Forno de atmosfera de vácuo – TT-VAF-288-1200
O TT-VAF-288-1200 é um forno de resistência tipo caixa de alto desempenho, projetado para fornecer tratamento térmico preciso até 1200 °C sob vácuo ou atmosfera controlada. Com uma câmara espaçosa de 600 × 800 × 600 mm, oferece um ambiente ideal para o processamento de materiais avançados, incluindo metais, cerâmicas, nanomateriais e semicondutores. Seu design robusto o torna uma excelente opção para universidades, institutos de pesquisa, instalações de fabricação e laboratórios privados que exigem desempenho confiável em altas temperaturas.
Projetado para operar continuamente a uma temperatura de 1100 °C e alimentado por um sistema de 380 V/7.5 kW, o forno garante um funcionamento consistente para aplicações exigentes. Elementos de aquecimento de fio resistivo de liga HRE de alta qualidade proporcionam uma distribuição de calor eficiente e uniforme, enquanto um termopar tipo N mantém a precisão da temperatura dentro de ±1 °C. Essa combinação de durabilidade, precisão e versatilidade torna o TT-VAF-288-1200 uma solução essencial para ambientes industriais e de pesquisa focados no desenvolvimento de materiais avançados.
Pesquisa avançada de materiais – Proporciona um tratamento preciso e uniforme em altas temperaturas sob vácuo ou atmosferas controladas, permitindo a sinterização, recozimento e calcinação de cerâmicas avançadas, nanomateriais e estruturas compósitas.
Metalurgia e Processamento de Pó – Permite a sinterização a vácuo e a densificação de pós metálicos e ligas especiais. Garante a redução da oxidação e da contaminação, produzindo componentes fortes e uniformes para uso industrial e em pesquisa.
Indústria de semicondutores e eletrônicos – Facilita a oxidação, difusão e recozimento de substratos semicondutores em atmosferas controladas. Proporciona um controle preciso da temperatura, essencial para a fabricação de microeletrônica e optoeletrônica.
Nanotecnologia e Materiais Funcionais – Permite o tratamento térmico de nanoestruturas e materiais catalíticos sob vácuo ou gás inerte. Garante pureza, estabilidade e reprodutibilidade em pesquisas de ponta com nanomateriais.
Engenharia Aeroespacial e de Defesa – Proporciona processamento térmico confiável de ligas avançadas, cerâmicas e compósitos usados em aplicações aeroespaciais e de defesa de alta tensão. Mantém a integridade estrutural e o desempenho sob condições extremas.
Pesquisa em Energia e Baterias – Permite o tratamento em atmosfera controlada de eletrólitos de estado sólido, materiais de cátodo/ânodo e sistemas de armazenamento de energia de última geração. Aprimora a estabilidade térmica e o desempenho de ciclo de tecnologias avançadas de baterias.
Laboratórios Químicos e Petroquímicos – Adequado para ativação de catalisadores, estudos de decomposição e análise de reações térmicas sob vácuo ou atmosfera de gás protetor. Garante resultados reproduzíveis e livres de contaminação.
Universidades e institutos de pesquisa Ideal para estudos multidisciplinares em física, química e ciência dos materiais. Oferece programação versátil, compatibilidade com vácuo e recursos de segurança robustos para pesquisa laboratorial avançada.
Industrial Quality Control & Certificação – Oferece desempenho consistente e rastreável em altas temperaturas, em conformidade com as normas ISO, CE, SGS e TÜV. Fornece resultados prontos para auditoria em setores regulamentados.
Concha de Forno
- Feito de aço de baixo carbono Q235 com superfície anticorrosiva e resistente a choques elétricos.
- O design durável do tanque de metal garante uma baixa temperatura externa.
- Porta do forno com abertura lateral, vedação tipo flange e compressão manual do parafuso para fácil operação.
Material refratário
- Isolamento multicamadas composto por fibra cerâmica de alumina leve e placas isolantes de alta qualidade. O design é livre de amianto, proporcionando baixa perda de calor e consumo de energia reduzido.
Sistema de Aquecimento
- Equipado com elementos de aquecimento de fio de resistência espiral HRE de alta qualidade, firmemente embutidos no revestimento do forno. Distribui calor radiante por toda a câmara para um desempenho energeticamente eficiente e duradouro.
