Revestimento por pulverização catódica de mesa com alvo triplo de magnetron de alto vácuo-DST3-A/S
O revestimento por pulverização catódica de mesa com alvo triplo magnetron de alto vácuo-DST3-A/S é um sistema versátil de revestimento a vácuo multialvo, com bombeamento turbo molecular, adequado para depositar uma ampla variedade de materiais. Ele vem com uma câmara espaçosa com diâmetro de 300 mm e está equipado com três cátodos resfriados a água de 2” de diâmetro, permitindo longos períodos de deposição.
Este revestidor por pulverização catódica de mesa com alvo triplo Magnetron está bem equipado com fontes de alimentação RF e CC, permitindo-lhe pulverizar com eficácia semicondutores, dielétricos e vários alvos metálicos, incluindo metais oxidantes e nobres. Para otimizar o processo de pulverização catódica de RF, o sistema inclui uma caixa de correspondência autoajustável, que minimiza a potência refletida.
Para melhorar a adesão do filme ao substrato e melhorar as estruturas do filme, há também um recurso opcional que permite a aplicação de uma tensão de polarização de 300 V CC ao substrato.
Dependendo da condição dos cátodos, o DST3 é oferecido em dois modelos distintos.
- Filmes metálicos, semicondutores e dielétricos
- Aplicações nano e microeletrônicas
- Desenvolvimento de células solares
- Processos de co-sputtering
- Técnica de pulverização catódica GLAD
- Revestimento de componentes ópticos
- Fabricação de sensores de filme fino
- Produção de dispositivos magnéticos de película fina
- Deposição estrutural de grão fino para preparação de amostras SEM e FE-SEM
Hardware:
- Alto nível de vácuo com bomba turbo integrada
- Equipado com fontes de alimentação DC e RF opcionais adequadas para metais, semicondutores e dielétricos
- Três cátodos magnetron angulares resfriados a água de 2 polegadas adequados para a produção de filmes de liga (DST3-A) e deposição multicamadas
- Estágio porta-amostras grande (8 polegadas) para modelo DST3-S
- Máscara catódica projetada para deposição uniforme em grandes substratos (DST3-S)
- Dois sistemas de monitoramento de cristal de quartzo fixos e móveis para medição de espessura em tempo real (precisão de 1 nm)
- Controle de injeção de gás através de dois Controladores de Fluxo de Massa (MFCs)
- Válvulas eletrônicas de gás
- Bomba de apoio de palhetas rotativas de dois estágios (bomba de diafragma e scroll)
- Medidor de vácuo de gama completa
- Motor de seleção de cátodo
- Rotação da amostra, altura e inclinação ajustáveis (para porta-amostras de 3 polegadas)
- Equipado com 3 estores manuais ou eletrónicos opcionais
- Aquecedor de substrato programável (opcional)
- Tempo de deposição ilimitado sem quebrar o vácuo
- Dois anos de garantia
Automação:
- Uma tela sensível ao toque intuitiva para fácil controle do processo de revestimento e rápida entrada de dados
- Software fácil de usar que pode ser atualizado através de uma conexão de rede
- Processo de revestimento semi-totalmente automático opcional
- Processo de pulverização catódica repetível e programável em modo automático
- Parâmetros ajustáveis opcionais para CC, RF e deposição de alta corrente através do painel da tela de toque
- Deposição cronometrada e de espessura manual ou automática
- Capacidade de armazenar receitas de revestimento para deposições repetíveis
- Seleção de alvo para filmes finos multicamadas
- Persianas eletrônicas para controle preciso
- Seleção automatizada de cátodo
- Programação e controle do aquecedor de substrato através do software
Instalações opcionais:
O revestidor a vácuo DST3 possui uma câmara de vácuo cilíndrica Pyrex com diâmetro externo de 300 mm e altura de 200 mm. É equipado com uma bomba turbomolecular de 90 L/s montada internamente, que é suportada por uma bomba de palhetas rotativas de dois estágios de 6 m3/h para operação eficiente de vácuo.
Vácuo Limpo
- Sputtering de RF para a deposição de alvos condutores e não condutores
- Limpador de plasma para recursos de limpeza aprimorados
- Tensão de polarização do substrato de 300 V CC
- Aquecedor de substrato de 500 °C para controle preciso da temperatura durante o processo de revestimento.
