Pelapis Putar Vakum – ToronSC™ 350
ToronSC™ 350 adalah mesin pelapis putar vakum kompak yang dirancang untuk pengendapan lapisan tipis yang andal dan seragam pada substrat hingga diameter 4 inci (100 mm). Dirancang untuk laboratorium penelitian, universitas, dan aplikasi pelapisan industri ringan, mesin pelapis putar ToronSC™ 350 menghasilkan lapisan tipis yang dapat direproduksi dari larutan sol-gel, photoresist, larutan polimer, dan pelapis cair lainnya menggunakan fiksasi substrat vakum untuk kinerja putaran yang stabil dan terpusat.
Rumah aluminium cor memberikan kekakuan struktural dan operasi getaran rendah untuk keseragaman pelapisan yang konsisten. Cakram cair polipropilen di dalam ruangannya tahan terhadap sebagian besar pelarut pelapis, memungkinkan pembersihan pelarut yang mudah di antara setiap proses. Instrumen ini mencakup pompa vakum tanpa oli dan seperangkat aksesori lengkap untuk penggunaan langsung, menjadikan ToronSC™ 350 salah satu alat pelapis putar vakum yang paling siap digunakan di lapangan di kelasnya.
Pelapis Putar Vakum – Aplikasi ToronSC™ 350
Mesin pelapis putar vakum ToronSC™ 350 dirancang untuk aplikasi pelapisan putar yang melibatkan larutan kimia yang agresif:
- Deposisi lapisan tipis sol-gel: pelapisan seragam oksida logam dan larutan prekursor fungsional pada substrat silikon dan kaca berukuran 4 inci atau lebih kecil.
- Pelapisan putar photoresist: aplikasi resist fotolitografi standar pada wafer semikonduktor untuk proses akademis dan penelitian & pengembangan.
- Pelapisan film polimer: pelapisan putar larutan polimer untuk aplikasi film dielektrik, enkapsulan, atau elektroaktif dalam penelitian.
- Pelapisan suspensi nanopartikel: pengendapan larutan bermuatan nanopartikel untuk penelitian pelapisan fungsional pada substrat datar.
- Laboratorium penelitian dan universitas: alat pelapis putar vakum tepercaya untuk kelompok penelitian ilmu material, kimia, fisika, dan teknik.
- Penelitian pelapisan optik: pengendapan lapisan tipis anti-refleksi, filter, atau optik fungsional pada substrat kaca datar atau wafer.
Fitur Utama Mesin Pelapis Putar Vakum – ToronSC™ 350
1. Fiksasi Substrat dengan Chuck Vakum
Substrat dipegang oleh hisapan vakum untuk penempatan yang stabil dan terpusat selama siklus putaran. Hal ini mencegah pergerakan substrat, getaran, dan pelapisan yang tidak terpusat yang dapat terjadi dengan penahan mekanis, sehingga menghasilkan keseragaman lapisan film yang superior di seluruh substrat.
2. Kontrol Kecepatan Terprogram Dua Segmen
Dua segmen yang dapat diprogram secara independen — masing-masing dengan kecepatan putaran dan waktu putarannya sendiri — memungkinkan protokol pelapisan putar dua fase standar (pendistribusian pada kecepatan rendah, penyebaran pada kecepatan tinggi) dalam satu siklus otomatis.
3. Casing Cor Aluminium untuk Pengoperasian dengan Getaran Rendah
Rumah coran aluminium menjaga spin coater tetap kaku dan stabil secara mekanis pada kecepatan tinggi, meminimalkan getaran yang dapat mengganggu keseragaman lapisan film di seluruh substrat.
4. Cakram Cair Tahan Bahan Kimia Polipropilena
Cakram cair di dalam ruang tersebut terbuat dari polipropilena, yang memberikan ketahanan kimia terhadap sebagian besar pelarut pelapis putar umum dan memungkinkan pembersihan bilas pelarut secara menyeluruh di antara proses pelapisan.
5. Pompa Vakum Tanpa Oli dengan Filter Air Limbah
Pompa vakum tanpa oli yang disertakan menghasilkan daya hisap bersih dan bebas oli untuk fiksasi substrat. Filter di antara alat pelapis dan pompa mencegah cairan masuk dan merusak pompa.
6. Saluran Pembuangan dan Sambungan Panel Belakang
Saluran pembuangan dan konektor pompa vakum ditempatkan di panel belakang, menjaga area kerja tetap bersih dan terorganisir untuk alur kerja pelapisan putar laboratorium rutin.
Teori dan Metode
ToronSC™ 350 beroperasi berdasarkan prinsip pengendapan lapisan tipis sentrifugal. Substrat dipegang pada penjepit vakum dengan hisapan dari pompa vakum tanpa oli, memastikan substrat tetap berada di tengah dan terpasang dengan aman selama siklus putaran penuh. Larutan pelapis diteteskan ke substrat yang diam atau berputar perlahan, dan motor berakselerasi hingga kecepatan yang diprogram. Gaya sentrifugal mendistribusikan cairan secara seragam ke luar dari pusat substrat, dengan kelebihan larutan dikeluarkan ke dalam cakram cairan polipropilen di sekitarnya.
Kontrol terprogram dua segmen memungkinkan langkah pengeluaran berkecepatan rendah diikuti oleh langkah penyebaran berkecepatan tinggi — protokol pelapisan putar dua fase standar yang digunakan untuk sebagian besar aplikasi photoresist dan sol-gel. Saluran pembuangan di panel belakang dan konektor pompa vakum memungkinkan pengoperasian yang bersih dan pemulihan pelarut yang sederhana. Filter antara pompa dan pelapis mencegah air limbah masuk ke pompa vakum, memperpanjang masa pakai pompa.
Spesifikasi Teknis Vacuum Spin Coater – ToronSC™ 350
| Parameter | Spesifikasi |
|---|---|
| Pilih Model | ToronSC™ 350 |
| Ukuran Substrat Maksimum | Diameter 4" (100mm). |
| Rentang Kecepatan Putaran | 500 - 8,000 rpm |
| Segmen yang Dapat Diprogram | 2 segmen (kecepatan + waktu masing-masing) |
| Fiksasi Substrat | Chuck vakum |
| Chamber Material | Pengecoran aluminium (wadah); cakram cair polipropilena |
| Pompa vakum | Pompa vakum tanpa oli (termasuk) |
| Filter Air Limbah | Termasuk (perlindungan pompa) |
| Saluran Pembuangan Air | Saluran pembuangan belakang |
| Tegangan | AC 110/220V, 50/60Hz |
| Sertifikasi | CE |