Pelapis Putar Listrik – ToronSC™ 100
ToronSC™ 100 adalah mesin pelapis putar listrik kompak tingkat pemula yang dirancang untuk pembentukan lapisan tipis yang cepat dan mudah pada substrat datar menggunakan larutan pelapis cair atau sol-gel. Tidak seperti mesin pelapis putar dengan penjepit vakum, ToronSC™ 100 menggunakan pemegang substrat mekanis langsung daripada hisapan vakum — menjadikannya mesin pelapis putar yang lebih sederhana dan mudah diakses untuk aplikasi di mana infrastruktur vakum tidak tersedia atau tidak diperlukan. Mesin ini kompatibel untuk digunakan di dalam kotak sarung tangan di bawah atmosfer gas argon, mendukung alur kerja pelapisan putar atmosfer inert.
Dengan kecepatan putaran maksimum 8,000 rpm dan diameter substrat maksimum 4 inci (100 mm), ToronSC™ 100 memberikan kontrol kecepatan putar yang presisi untuk pengendapan lapisan tipis yang seragam pada wafer silikon, slide kaca, dan substrat datar serupa. Ukurannya yang ringkas dan pengoperasiannya yang mudah menjadikannya spin coater pertama yang ideal untuk laboratorium universitas, kelompok R&D, dan lingkungan pengajaran yang memulai program penelitian lapisan tipis.
Pelapis Putar Elektrik – Aplikasi ToronSC™ 100
Mesin pelapis putar listrik ToronSC™ 100 dirancang untuk aplikasi pelapisan putar yang melibatkan larutan kimia yang agresif:
- Deposisi lapisan tipis sol-gel: pelapisan putar larutan prekursor oksida logam pada wafer silikon dan substrat kaca untuk penelitian film fungsional.
- Aplikasi photoresist: aplikasi lapisan photoresist pada wafer hingga 4 inci untuk penelitian fotolitografi akademis dan pengembangan proses.
- Pelapisan film tipis polimer: pelapisan putar larutan polimer untuk aplikasi enkapsulasi, dielektrik, atau film fungsional.
- Lingkungan pengajaran dan pelatihan: spin coater tingkat dasar untuk mata kuliah laboratorium mahasiswa di departemen ilmu material, fisika, dan kimia.
- Pelapisan putar dalam kotak sarung tangan: pelapisan bahan organik atau perovskit yang sensitif terhadap udara dalam atmosfer inert di bawah argon.
- Pengujian substrat kecil: uji coba pelapisan putar cepat pada substrat kecil (slide kaca, potongan wafer kecil) untuk pengembangan formulasi.
Fitur Utama Mesin Pelapis Putar Elektrik – ToronSC™ 100
1. Penahan Substrat Mekanis Tanpa Vakum
ToronSC™ 100 menggunakan dudukan substrat mekanis alih-alih hisapan vakum, sehingga menghilangkan kebutuhan akan pompa vakum. Hal ini menyederhanakan pengaturan instrumen dan membuatnya mudah diakses oleh laboratorium tanpa infrastruktur vakum.
2. Kompatibel dengan Kotak Sarung Tangan Atmosfer Argon
Kompatibel dengan atmosfer gas argon untuk digunakan di dalam kotak sarung tangan tertutup, mendukung pelapisan putar atmosfer inert pada material yang sensitif terhadap kelembapan dan oksigen.
3. Kecepatan Variabel 500–8,000 rpm dengan Kontrol Presisi
Kecepatan putaran yang dapat diubah secara kontinu dari 500 hingga 8,000 rpm dengan kontrol kecepatan motor listrik yang presisi untuk ketebalan lapisan film yang dapat direproduksi di seluruh proses pelapisan putar berurutan.
4. Ukuran Ringkas untuk Diletakkan di Atas Meja
Dirancang sebagai mesin pelapis putar meja yang ringkas, cocok untuk lingkungan laboratorium dengan meja kecil, lemari asam, dan integrasi kotak sarung tangan tanpa memerlukan ruang kerja khusus yang besar.
5. Substrat hingga 4" (100 mm)
Mampu menampung substrat datar hingga diameter 4 inci (100 mm), mencakup ukuran wafer dan substrat yang paling umum digunakan dalam aplikasi pelapisan putar (spin coating) di bidang akademis dan penelitian & pengembangan.
6. Pengoperasian Langsung Sederhana
Pengaturan kecepatan dan waktu yang mudah melalui antarmuka kontrol digital, membuat spin coater ini mudah dioperasikan bagi pengguna dengan pelatihan peralatan minimal.
Teori dan Metode
Mesin pelapis putar ToronSC™ 100 melapisi film tipis dengan cara menyebarkan larutan pelapis cair secara sentrifugal pada substrat yang berputar. Substrat ditempatkan pada penjepit putar dan diamankan secara mekanis, setelah itu larutan pelapis diteteskan ke tengah substrat menggunakan jarum suntik. Motor mempercepat substrat hingga kecepatan putaran yang diprogram, dan gaya sentrifugal menyebarkan larutan secara radial ke luar permukaan substrat, membuang kelebihan cairan dari tepi dan meninggalkan lapisan pelapis yang tipis dan seragam.
Ketebalan film dipengaruhi oleh kecepatan putaran, akselerasi, waktu putaran, dan sifat larutan (viskositas dan konsentrasi). Motor DC listrik ToronSC™ 100 memberikan kontrol kecepatan putaran yang konsisten dan berulang — memastikan reproduktivitas ketebalan film dari satu proses ke proses berikutnya. Desain tanpa vakum menyederhanakan pengoperasian dengan menghilangkan kebutuhan akan koneksi pompa vakum, sementara kompatibilitas argon memungkinkan instrumen ini digunakan di lingkungan kotak sarung tangan untuk pelapisan bahan yang sensitif terhadap udara.
Spesifikasi Teknis Mesin Pelapis Putar Elektrik – ToronSC™ 100
| Parameter | Spesifikasi |
|---|---|
| Pilih Model | ToronSC™ 100 |
| Metode Penahanan Substrat | Penahan mekanis (tanpa vakum) |
| Ukuran Substrat Maksimum | Diameter 4" (100mm). |
| Rentang Kecepatan Putaran | 500 - 8,000 rpm |
| Jenis Motor | Motor listrik DC presisi |
| Kompatibilitas Atmosfer | Gas argon (kompatibel dengan kotak sarung tangan) |
| Pompa Vakum Diperlukan | Tidak (desain tanpa vakum) |
| Tegangan | AC 110/220V, 50/60Hz |
| Sertifikasi | CE |