Fours tubulaires CVD
Les fours tubulaires CVD (dépôt chimique en phase vapeur) sont conçus pour un contrôle précis de la température et du débit de gaz lors des procédés de dépôt de couches minces. Idéals pour la synthèse de matériaux comme le graphène, les nanotubes de carbone et les revêtements semi-conducteurs, ces fours prennent en charge le CVD basse pression et atmosphérique. Dotés de zones de chauffe uniformes et d'une étanchéité robuste pour le vide ou les atmosphères inertes, ils offrent des performances fiables pour la recherche et le développement de matériaux avancés.