Controle da tela de toque
O DST3 vem com um painel touch-screen colorido de 7”, com software fácil de usar para controle e ajuste contínuos dos dados do processo de deposição. Você pode monitorar facilmente as informações de vácuo e sequência de revestimento, que são exibidas como dados digitais ou curvas na tela sensível ao toque. Além disso, o sistema armazena informações sobre os últimos 300 revestimentos na página de histórico para sua conveniência.
Estágios de suporte de amostra
O porta-amostras vem em dois tamanhos padrão: 3 polegadas, disponível nos modelos DST3-A e DST3-S, e 8 polegadas, exclusivo do DST3-S. No entanto, os usuários têm a flexibilidade de solicitar tamanhos personalizados adaptados às suas necessidades específicas. Os porta-amostras menores são equipados com vários grampos projetados para segurar amostras pequenas com segurança durante a rotação, oferecendo uma solução simples e eficaz.
Limpador de Plasma
O DST3 pode ser opcionalmente equipado com um limpador de plasma. O tratamento ou limpeza com plasma envolve a remoção de substâncias orgânicas da superfície de um substrato ou sua modificação com gás ionizado, conhecido como plasma. Este processo pode alterar as propriedades da superfície do substrato, aumentando a sua hidrofilicidade ou hidrofobicidade para facilitar de forma eficaz as deposições subsequentes. Além disso, a aplicação de plasma ao substrato antes de depositar filmes finos ajuda a eliminar contaminantes superficiais, como resíduos e óxidos à base de carbono, ao mesmo tempo que melhora a adesão entre o substrato e as camadas subsequentes.
DST3-A (cátodos angulares):
O DST3-A possui três cátodos angulares que compartilham um ponto focal comum. Esta configuração permite a pulverização simultânea de dois ou três alvos (opcionais), possibilitando a formação de ligas ou deposições multicamadas. Neste modelo, o tamanho máximo do substrato é de 3 polegadas.
DST3-S (cátodos retos):
O modelo DST3-S é equipado com três cátodos retos de 2 polegadas resfriados a água e é projetado para pulverizar uma única amostra grande com diâmetro de até 20 cm ou várias amostras menores.
- Vácuo final: menos de 8x10-6 Torr
| Cabeçalho da tabela | ||
|---|---|---|
Velocidade de bombeamento (l/s) | 90 | 350 |
Pressão Final (Torr) | 8 × 10-6 | 3 × 10-6 |
- Cada cátodo pode controlar independentemente a taxa de pulverização catódica para produzir estruturas de grãos finos.
- A espessura máxima de cada alvo, incluindo a placa de apoio, é de 6 mm.
- A potência de deposição é controlada automaticamente independentemente da pressão.
- As temperaturas do cátodo são reguladas automaticamente para prolongar a vida útil dos ímãs.
- Os dados são gravados rapidamente usando o controle totalmente automático da tela de toque.
- Dois medidores de fluxo de massa (MFC) de precisão permitem o controle preciso da pressão do vácuo e do fluxo de argônio ou outros gases de pulverização catódica reativos.
- Uma válvula borboleta eletrônica está incluída para a bomba turbo de 350 l/s.
- Os parâmetros de revestimento são registrados e plotados.
- Curvas e dados do processo de deposição podem ser transferidos através de uma porta USB para um PC.
- Uma tensão de polarização opcional de 300 Vcc pode ser adicionada.
- Existe uma opção para um limpador de plasma.
- O sistema inclui uma fonte de alimentação CC de 0-1200 V, 0-500 mA.
- Está disponível uma fonte de alimentação RF opcional de 300 W com uma caixa de correspondência automática.
- Utilidades: 220/110V, 50/60HZ, com corrente nominal de 16/25A.
- Dimensões do instrumento: 600 Largura × 800 Profundidade × 770 Altura mm (excluindo o rack).
- Peso líquido: 160 kg, incluindo bomba, rack e caixa de instrumentos.
Opções e acessórios
- Sensor de cristal de quartzo
- Câmara de vidro sobressalente
- Alvos de pulverização catódica
- Juntas de vedação
- Tensão de polarização de 300 Vcc
- Limpador de plasma
- Aquecedor de substrato de 500°C