- Aquecimento em três lados (esquerdo, direito e inferior) garante excelente uniformidade de temperatura.
- Uma placa de base de carboneto de silício protege os elementos de aquecimento inferiores, oferecendo alta resistência mecânica, condutividade térmica eficiente e suporte de carga horizontal estável.
Painel de controle de temperatura
- Controlador de temperatura PID com saída SSR/SCR para regulação térmica precisa.
- Utiliza um termopar de níquel-cromo-silício tipo N padrão, com uma faixa de temperatura de 0–1300 °C e vida útil estendida.
Controlador de Programa
- Projetado para processamento térmico complexo.
- Interface amigável com opções de programação flexíveis.
- Suporta até 30 segmentos programáveis em um único perfil.
- Alarmes integrados de superaquecimento e falhas do sistema com desligamento automático de segurança.
Função de atmosfera de vácuo
- A câmara do forno inclui portas de entrada e saída ajustáveis para introdução de gases de proteção.
- Compatível com diversas bombas de vácuo para atingir níveis de vácuo que variam de 500 Pa a 0.06 Pa. Um medidor de vácuo digital fornece leituras de vácuo em tempo real.
- Unidade de controle de gás opcional disponível, suportando de 1 a 3 medidores de vazão de flutuação ajustáveis para gerenciamento preciso do fluxo de gás.
| Modelo | TT-VAF-3-1200 | TT-VAF-6-1200 | TT-VAF-8-1200 | TT-VAF-12-1200 | TT-VAF-18-1200 | TT-VAF-30-1200 |
Tamanho câmara (L x P x A) mm | 150 x150x150 | 180x230x150 | 200x300x120 | 200 x300x200 | 250 x300x250 | 300 x500x200 |
| Temperatura avaliado | 1200 ℃ | |||||
| Temperatura de trabalho | 1100 ℃ | |||||
| Voltagem | 220 V/2.5 kW (110 V também está disponível) | 220 V/3 kW (110 V também está disponível) | 220 V/3 kW (110 V também está disponível) | 220 V/4 kW (110 V também está disponível) | 220 V/6 kW (110 V também está disponível) | 220 V/7.5 kW (110 V também está disponível) |
| Elemento de Aquecimento | Fio de resistência de liga HRE | |||||
| Materiais de Câmara | Material de fibra cerâmica de alumina inorgânica policristalina feito pelo método de filtração a vácuo úmido | |||||
| Controle de temperatura Accracy | ± 1 ℃ | |||||
| Termopar | Termopar tipo N | |||||
| Controlador de temperatura | Controlador de temperatura PID inteligente por microcomputador, com controle SCR/SSR e função de autoajuste dos parâmetros PID. Programável em 4 grupos de curvas, cada uma com 8 segmentos, totalizando 32 segmentos para aquecimento, manutenção da temperatura e resfriamento. | |||||
| Taxa de aquecimento | 1-25℃/min pode ser ajustável | |||||
| Estrutura do Forno | Estrutura integrada de controle de temperatura do forno | |||||
| Proteção de Equipamentos | Controle modular com alarme sonoro e visual para sobretemperatura e rompimento do termopar durante o funcionamento, com acionamento automático da proteção. | |||||
| Proteção de Segurança | O equipamento está equipado com um disjuntor que se abre automaticamente em caso de curto-circuito, protegendo assim a segurança do equipamento e dos operadores. | |||||
| Concha de Forno | Chapa de aço laminada a frio de alta qualidade, processada por máquinas CNC, passa por etapas de soldagem, retificação, polimento, fosfatização, decapagem e pintura eletrostática a pó. | |||||
| Certificado de qualidade | ISO9001 CE SGS TUV | |||||
| Dispositivo padrão | 1. Corpo principal do forno: 1 conjunto; 2. Controlador de temperatura: 1 unidade; 3. Cabo de alimentação: 3 metros; 4. Termopar: 1 unidade; 5. Manual de operação: 1 unidade; 6. Pinça para cadinho: 1 unidade; 7. Luvas para alta temperatura: 1 par | |||||
| Acessórios opcionais | 1、Opcional com bomba de vácuo rotativa (nível de grau de vácuo ≤500pa) 2、Medidor de vácuo digital opcional （1.0×105-1.0×10-1pa） 3、Opcional com medidor de flutuação de gás (faixa de fluxo de flutuação 1-10L/min) | |||||