Forno ad atmosfera sottovuoto – TT-VAF-467-1200

Prodotto principale

Il forno ad atmosfera sottovuoto TT-VAF-467-1200 è un forno a resistenza di tipo box, progettato per offrire prestazioni precise ad alta temperatura fino a 1200 °C, con una temperatura di esercizio continua di 1100 °C. Progettato per la massima versatilità, soddisfa le esigenze di laboratori industriali presso università, istituti di ricerca, stabilimenti di produzione e aziende private. Questo forno è particolarmente adatto per la lavorazione di materiali avanzati in settori come metalli, ceramiche, nanomateriali e semiconduttori, dove precisione, costanza e ambienti controllati sono essenziali.

Con una camera interna di 200 × 200 × 200 mm, il TT-VAF-467-1200 combina durata ed efficienza grazie ai suoi elementi riscaldanti a filo resistivo in lega HRE e alla termocoppia di tipo N per misurazioni termiche affidabili. Il suo sistema di controllo intelligente garantisce una precisione della temperatura di ±1 °C, offrendo prestazioni di riscaldamento stabili e uniformi. Funzionante a 220 V/2 kW (con una versione opzionale a 110 V disponibile), questo forno offre una soluzione compatta ma potente per i laboratori che richiedono risultati riproducibili in applicazioni di trattamento termico ad alta temperatura.

Forno ad atmosfera sottovuoto – TT-VAF-467-1200

Forno ad atmosfera sottovuoto – TT-VAF-467-1200

Forno ad atmosfera sottovuoto – TT-VAF-467-1200

  • Materiali ceramici avanzati – Consente la sinterizzazione, la ricottura e la densificazione ad alta temperatura di ceramiche sotto vuoto o in atmosfere controllate. Garantisce un'eccellente resistenza termica, integrità strutturale e riproducibilità per applicazioni industriali e di ricerca.

  • Ricerca sui nanomateriali – Fornisce un trattamento termico uniforme per nanostrutture e compositi avanzati. Supporta la ricerca e sviluppo su nanomateriali funzionali, catalizzatori, rivestimenti e sistemi di accumulo di energia di nuova generazione.

  • Materiali semiconduttori – Facilita l'ossidazione, la diffusione e la ricottura di wafer semiconduttori in ambienti privi di contaminazione. Garantisce un controllo preciso della temperatura, essenziale per la produzione di microelettronica, fotonica e optoelettronica.

  • Metallurgia delle polveri – Supporta la sinterizzazione assistita dal vuoto di polveri metalliche in componenti densi e omogenei. Riduce il rischio di ossidazione garantendo al contempo proprietà meccaniche e termiche costanti per leghe avanzate e produzione additiva.

  • Ingegneria dei materiali aerospaziali e di difesa – Fornisce il trattamento termico in atmosfera controllata di leghe, ceramiche e compositi ad alte prestazioni. Garantisce resistenza meccanica, stabilità termica e validazione del materiale in condizioni operative estreme.

  • Ricerca su energia e batterie – Offre un trattamento termico preciso di elettroliti allo stato solido, elettrodi e materiali energetici avanzati sotto vuoto o in gas protettivo. Garantisce riproducibilità, stabilità alle alte temperature e condizioni di assenza di contaminazione.

  • Laboratori chimici e petrolchimici – Ideale per l'attivazione di catalizzatori, la decomposizione termica e gli studi di reazione che richiedono atmosfere controllate. Fornisce risultati accurati e ripetibili per la ricerca e sviluppo chimica e l'ottimizzazione dei processi.

  • Università e Istituti di ricerca – Uno strumento versatile per laboratori di fisica, chimica, scienza dei materiali e ingegneria. Dotato di controllo programmabile, funzionalità di vuoto e protezioni di sicurezza avanzate per supportare flussi di lavoro sperimentali complessi.

  • Industria Quality Control e certificazione – Esegue test ad alta temperatura sotto vuoto o in atmosfera controllata per la convalida del prodotto, la verifica della conformità e la certificazione di terze parti. Conforme agli standard ISO9001, CE, SGS e TÜV per i settori regolamentati.

Rivestimento della fornace

  • Realizzato in acciaio a basso tenore di carbonio Q235, il guscio è dotato di un rivestimento resistente alla corrosione applicato elettrostaticamente.
  • Struttura del serbatoio in metallo resistente, progettata per mantenere bassa la temperatura della superficie esterna.
  • Porta del forno ad apertura laterale con guarnizione a flangia e compressione manuale della vite per facilità d'uso e chiusura sicura.

Materiale refrattario

  • Isolamento multistrato con fibra ceramica di allumina leggera e pannelli isolanti di alta qualità. Priva di amianto, la struttura riduce al minimo la dispersione di calore e garantisce l'efficienza energetica.

