Système de dépôt laser pulsé PLD
Système de dépôt laser pulsé PLD adaptable et système d'évaporation thermique – PLD-T est un système avancé de dépôt de couches minces sous vide poussé qui permet le dépôt de divers matériaux en utilisant à la fois des techniques de dépôt laser pulsé et d'évaporation thermique. Ce système est capable de déposer des matériaux complexes et des structures cristallines sur des substrats avec une configuration minimale requise.
La technique de dépôt par laser pulsé facilite une ablation non thermique efficace, préservant la stœchiométrie des matériaux cibles. Grâce à cette méthode, il est possible de déposer des matériaux tels que des nitrures, des oxydes, des super-réseaux, des polymères et des composites.
Dépôt laser pulsé (PLD) – Permet un transfert précis et stœchiométrique de matériaux complexes tels que les oxydes, les nitrures, les polymères et les composites.
Couches minces cristallines – Facilitent le dépôt de super-réseaux et de structures cristallines avancées pour les applications semi-conductrices et optoélectroniques.
Évaporation thermique – Permet le dépôt de couches minces métalliques et diélectriques à l'aide de sources d'évaporation en forme de bateau, de panier ou de serpentin.
Préparation d'échantillons pour la microscopie électronique à balayage (MEB) et la microscopie électronique à transmission (MET) – Produit des revêtements de haute qualité pour les échantillons non conducteurs et les grilles de support.
Études spectroscopiques et structurales – Fournit des films minces uniformes adaptés à la caractérisation EDS/WDS, EBSD et optique.
Recherche et développement sur les couches minces – Utile pour la microélectronique, la nanotechnologie, les supraconducteurs et les recherches sur les cellules solaires.
Nettoyage plasma et préparation du substrat – Garantit des surfaces exemptes de contamination pour une croissance de couches minces précise et reproductible.
Laboratoires académiques et de recherche – Plateforme flexible pour l'enseignement, la formation avancée et les projets de recherche multidisciplinaires.
- Manipulateur de cible : Vitesse de rotation réglable pour un positionnement précis.
- Sources thermiques : Trois sources thermiques avec traversée spéciale pour une fonctionnalité améliorée.
- Mesure d'épaisseur en temps réel : Système de surveillance à cristaux de quartz avec une précision de 1 nm pour une mesure précise.
- Interface conviviale: Écran tactile intuitif pour un contrôle facile du processus de revêtement et une saisie rapide des données.
- Nettoyage au plasma : Installation de nettoyage au plasma pour assurer une préparation optimale du substrat.
- Logiciel évolutif : Logiciel convivial pouvant être mis à jour via le réseau pour des performances améliorées.
- Manipulation des échantillons : Équipé d'un porte-échantillon rotatif et d'un obturateur électronique pour une gestion efficace des échantillons.
- Sélection de bateaux motorisés : Capacité à sélectionner et à manipuler les matériaux du bateau avec fonctionnalité motorisée.
- Chauffage du substrat : Chauffage du substrat à 500 °C pour faciliter les processus de dépôt contrôlés.
- Garantie et assurance : Garantie de deux ans sur le système et couverture mondiale par une assurance responsabilité civile et produit pour une protection supplémentaire contre les dommages matériels ou les blessures corporelles causés par les systèmes Vac Coat.
Sources d'évaporation thermique (bateau/panier/bobine) :
Le système de dépôt laser pulsé est adaptable à trois sources d'évaporation thermique indépendantes et résistantes à la chaleur, qui peuvent se présenter sous la forme de bateaux, de paniers ou de bobines. Ces sources sont conçues pour une évaporation efficace des matériaux sans provoquer de transfert de contamination vers d'autres matériaux. La longueur des supports de source est réglable dans une plage de 5 à 10 cm, répondant aux exigences spécifiques du client.
Manipulateur de cible :
Le système PLD comprend un manipulateur multi-cibles équipé pour manipuler trois cibles, chacune d'un diamètre de 2 cm. Les cibles sont de taille standard et tous les manipulateurs de cibles sont motorisés, permettant une rotation et un positionnement précis de la cible pendant le processus de dépôt.
Contrôle intuitif de l'écran tactile avec affichage dynamique :
Le système de dépôt laser pulsé PLD-T est conçu avec un écran tactile couleur convivial de 7 pouces, offrant une interface intuitive pour un contrôle et une surveillance faciles. L'écran tactile permet un contrôle entièrement automatique et une saisie de données sans effort, le rendant accessible même aux utilisateurs ayant une expérience limitée.
Les utilisateurs peuvent facilement observer les niveaux de vide, l’état actuel et les informations de dépôt affichées au format numérique et sous forme de courbes graphiques directement sur l’écran tactile. De plus, le système comprend une page d'historique où les données des 300 derniers revêtements peuvent être enregistrées et examinées à des fins de référence et d'analyse. Cette fonctionnalité améliore l’efficacité et facilite une expérience utilisateur transparente tout au long du processus de revêtement.
Ces spécifications décrivent les composants et caractéristiques clés du système de dépôt laser pulsé et d'évaporateur thermique, mettant en évidence ses capacités en matière de fonctionnement sous vide, d'alimentation électrique, de contrôle du débit de gaz, d'analyse des données et de facilité d'utilisation.
Options et accessoires pour PLD-T :
Sources d'évaporation thermique :
- Disponible en configurations bateau, panier ou bobine pour répondre à différentes exigences de dépôt.
Substrat chauffant :
- Capable de chauffer jusqu'à 500 °C pour faciliter un contrôle précis de la température du substrat pendant le dépôt.
Matériaux des sources d’évaporation :
- Divers matériaux compatibles avec les sources d'évaporation thermique, permettant une large gamme de choix de matériaux pour le dépôt.
Capteurs à cristaux de quartz :
- Indispensable pour la surveillance de l'épaisseur en temps réel avec une haute précision à l'aide de capteurs à cristaux de quartz.
Des joints d'étanchéité:
- Joints conçus pour une étanchéité efficace, garantissant des conditions d'étanchéité à l'air pendant le processus de dépôt.
Ces options et accessoires améliorent la polyvalence et la fonctionnalité du système PLD-T, permettant des processus de dépôt de couches minces sur mesure et efficaces tout en conservant une précision et un contrôle élevés.
Spécifications du système de dépôt laser pulsé et d’évaporateur thermique :
Système de vide:
- Pompe turbomoléculaire à vide poussé pour un fonctionnement efficace sous vide.
- Pompe de support à membrane pour soutenir le système de vide.
Mesure du vide : Manomètre à vide à gamme complète pour mesurer avec précision les niveaux de vide.
Mesure d'épaisseur en temps réel : Système de surveillance à cristal de quartz avec une précision de 1 nm pour une mesure précise.
Alimentation électrique : alimentation à courant élevé de 5 kW pour un fonctionnement efficace.
Contrôle du débit de gaz : Débitmètre massique de précision (MFC) pour un contrôle précis des débits de gaz.
Enregistrement et analyse des données : Capacité d’enregistrer et de tracer des graphiques des paramètres de revêtement pour une analyse détaillée.
Transfert de données : Possibilité de transférer les courbes et les données du processus de dépôt vers un PC via un port USB pour une analyse et une documentation plus approfondies.
Utilités : Besoins en alimentation : 220V-240V, 50/60HZ, 16A.
Dimensions : Dimensions de la boîte : 50 cm H x 60 cm L x 47 cm P.
Poids : Poids d'expédition : 70 kg.
