Forno de fundo elevatório TT-LF-27-1200

Produto pai

O forno de fundo móvel TT-LF-27-1200, com temperatura de operação de 1200 °C, foi projetado para uso em universidades, centros de pesquisa, instalações industriais e ambientes de laboratório. Ele oferece desempenho confiável para uma ampla gama de aplicações envolvendo materiais avançados, como metais, cerâmicas, nanomateriais e semicondutores.

Além disso, este forno é ideal para laboratórios de prótese dentária, oferecendo sinterização precisa e consistente para próteses dentárias. Com uma câmara compacta de 27 litros, controle preciso de temperatura e construção robusta, garante eficiência e estabilidade tanto para pesquisa quanto para aplicações práticas.

  • Materiais Cerâmicos Avançados – Permitem a sinterização e densificação de cerâmicas em altas temperaturas, garantindo excelente estabilidade térmica, resistência mecânica e integridade estrutural para aplicações industriais e acadêmicas.

  • Pesquisa em Nanomateriais – Oferece tratamento térmico preciso e uniforme para nanoestruturas e compósitos avançados. Apoia pesquisa e desenvolvimento em nanomateriais funcionais para eletrônica, catálise e tecnologias de armazenamento de energia de próxima geração.

  • Materiais semicondutores – Facilita processos controlados de recozimento, difusão e oxidação para substratos semicondutores. Oferece a precisão necessária para inovação em microeletrônica, fotovoltaica e optoeletrônica.

  • Metalurgia do Pó – Permite a sinterização em alta temperatura de metais em pó, resultando em componentes densos e duráveis. Amplamente aplicada na produção de ligas avançadas e geometrias complexas, tanto para pesquisa quanto para fabricação em pequena escala.

  • Laboratórios de Prótese Dentária – Garantem a sinterização consistente e precisa de próteses dentárias, oferecendo resultados confiáveis ​​para coroas, pontes e cerâmicas dentárias avançadas. Proporcionam a precisão e a repetibilidade essenciais para aplicações clínicas.

  • Universidades e Institutos de Pesquisa – Projetado para estudos avançados em ciência dos materiais, química e física. Oferece ciclos térmicos programáveis, recursos de segurança robustos e desempenho confiável para pesquisa e educação.

  • Laboratórios Industriais e Quality Control – Adequado para validação de produtos, testes térmicos e certificação em indústrias regulamentadas. Oferece resultados reproduzíveis e de alta precisão, em conformidade com as normas ISO, CE e SGS.

Concha de Forno

  • Feito de aço de baixo carbono Q235 com acabamento resistente a eletrostática e anticorrosão.
  • Gabinete de metal durável projetado para manter uma temperatura baixa na superfície externa.
  • A porta de abertura lateral possui uma estrutura selada por flange com travamento manual por parafuso para operação fácil e segura.

Material refratário

  • Isolamento multicamadas composto por fibra cerâmica de alumina leve e placas isolantes de alta qualidade. Livre de amianto, proporcionando baixa perda de calor e menor consumo de energia.

Sistema de Aquecimento

  • Elementos de aquecimento de resistência de alta eficiência fornecem calor radiante direto dentro da câmara para maior vida útil.
  • Elementos do tipo anel envolvente proporcionam distribuição uniforme de temperatura.
  • Os recursos opcionais incluem uma porta de exaustão superior e uma entrada de ar inferior com fluxo ajustável.
  • As bandejas de carregamento podem ser empilhadas na parte inferior, permitindo o posicionamento de material multicamadas, dependendo do tipo de forno.

Painel de controle de temperatura

  • Controlador PID com modo SSR/SCR garante regulação precisa da temperatura.
  • Equipado com um termopar de alta qualidade construído de acordo com padrões internacionais para confiabilidade a longo prazo.

Controlador de Programa

  • Sistema de controle avançado adequado para processos térmicos complexos.
  • Interface amigável com opções de programação flexíveis.
  • Suporta até 30 segmentos programáveis por curva térmica.
  • Proteção contra superaquecimento e alarmes de falha integrados para maior segurança operacional.

Forno de fundo elevatório TT-LF-27-1200
Forno de fundo elevatório TT-LF-27-1200
Forno de fundo elevatório TT-LF-27-1200

Modelo Produto

Tamanho da câmara (mm)

Volume

Temperatura máxima

Temperatura de trabalho

Voltagem

Energia

Elemento de Aquecimento

Precisão do controle de temperatura

TT-LF-120-1200Φ120 × 1202L1200 ℃1100 ℃220 V (110 V também está disponível)2KWHRE± 1 ℃
TT-LF-150-1200Φ150 × 1503L1200 ℃1100 ℃220 V (110 V também está disponível)3KWHRE± 1 ℃
TT-LF-200-1200Φ200 × 2006L1200 ℃1100 ℃220 V (110 V também está disponível)4KWHRE± 1 ℃
TT-LF-300-1200Φ300 × 30020L1200 ℃1100 ℃380V6KWHRE± 1 ℃
TT-LF-120-1400Φ120 × 1202L1400 ℃1350 ℃220 V (110 V também está disponível)3KWSIC± 1 ℃
TT-LF-150-1400Φ150 × 1503L1400 ℃1350 ℃220 V (110 V também está disponível)4KWSIC± 1 ℃
TT-LF-200-1400Φ200 × 2006L1400 ℃1350 ℃220 V (110 V também está disponível)5KWSIC± 1 ℃
TT-LF-300-1400Φ300 × 30020L1400 ℃1350 ℃380V6KWSIC± 1 ℃
TT-LF-120-1700Φ120 × 1202L1700 ℃1600 ℃220 V (110 V também está disponível)3KWMoSi2± 1 ℃
TT-LF-150-1700Φ150 × 1503L1700 ℃1600 ℃220 V (110 V também está disponível)4KWMoSi2± 1 ℃
TT-LF-200-1700Φ200 × 2006L1700 ℃1600 ℃220 V (110 V também está disponível)4KWMoSi2± 1 ℃
TT-LF-300-1700Φ300 × 30020L1700 ℃1600 ℃380V8KWMoSi2± 1 ℃

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