Sistema di Riscaldamento

  • Gli elementi resistivi a spirale HRE di alta qualità sono saldamente inseriti nelle pareti della camera, offrendo calore radiante libero per un funzionamento efficiente e una maggiore durata.
  • Il riscaldamento su tre lati (sinistro, destro e inferiore) garantisce un'eccellente uniformità della temperatura.
  • Una piastra di base in carburo di silicio protegge l'elemento riscaldante inferiore, garantendo un forte supporto meccanico, un'efficiente conduttività termica e una superficie piana e portante.

Pannello di controllo della temperatura

  • Dispone di un controller PID con modalità di controllo SSR/SCR per una gestione accurata della temperatura.
  • Dotato di termocoppia nichel-cromo-silicio di tipo N ad alta precisione (intervallo: 0–1300 °C) per un utilizzo affidabile e a lungo termine.

Controller di programma

  • Controllore avanzato adatto a requisiti di processo complessi.
  • Interfaccia intuitiva con opzioni di programmazione flessibili.
  • Supporta fino a 30 segmenti per programma per curve di controllo della temperatura dettagliate.
  • Include allarmi di sovratemperatura e guasto con spegnimento automatico di sicurezza.

Funzione dell'atmosfera del vuoto

  • La camera del forno è dotata di porte di ingresso e di uscita regolabili per l'introduzione di gas protettivi.
  • Compatibile con diverse pompe per vuoto per raggiungere livelli di vuoto da 500 Pa a 0.06 Pa; livello di vuoto visualizzato tramite manometro digitale.
  • Disponibile sistema di controllo del circuito dell'aria opzionale, con da 1 a 3 misuratori di portata a galleggiante regolabili.

Modello

TT-VAF-3-1200

TT-VAF-6-1200

TT-VAF-8-1200

TT-VAF-12-1200

TT-VAF-18-1200

TT-VAF-30-1200

Dimensioni della camera

(L x P x A) mm

150 x150x150180x230x150200x300x120200 x300x200250 x300x250300 x500x200
Temperatura nominale1200 ℃
Temperatura del lavoro1100 ℃
Tensione220V/2.5KW (disponibile anche 110V)220V/3KW (disponibile anche 110V)220V/3KW (disponibile anche 110V)220V/4KW (disponibile anche 110V)220V/6KW (disponibile anche 110V)220V/7.5KW (disponibile anche 110V)
Elemento riscaldanteFilo di resistenza in lega HRE
Materiali della cameraMateriale in fibra ceramica di allumina inorganica policristallina realizzato mediante metodo di filtrazione sotto vuoto umido
Controllo della temperatura Precisione± 1 ℃
TermocoppiaTermocoppia di tipo N
regolatore di temperaturaStrumento di controllo della temperatura PID con microcomputer intelligente, controllo SCR/SSR, funzione di autoregolazione dei parametri PID. Curve di programma programmabili in 4 gruppi, ciascuna con 8 segmenti per un totale di 32 segmenti per il riscaldamento programmato, la conservazione del calore programmato, il raffreddamento programmato.
Tasso di riscaldamento1-25℃/min può essere regolabile
Struttura del fornoStruttura integrata per il controllo della temperatura del forno
Protezione delle apparecchiatureControllo modulare con segnale di allarme sonoro e luminoso inviato in caso di sovratemperatura e termocoppia rotta durante il processo di lavorazione, e l'azione di protezione verrà completata automaticamente
Protezione di SicurezzaL'apparecchiatura è dotata di un interruttore automatico che si apre automaticamente in caso di cortocircuito, proteggendo la sicurezza dell'apparecchiatura e degli operatori.
Rivestimento della fornaceLamiera d'acciaio laminata a freddo di alta qualità con lavorazione tramite macchine utensili CNC, quindi verrà sottoposta al processo di saldatura, molatura, lucidatura, fosfatazione, decapaggio, spruzzatura elettrostatica superficiale di polvere di plastica
Certificato di QualitàCertificazione ISO9001 CE SGS TUV
Dispositivo standard1、Corpo principale del forno: 1 set 2、Regolatore di temperatura: 1 pz 3、Linea di alimentazione: 3 metri 4、Termocoppia: 1 pz 5、Manuale operativo; 1 pz 6Pinza per crogiolo; 1 pz 7、Guanti ad alta temperatura: 1 paio
accessori opzionali

1、Opzionale con pompa per vuoto rotativa (livello di vuoto ≤500pa)

2. Vacuometro digitale opzionale (1.0×105-1.0×10-1pa)

3. Opzionale con misuratore di portata a galleggiante (portata del galleggiante 1-10 l/min)

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