卷对卷真空等离子表面处理系统 – ToronPlasma™ RRVP
卷对卷真空等离子表面处理系统——ToronPlasma™ RRVP 是一款先进的电晕处理设备，专为在可控真空条件下对柔性卷材进行连续、高精度的表面活化而设计。与常压电晕处理设备不同，该系统在密封的真空腔内运行，消除了环境空气的干扰，从而实现了高度均匀的等离子体生成。
通过抽真空并引入氮气、氧气或氩气等可控工艺气体，该系统利用高压放电产生稳定的等离子体环境。此工艺可在分子水平上改变表面化学性质，从而改善表面能、润湿性和粘附性能。集成的卷对卷复卷机构确保在整个材料宽度范围内实现一致、连续的电晕表面处理。
这款真空等离子电晕处理设备专为高价值材料和苛刻应用而设计，可为先进的制造环境提供可重复、无污染的表面改性。
卷对卷真空等离子表面处理系统 – ToronPlasma™ RRVP 应用
这款卷对卷真空等离子表面处理系统——ToronPlasma™ RRVP，是需要精确均匀表面活化的应用的理想选择：
- 柔性塑料薄膜和聚合物网
- 用于电子和储能的功能薄膜
- 电池隔膜和铝涂层基板
- 医用和药品包装薄膜
- 光学和特种涂层基材
- 涂布、印刷、覆膜或粘合前的预处理
该系统特别适用于对热或大气氧化敏感的材料。
卷对卷真空等离子表面处理系统 – ToronPlasma™ RRVP 主要特点
- 用于无污染等离子体处理的真空电晕表面处理
- 柔性卷材的卷对卷连续加工
- 控制引入工艺气体（N₂、O₂、Ar）
- 通过高压放电产生均匀等离子体
- 集成式复卷和张力控制系统
- 增强粘附性、润湿性和表面能
- 适用于热敏性和高性能材料
- 全幅宽范围内均能获得稳定且可重复的处理效果
显示大型系统
双侧排散热孔
稳定的夹紧力
卷对卷真空等离子表面处理系统 – ToronPlasma™ RRVP 技术规格
| 参数 | 规格 |
|---|---|
| 设备类型 | 卷对卷真空等离子表面处理系统 – ToronPlasma™ RRVP |
| 处理模式 | 连续卷对卷 |
| 等离子体生成 | 真空环境下的高压放电 |
| 真空系统 | 集成真空泵 |
| 工艺气体 | 氮气（N₂）、氧气（O₂）、氩气（Ar） |
| 舱室环境 | 受控真空状态 |
| 表面处理方法 | 真空等离子/电晕表面处理 |
| 卷材处理 | 自动放卷和收卷 |
| 处理均匀性 | 全宽一致等离子体暴露 |
| 应用材料 | 塑料薄膜、涂层薄膜、功能性薄膜 |
| 操作模式 | 自动/可编程 |
| 冷却方式 | 自然冷却或辅助冷却（取决于系统） |
| 安全防护 | 带电气联锁装置的封闭腔室 |
| 安装类型 | 落地式系统 |
| 典型使用环境 | 工业生产/研发/中试生产线 |