için 13.56 W, 200 W veya 300 W seçilebilir güç çıkışlarına sahip 500 MHz RF güç kaynağı kullanılır.
- Tüp fırın, sıcaklık gradyanı testleri için tek 440 mm sıcaklık bölgesi veya çok bölgeli konfigürasyonlar gibi seçenekler sunar.
- Sıcaklık kontrol cihazında bulunan opsiyonel RS485 dijital haberleşme portu ve USB adaptörü, PC bağlantısına olanak tanıyarak uzaktan izleme ve kontrol imkanının yanı sıra veri kaydetme ve dışarı aktarma olanağı da sağlıyor.
- Ürün CE belgeli olup AB güvenlik standartlarına uygundur.
Vakum Atmosfer Fonksiyonu
- Sistem, tüp içerisinde vakum veya kontrollü atmosfer koşulları yaratmak için 304 paslanmaz çelik sızdırmazlık flanşlarını içerir.
- Yüksek kaliteli kuvars çalışma borusu standarttır. Farklı uygulama ihtiyaçlarına uygun metal veya alüminyum borular da mevcuttur.
- Yüksek performanslı çift kademeli döner kanatlı pompa, 5 Pa vakum seviyesine ulaşır ve vakum durumu dijital bir gösterge aracılığıyla görüntülenir.
- Hava devresi kontrol ünitesi, kütle akış kontrolörü (MFC) sistemi kullanılarak otomatik kontrol için 1–3 kanal seçenekleri sunar.
| + | TT-CVDTF-40-1200 | TT-CVDTF-60-1200 | TT-CVDTF-80-1200 | TT-CVDTF-100-1200 |
| tüp Boyutu | Φ40 x 1200mm | Φ60 x 1200mm | Φ80 x1200mm | Φ100 x 1200mm |
| Maksimum sıcaklık | 1200 ℃ | |||
| Çalışma Sıcaklığı | 1100 ℃ | |||
| Isıtma bölgesi | 440mm | |||
| Gerilim / Güç | 220V/1.8KW (110V da mevcuttur) | 220V/2.6KW (110V da mevcuttur) | 220V/2.6KW (110V da mevcuttur) | 220V/2.6KW (110V da mevcuttur) |
| Isıtma Elemanı | HRE demir krom alüminyum alaşımlı direnç teli | |||
| Gövdesinin Malzemesi | Islak vakum filtrasyonu ile hazırlanan polikristalin inorganik alümina seramik elyaf malzemesi | |||
| Tüp malzemesi | Kuvars Tüp | |||
| Sıcaklık Doğruluğu | ± 1 ℃ | |||
| Isıtma Elemanı | N tipi termokupl | |||
| Sıcaklık kontrolörü | Akıllı mikrobilgisayar PID sıcaklık kontrol cihazı, SCR/SSR kontrolü, PID parametre otomatik ayarlama fonksiyonu; programlanabilir 30 program segmenti, program ısıtma, program ısı koruma, program soğutma | |||
| Isıtma Hızı | 1-25℃/dak serbestçe ayarlanabilir | |||
| Fırın Yapısı | Fırın sıcaklık kontrolü entegre yapısı, fırın açma ve kapama; çift katmanlı gövde, hava sirkülasyonu ve ısı yalıtımı | |||
| Sızdırmazlık Fonksiyonu | Fırın borusunun her iki ucu, vakum derecesi ≤5pa olan vakum altında çalışabilen yüksek sıcaklığa dayanıklı PTFE contalarla eşleştirilmiş paslanmaz çelik metal flanşlarla donatılmıştır (döner kanatlı vakum pompası) | |||
| RF güç | Frekans: 13.56 MHz±0.005%, güç: 5W-500W, güç kararlılığı: ±0.5% | |||
| Gaz Kontrol Cihazı | İsteğe bağlı 3 yollu şamandıralı manuel akış ölçer, aralık 60-600 ml/dak; 3 yollu otomatik kütle akış ölçer, aralık 1-500 sccm | |||
| Atmosfer Fonksiyonu | Flanşın her iki ucunda hava giriş ve çıkışları bulunur. Basınç göstergesi metal flanşa monte edilmiştir. Hassas iğne valfi, hava giriş ve çıkışını ayarlayabilir ve nitrojen, argon ve hidrojen gibi koruyucu gazlarla beslenebilir. | |||
| Gaz Arayüzü | KF25 vakum deflektör valfi ve KF25 paslanmaz çelik körük vakum pompasını birbirine bağlar; koruyucu atmosfer 6 mm paslanmaz çelik bağlantı halkası ve PTFE boru hattı | |||
| Ekipman Koruması | Modüler kontrol, çalışma sürecinde aşırı sıcaklık ve kopuk bağlantı için ses ve ışık alarm sinyali gönderilecek ve koruma eylemi otomatik olarak tamamlanacaktır. | |||
| Güvenlik Koruma | Ekipman, kısa devre kaçağı durumunda otomatik olarak açılacak bir devre kesici ile donatılmıştır; bu, ekipmanın ve operatörlerin güvenliğini koruyabilir | |||
| Fırın Kabuğu | Yüksek kaliteli soğuk haddelenmiş çelik sac CNC takım tezgahı kesme işlemi, kaynak, taşlama, parlatma, fosfatlama, asitleme, yüzey elektrostatik püskürtme plastik tozundan sonra | |||
| Kalite Belgesi | ISO9001 CE SGS TÜV | |||